VPG+1400 FPD

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专为显示应用中大型基板上的光掩膜生产而设计

  • Product Description

  • VPG+1400 FPD 是全球光掩膜制造商用于大批量生产的终极体积图案发生器，具有突破性的效率和卓越的质量。它是我们专为显示器行业设计的最大系统，专为大面积光掩膜（1.4 米）的高产能图案化而量身定制。它是平板显示器 (FPD) 应用的最佳选择，专为处理大幅面基板而设计，是希望在显示行业取得优异成绩的制造商的理想解决方案。

    VPG+ 1400 FPD 专为高质量、快速曝光和极其精确的对准而设计。它配备了一个分辨率低至 1.2 nm 的差分干涉仪。Mura 优化确保了出色的光盘均匀性和分辨率，而闭环环境室则符合先进光掩膜制造的最严格要求。

    加强 FPD 生产

    • 完美无瑕的显示器：VPG+1400 FPD 是用于生产 TFT 阵列、彩色滤光片和氧化铟锡 (ITO) 电极等关键显示器件的高分辨率光掩模的一站式设备。实现下一代显示器所要求的精度和质量。
    • 出色的生产能力：VPG+1400 FPD 出色的生产能力可确保快速生产掩膜，从而满足大批量显示器制造的需求，优化生产线。
    • 最高精度和可靠性：VPG+1400 FPD 具有在大幅面掩膜上制作复杂图案所需的精度和分辨率，可确保您的设计得到完美无瑕的传输。它全天候可靠运行，可预测交货时间。
    • 高级计量：包括计量软件包和工具匹配功能，可在大面积灰调掩模生产中实现精确的第二层对准功能。

    最大限度地提高性能

    • 超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器大大缩短了写入时间，使您能够更快地制作光罩，最大限度地提高产量。
    • VPG+1400 FPD 拥有卓越的亚微米级分辨率和图像质量，可确保将设计图案准确地转移到光罩上，从而实现完美无瑕的显示效果。
    • 自动校准工具可简化您的工作流程，确保书写结构的完美套准和定位，节省您的时间并最大限度地减少错误。
    • 大型精密平台具有灵活的真空布局，可容纳最大 1400 毫米的基板，非常适合处理中型和大型显示器光掩模的需求。
    • 闭环环境室可在整个过程中保持最佳条件，确保一次又一次的光罩质量一致性。
    • VPG+1400 FPD 支持所有工业数据格式，可与现有的设计和制造工作流程顺利整合。

    投资未来的显示技术

    VPG+1400 FPD 是对未来显示生产能力的投资。通过在生产中使用它，您可以实现以下目标

    • 出色的光罩质量，实现完美的显示性能。
    • 吞吐量大，可用于大批量显示器生产并提高盈利能力。
    • 以非常经济的工具价格降低生产成本。
    • 工具操作高效，性能可靠。
    • 面向未来的技术，可满足下一代显示器的需求。

    为您的显示屏制造提供高性价比的工具。请联系我们，了解 VPG+1400 如何加速您的光掩膜生产。

    VPG+1400 FPD 是全球光掩膜制造商用于大批量生产的终极体积图案发生器，具有突破性的效率和卓越的质量。它是我们专为显示器行业设计的最大系统，专为大面积光掩膜（1.4 米）的高产能图案化而量身定制。它是平板显示器 (FPD) 应用的最佳选择，专为处理大幅面基板而设计，是希望在显示行业取得优异成绩的制造商的理想解决方案。

    VPG+ 1400 FPD 专为高质量、快速曝光和极其精确的对准而设计。它配备了一个分辨率低至 1.2 nm 的差分干涉仪。Mura 优化确保了出色的光盘均匀性和分辨率，而闭环环境室则符合先进光掩膜制造的最严格要求。

    加强 FPD 生产

    • 完美无瑕的显示器：VPG+1400 FPD 是用于生产 TFT 阵列、彩色滤光片和氧化铟锡 (ITO) 电极等关键显示器件的高分辨率光掩模的一站式设备。实现下一代显示器所要求的精度和质量。
    • 出色的生产能力：VPG+1400 FPD 出色的生产能力可确保快速生产掩膜，从而满足大批量显示器制造的需求，优化生产线。
    • 最高精度和可靠性：VPG+1400 FPD 具有在大幅面掩膜上制作复杂图案所需的精度和分辨率，可确保您的设计得到完美无瑕的传输。它全天候可靠运行，可预测交货时间。
    • 高级计量：包括计量软件包和工具匹配功能，可在大面积灰调掩模生产中实现精确的第二层对准功能。

    最大限度地提高性能

    • 超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器大大缩短了写入时间，使您能够更快地制作光罩，最大限度地提高产量。
    • VPG+1400 FPD 拥有卓越的亚微米级分辨率和图像质量，可确保将设计图案准确地转移到光罩上，从而实现完美无瑕的显示效果。
    • 自动校准工具可简化您的工作流程，确保书写结构的完美套准和定位，节省您的时间并最大限度地减少错误。
    • 大型精密平台具有灵活的真空布局，可容纳最大 1400 毫米的基板，非常适合处理中型和大型显示器光掩模的需求。
    • 闭环环境室可在整个过程中保持最佳条件，确保一次又一次的光罩质量一致性。
    • VPG+1400 FPD 支持所有工业数据格式，可与现有的设计和制造工作流程顺利整合。

    投资未来的显示技术

    VPG+1400 FPD 是对未来显示生产能力的投资。通过在生产中使用它，您可以实现以下目标

    • 出色的光罩质量，实现完美的显示性能。
    • 吞吐量大，可用于大批量显示器生产并提高盈利能力。
    • 以非常经济的工具价格降低生产成本。
    • 工具操作高效，性能可靠。
    • 面向未来的技术，可满足下一代显示器的需求。

    为您的显示屏制造提供高性价比的工具。请联系我们，了解 VPG+1400 如何加速您的光掩膜生产。

  • Product Highlights

  • 曝光质量

    边缘粗糙度 20 nm；局部 CD 均匀度 50 nm；地址网格 8 nm；穆拉校正，边缘检测。

    写作的稳定性

    高度稳定的气候箱、实时气候补偿和软件校正，可应对任何环境变化。

    自动对齐

    计量软件包，具有自动全局和逐场校准功能，并可进行失真校正。先进的二维校正矩阵，用于平台位置校准和工具匹配。

    可扩展性

    从中小型到 G8 显示光罩，各种尺寸均可轻松扩展。

    穆拉控制站

    间距和面板间距优化

  • Available Modules

  • 光掩膜处理

    半自动基板装载。

    定制

    可根据要求处理特殊基材、装载机或掩膜。

VPG+1400 FPD 是全球光掩膜制造商用于大批量生产的终极体积图案发生器，具有突破性的效率和卓越的质量。它是我们专为显示器行业设计的最大系统，专为大面积光掩膜（1.4 米）的高产能图案化而量身定制。它是平板显示器 (FPD) 应用的最佳选择，专为处理大幅面基板而设计，是希望在显示行业取得优异成绩的制造商的理想解决方案。

VPG+ 1400 FPD 专为高质量、快速曝光和极其精确的对准而设计。它配备了一个分辨率低至 1.2 nm 的差分干涉仪。Mura 优化确保了出色的光盘均匀性和分辨率，而闭环环境室则符合先进光掩膜制造的最严格要求。

加强 FPD 生产

  • 完美无瑕的显示器：VPG+1400 FPD 是用于生产 TFT 阵列、彩色滤光片和氧化铟锡 (ITO) 电极等关键显示器件的高分辨率光掩模的一站式设备。实现下一代显示器所要求的精度和质量。
  • 出色的生产能力：VPG+1400 FPD 出色的生产能力可确保快速生产掩膜，从而满足大批量显示器制造的需求，优化生产线。
  • 最高精度和可靠性：VPG+1400 FPD 具有在大幅面掩膜上制作复杂图案所需的精度和分辨率，可确保您的设计得到完美无瑕的传输。它全天候可靠运行，可预测交货时间。
  • 高级计量：包括计量软件包和工具匹配功能，可在大面积灰调掩模生产中实现精确的第二层对准功能。

最大限度地提高性能

  • 超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器大大缩短了写入时间，使您能够更快地制作光罩，最大限度地提高产量。
  • VPG+1400 FPD 拥有卓越的亚微米级分辨率和图像质量，可确保将设计图案准确地转移到光罩上，从而实现完美无瑕的显示效果。
  • 自动校准工具可简化您的工作流程，确保书写结构的完美套准和定位，节省您的时间并最大限度地减少错误。
  • 大型精密平台具有灵活的真空布局，可容纳最大 1400 毫米的基板，非常适合处理中型和大型显示器光掩模的需求。
  • 闭环环境室可在整个过程中保持最佳条件，确保一次又一次的光罩质量一致性。
  • VPG+1400 FPD 支持所有工业数据格式，可与现有的设计和制造工作流程顺利整合。

投资未来的显示技术

VPG+1400 FPD 是对未来显示生产能力的投资。通过在生产中使用它，您可以实现以下目标

  • 出色的光罩质量，实现完美的显示性能。
  • 吞吐量大，可用于大批量显示器生产并提高盈利能力。
  • 以非常经济的工具价格降低生产成本。
  • 工具操作高效，性能可靠。
  • 面向未来的技术，可满足下一代显示器的需求。

为您的显示屏制造提供高性价比的工具。请联系我们，了解 VPG+1400 如何加速您的光掩膜生产。

VPG+1400 FPD 是全球光掩膜制造商用于大批量生产的终极体积图案发生器，具有突破性的效率和卓越的质量。它是我们专为显示器行业设计的最大系统，专为大面积光掩膜（1.4 米）的高产能图案化而量身定制。它是平板显示器 (FPD) 应用的最佳选择，专为处理大幅面基板而设计，是希望在显示行业取得优异成绩的制造商的理想解决方案。

VPG+ 1400 FPD 专为高质量、快速曝光和极其精确的对准而设计。它配备了一个分辨率低至 1.2 nm 的差分干涉仪。Mura 优化确保了出色的光盘均匀性和分辨率，而闭环环境室则符合先进光掩膜制造的最严格要求。

加强 FPD 生产

  • 完美无瑕的显示器：VPG+1400 FPD 是用于生产 TFT 阵列、彩色滤光片和氧化铟锡 (ITO) 电极等关键显示器件的高分辨率光掩模的一站式设备。实现下一代显示器所要求的精度和质量。
  • 出色的生产能力：VPG+1400 FPD 出色的生产能力可确保快速生产掩膜，从而满足大批量显示器制造的需求，优化生产线。
  • 最高精度和可靠性：VPG+1400 FPD 具有在大幅面掩膜上制作复杂图案所需的精度和分辨率，可确保您的设计得到完美无瑕的传输。它全天候可靠运行，可预测交货时间。
  • 高级计量：包括计量软件包和工具匹配功能，可在大面积灰调掩模生产中实现精确的第二层对准功能。

最大限度地提高性能

  • 超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器大大缩短了写入时间，使您能够更快地制作光罩，最大限度地提高产量。
  • VPG+1400 FPD 拥有卓越的亚微米级分辨率和图像质量，可确保将设计图案准确地转移到光罩上，从而实现完美无瑕的显示效果。
  • 自动校准工具可简化您的工作流程，确保书写结构的完美套准和定位，节省您的时间并最大限度地减少错误。
  • 大型精密平台具有灵活的真空布局，可容纳最大 1400 毫米的基板，非常适合处理中型和大型显示器光掩模的需求。
  • 闭环环境室可在整个过程中保持最佳条件，确保一次又一次的光罩质量一致性。
  • VPG+1400 FPD 支持所有工业数据格式，可与现有的设计和制造工作流程顺利整合。

投资未来的显示技术

VPG+1400 FPD 是对未来显示生产能力的投资。通过在生产中使用它，您可以实现以下目标

  • 出色的光罩质量，实现完美的显示性能。
  • 吞吐量大，可用于大批量显示器生产并提高盈利能力。
  • 以非常经济的工具价格降低生产成本。
  • 工具操作高效，性能可靠。
  • 面向未来的技术，可满足下一代显示器的需求。

为您的显示屏制造提供高性价比的工具。请联系我们，了解 VPG+1400 如何加速您的光掩膜生产。

曝光质量

边缘粗糙度 20 nm；局部 CD 均匀度 50 nm；地址网格 8 nm；穆拉校正，边缘检测。

写作的稳定性

高度稳定的气候箱、实时气候补偿和软件校正，可应对任何环境变化。

自动对齐

计量软件包，具有自动全局和逐场校准功能，并可进行失真校正。先进的二维校正矩阵，用于平台位置校准和工具匹配。

可扩展性

从中小型到 G8 显示光罩，各种尺寸均可轻松扩展。

穆拉控制站

间距和面板间距优化

光掩膜处理

半自动基板装载。

定制

可根据要求处理特殊基材、装载机或掩膜。

Customer applications

Since 2007, VPG systems and their successors, the VPG+ systems, have proved to be the ideal solution for the high-volume production of demanding photomasks — especially for electronic packaging, color filters, light-emitting diodes, and touch panels. As a master template for photolithographic manufacturing, such photomasks have to fulfill the highest requirements for line width uniformity, pattern position accuracy, edge roughness, and minimum feature size.
Since 2007, VPG systems and their successors, the VPG+ systems, have proved to be the ideal solution for the high-volume production of demanding photomasks — especially for electronic packaging, color filters, light-emitting diodes, and touch panels. As a master template for photolithographic manufacturing, such photomasks have to fulfill the highest requirements for line width uniformity, pattern position accuracy, edge roughness, and minimum feature size.
The VPG+ series can be used for all display-related applications. In this field, the quality requirements on photomasks are exceptional. One key specification is the so-called Mura condition, describing 'unevenness' as a result of any disturbance in a regular periodic pattern. If the Mura condition fails to meet the requirements, the final display might have dark spots or patches. The V series of Maskless Lithography Systems offers a special Mura optimization function for good Mura condition, excellent CD uniformity, and resolution.
The VPG+ series can be used for all display-related applications. In this field, the quality requirements on photomasks are exceptional. One key specification is the so-called Mura condition, describing 'unevenness' as a result of any disturbance in a regular periodic pattern. If the Mura condition fails to meet the requirements, the final display might have dark spots or patches. The V series of Maskless Lithography Systems offers a special Mura optimization function for good Mura condition, excellent CD uniformity, and resolution.
Display application test pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application test pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.

Why customers choose our systems

"VPG使我们能够实现尺寸小至1微米的铜线和芯片到芯片互连，这比使用传统光罩对准器工艺的特征尺寸小三倍"。

Markus Wöhrmann
用于晶圆级封装的光刻和薄膜聚合物组组长
德国柏林弗劳恩霍夫微集成与可靠性研究所

"在 TNO @ Holst 中心，海德堡仪器公司的 VPG 在我们的研发工作中发挥了重要作用，它提供了快速循环设计迭代以及开发和优化这些设计的制造工艺流程的能力"。

Auke Jisk Kronemeijer，研究经理，薄膜电子
TNO @ Holst Centre
Eindhoven，荷兰

Technical Data

写入模式QXFX
写作表现高质量高吞吐量
最小结构尺寸 [μm]0.81
地址网格 [nm]88
边缘粗糙度 [3σ，纳米］2040
光密度均匀性[3σ，纳米］5070
板对板叠加 [3σ, nm]250250
缝合[3σ, nm]4050
登记 [3σ, nm]100100
写入速度 [mm²/min］13752750
系统功能
光源波长为 355 nm 的高功率 DPSS 激光器
最大基板尺寸1400 x 1400 平方毫米
基底厚度0 至 13.2 毫米
最大曝光面积1400 x 1400 平方毫米
自动对焦实时自动对焦系统（光学和气动）
自动对焦补偿范围150 微米
自动化半自动装载系统
流箱闭环温控环境室
对齐 用于计量和校准的摄像系统
其他功能和选项平台地图校正、Mura 和面板间距优化、边缘检测器系统、多种数据输入格式（DXF、CIF、GDSII 和 Gerber 文件）
系统尺寸
主机（门关闭，装载机伸出）
宽度[毫米］5370
深度[毫米］7000
高度[毫米］2800
重量[千克］25000
安装要求
电气400 VAC ± 5 %，50/60 Hz，32 A
压缩空气8 - 10 巴

请注意
规格取决于个别流程条件，并可能因设备配置而异。写入速度取决于像素大小和写入模式。 设计和规格如有变更，恕不另行通知。

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