^VPG+200、^VPG+ 400 和 ^VPG+800 体积图案发生器是功能强大的多功能光刻系统，专为 i-line 光刻胶的多用途掩膜制造而设计。这些系统擅长在从小尺寸到大尺寸的基底上制作高分辨率图案，最大可处理 800 x 800 mm² 的基底。^VPG+系统是先进工业领域广泛应用的理想选择，其设计旨在满足现代微细加工不断发展的需求。

所有 ^VPG+型号都配备了分辨率低至 10 nm 的干涉仪，专为高质量、快速曝光和极其精确的对准而设计。Mura 优化确保了出色的光盘均匀性和分辨率，而闭环环境室则符合先进光掩膜制造的最严格要求，从而确保了始终如一的质量。

提高面膜产量

• 先进封装：确保扇出、内插技术和其他尖端封装工艺中的掩膜生产具有极高的精度和速度。^VPG+系统可提供高性能光罩所需的高分辨率输出。
• 电子制造：将体积图案发生器无缝集成到工作流程中，以创建用于制造 PCB、IC 和其他电子元件的光掩模。
• 微流控与微机电系统：将您的微流体和微机电系统概念变为现实。^VPG+系统能够创建复杂的图案，因此非常适合在这些快速发展的领域进行掩膜生产。
• 智能手机显示器：以卓越的精度和速度生产最先进的智能手机光掩膜。^VPG+系统可提供高质量 LCD、LED 和 OLED 显示屏所需的分辨率和精度。

无与伦比的性能和效率

• 高功率 DPSS 激光器：确保精确的图案形成，从而实现卓越的掩膜质量和更高的设备性能。
• 高速曝光引擎：大大缩短了写入时间，加快了掩膜生产速度，提高了吞吐量，以满足紧迫的交货期要求。
• 自动校准工具：确保书写结构的完美套准和定位，为您节省时间并最大限度地减少生产过程中的错误。
• 闭环环境模拟室：在每个生产周期中保持光罩质量稳定的最佳条件，满足最苛刻的制造标准。
• 宽幅灵活性： ^VPG+800 适用于中大幅面基材，而 ^VPG+200 和 ^VPG+400 则适用于中小幅面。
• 无缝集成：所有 ^VPG+系统均支持工业数据格式，确保与您现有的设计和制造工作流程兼容。
• 结构紧凑：尽管 ^VPG+系统功能强大，但其设计适合空间有限的设施，以紧凑的外形提供无与伦比的效率。

投资微细加工的未来

^VPG+系统为您的微加工需求提供了面向未来的解决方案。无论您是专注于小型、中型还是大型光罩生产，它们都能提供推进工艺所需的灵活性、精确性和速度。

利用 ^VPG+系统，您可以实现以下目标

• 增强掩膜质量和分辨率，实现卓越的设备性能。
• 提高产量，加快掩膜生产速度，缩短产品上市时间。
• 通过高效的运行和可靠的性能降低生产成本。
• 随着业务增长，可扩展性可满足不断变化的掩码制作要求。

让您的掩膜生产更上一层楼。立即联系我们，详细了解我们的行业领先技术如何重新定义您的微细加工工艺。