VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD 三维图案生成器

专为显示应用中大型基板上的光掩膜生产而设计

  • 产品说明

  • VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 是全球光掩膜制造商用于大批量生产的终极体积图案发生器,具有突破性的效率和卓越的质量。它们是我们专为显示器行业设计的最大系统,专为大面积光掩膜的高通量图案化而量身定制,最大尺寸可达 G8.6,最大曝光面积为 1400 x 1800 mm²。它们是希望在平板显示器行业取得卓越成就的制造商的最佳解决方案。

    VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 专为高质量、快速曝光和极其精确的对准而设计。它们配备了分辨率低至 1.2 nm 的差分干涉仪。Mura 优化确保了出色的光盘均匀性和分辨率,而闭环环境室则符合先进光掩膜制造的最严格要求。

    加强 FPD 生产

    • 完美无瑕的显示器:VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 经过优化,可用于制作高分辨率光掩膜(包括半色调掩膜),这些掩膜用于生产平板显示器 (FPD) 的关键部件,如彩色滤光片 (CF)、薄膜晶体管 (TFT) 阵列、触摸屏 (TP)、精细金属掩膜 (FFM)、有源矩阵有机发光二极管 (ITO)、铟锡氧化物 (ITO) 电极、触控面板 (TP)、精细金属掩膜 (FFM)、有源矩阵有机发光二极管 (AMOLED) 或其他液晶显示器 (LCD) 和有机发光二极管 (OLED) 相关层。
    • 出色的生产能力:VPG+ 1400 / 1850 FPD 出色的生产能力可确保快速生产掩膜,从而满足大批量显示器制造的需求,优化生产线。
    • 最高精度和可靠性:VPG+ 1400 / 1850 FPD 具有在大幅面光罩上制作复杂图案所需的精度和分辨率,可确保您的设计得到完美无瑕的传输。它们全天候可靠运行,交付时间可预测。
    • 高级计量:包括计量软件包和工具匹配功能,可在大面积灰调掩模生产中实现精确的第二层对准功能。

    最大限度地提高性能

    • 超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器大大缩短了写入时间,使您能够更快地制作光罩,最大限度地提高产量。
    • VPG+系统拥有卓越的亚微米级分辨率和图像质量,可确保将设计图案准确地转移到光罩上,从而实现完美无瑕的显示效果。
    • 自动校准工具可简化工作流程,确保书写结构的完美套准和定位,从而节省时间并最大限度地减少错误。
    • 大型精密平台具有灵活的真空布局,可容纳长达 1850 毫米的基板,非常适合处理中型和大型显示器光掩模的需求。
    • 闭环环境室可在整个过程中保持最佳条件,确保一次又一次的光罩质量一致性。
    • VPG+ 1400 / 1850 FPD 支持所有工业数据格式,可与现有的设计和制造工作流程顺利整合。

    投资未来的显示技术

    VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 是对未来显示生产能力的投资。通过在生产中采用它们,您可以实现以下目标

    • 出色的光罩质量,实现完美的显示性能。
    • 吞吐量大,可用于大批量显示器生产并提高盈利能力。
    • 以非常经济的工具价格降低生产成本。
    • 工具操作高效,性能可靠。
    • 面向未来的技术,可满足下一代显示器的需求。

    为您的显示屏制造提供高性价比的工具。联系我们,了解 VPG+系统如何加速您的光掩膜生产。

    VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 是全球光掩膜制造商用于大批量生产的终极体积图案发生器,具有突破性的效率和卓越的质量。它们是我们专为显示器行业设计的最大系统,专为大面积光掩膜的高通量图案化而量身定制,最大尺寸可达 G8.6,最大曝光面积为 1400 x 1800 mm²。它们是希望在平板显示器行业取得卓越成就的制造商的最佳解决方案。

    VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 专为高质量、快速曝光和极其精确的对准而设计。它们配备了分辨率低至 1.2 nm 的差分干涉仪。Mura 优化确保了出色的光盘均匀性和分辨率,而闭环环境室则符合先进光掩膜制造的最严格要求。

    加强 FPD 生产

    • 完美无瑕的显示器:VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 经过优化,可用于制作高分辨率光掩膜(包括半色调掩膜),这些掩膜用于生产平板显示器 (FPD) 的关键部件,如彩色滤光片 (CF)、薄膜晶体管 (TFT) 阵列、触摸屏 (TP)、精细金属掩膜 (FFM)、有源矩阵有机发光二极管 (ITO)、铟锡氧化物 (ITO) 电极、触控面板 (TP)、精细金属掩膜 (FFM)、有源矩阵有机发光二极管 (AMOLED) 或其他液晶显示器 (LCD) 和有机发光二极管 (OLED) 相关层。
    • 出色的生产能力:VPG+ 1400 / 1850 FPD 出色的生产能力可确保快速生产掩膜,从而满足大批量显示器制造的需求,优化生产线。
    • 最高精度和可靠性:VPG+ 1400 / 1850 FPD 具有在大幅面光罩上制作复杂图案所需的精度和分辨率,可确保您的设计得到完美无瑕的传输。它们全天候可靠运行,交付时间可预测。
    • 高级计量:包括计量软件包和工具匹配功能,可在大面积灰调掩模生产中实现精确的第二层对准功能。

    最大限度地提高性能

    • 超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器大大缩短了写入时间,使您能够更快地制作光罩,最大限度地提高产量。
    • VPG+系统拥有卓越的亚微米级分辨率和图像质量,可确保将设计图案准确地转移到光罩上,从而实现完美无瑕的显示效果。
    • 自动校准工具可简化工作流程,确保书写结构的完美套准和定位,从而节省时间并最大限度地减少错误。
    • 大型精密平台具有灵活的真空布局,可容纳长达 1850 毫米的基板,非常适合处理中型和大型显示器光掩模的需求。
    • 闭环环境室可在整个过程中保持最佳条件,确保一次又一次的光罩质量一致性。
    • VPG+ 1400 / 1850 FPD 支持所有工业数据格式,可与现有的设计和制造工作流程顺利整合。

    投资未来的显示技术

    VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 是对未来显示生产能力的投资。通过在生产中采用它们,您可以实现以下目标

    • 出色的光罩质量,实现完美的显示性能。
    • 吞吐量大,可用于大批量显示器生产并提高盈利能力。
    • 以非常经济的工具价格降低生产成本。
    • 工具操作高效,性能可靠。
    • 面向未来的技术,可满足下一代显示器的需求。

    为您的显示屏制造提供高性价比的工具。联系我们,了解 VPG+系统如何加速您的光掩膜生产。

  • 产品亮点

  • 曝光质量

    边缘粗糙度 20 nm;局部 CD 均匀度 50 nm;地址网格 8 nm;穆拉校正;边缘检测。

    写作的稳定性

    高度稳定的气候箱、实时气候补偿和软件校正,可应对任何环境变化。

    自动对齐

    计量软件包,具有自动全局和逐场校准功能,并可进行畸变校正。先进的二维校正矩阵,用于平台位置校准和刀具匹配。

    可扩展性

    可轻松扩展到各种尺寸,从中小型到 G8.6 显示光罩。

    穆拉控制站

    间距和面板间距优化
  • 可用模块

  • 光掩膜处理

    半自动基板装载。

    定制

    可根据要求处理特殊基材、装载机或掩膜。

VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 是全球光掩膜制造商用于大批量生产的终极体积图案发生器,具有突破性的效率和卓越的质量。它们是我们专为显示器行业设计的最大系统,专为大面积光掩膜的高通量图案化而量身定制,最大尺寸可达 G8.6,最大曝光面积为 1400 x 1800 mm²。它们是希望在平板显示器行业取得卓越成就的制造商的最佳解决方案。

VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 专为高质量、快速曝光和极其精确的对准而设计。它们配备了分辨率低至 1.2 nm 的差分干涉仪。Mura 优化确保了出色的光盘均匀性和分辨率,而闭环环境室则符合先进光掩膜制造的最严格要求。

加强 FPD 生产

  • 完美无瑕的显示器:VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 经过优化,可用于制作高分辨率光掩膜(包括半色调掩膜),这些掩膜用于生产平板显示器 (FPD) 的关键部件,如彩色滤光片 (CF)、薄膜晶体管 (TFT) 阵列、触摸屏 (TP)、精细金属掩膜 (FFM)、有源矩阵有机发光二极管 (ITO)、铟锡氧化物 (ITO) 电极、触控面板 (TP)、精细金属掩膜 (FFM)、有源矩阵有机发光二极管 (AMOLED) 或其他液晶显示器 (LCD) 和有机发光二极管 (OLED) 相关层。
  • 出色的生产能力:VPG+ 1400 / 1850 FPD 出色的生产能力可确保快速生产掩膜,从而满足大批量显示器制造的需求,优化生产线。
  • 最高精度和可靠性:VPG+ 1400 / 1850 FPD 具有在大幅面光罩上制作复杂图案所需的精度和分辨率,可确保您的设计得到完美无瑕的传输。它们全天候可靠运行,交付时间可预测。
  • 高级计量:包括计量软件包和工具匹配功能,可在大面积灰调掩模生产中实现精确的第二层对准功能。

最大限度地提高性能

  • 超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器大大缩短了写入时间,使您能够更快地制作光罩,最大限度地提高产量。
  • VPG+系统拥有卓越的亚微米级分辨率和图像质量,可确保将设计图案准确地转移到光罩上,从而实现完美无瑕的显示效果。
  • 自动校准工具可简化工作流程,确保书写结构的完美套准和定位,从而节省时间并最大限度地减少错误。
  • 大型精密平台具有灵活的真空布局,可容纳长达 1850 毫米的基板,非常适合处理中型和大型显示器光掩模的需求。
  • 闭环环境室可在整个过程中保持最佳条件,确保一次又一次的光罩质量一致性。
  • VPG+ 1400 / 1850 FPD 支持所有工业数据格式,可与现有的设计和制造工作流程顺利整合。

投资未来的显示技术

VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 是对未来显示生产能力的投资。通过在生产中采用它们,您可以实现以下目标

  • 出色的光罩质量,实现完美的显示性能。
  • 吞吐量大,可用于大批量显示器生产并提高盈利能力。
  • 以非常经济的工具价格降低生产成本。
  • 工具操作高效,性能可靠。
  • 面向未来的技术,可满足下一代显示器的需求。

为您的显示屏制造提供高性价比的工具。联系我们,了解 VPG+系统如何加速您的光掩膜生产。

VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 是全球光掩膜制造商用于大批量生产的终极体积图案发生器,具有突破性的效率和卓越的质量。它们是我们专为显示器行业设计的最大系统,专为大面积光掩膜的高通量图案化而量身定制,最大尺寸可达 G8.6,最大曝光面积为 1400 x 1800 mm²。它们是希望在平板显示器行业取得卓越成就的制造商的最佳解决方案。

VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 专为高质量、快速曝光和极其精确的对准而设计。它们配备了分辨率低至 1.2 nm 的差分干涉仪。Mura 优化确保了出色的光盘均匀性和分辨率,而闭环环境室则符合先进光掩膜制造的最严格要求。

加强 FPD 生产

  • 完美无瑕的显示器:VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 经过优化,可用于制作高分辨率光掩膜(包括半色调掩膜),这些掩膜用于生产平板显示器 (FPD) 的关键部件,如彩色滤光片 (CF)、薄膜晶体管 (TFT) 阵列、触摸屏 (TP)、精细金属掩膜 (FFM)、有源矩阵有机发光二极管 (ITO)、铟锡氧化物 (ITO) 电极、触控面板 (TP)、精细金属掩膜 (FFM)、有源矩阵有机发光二极管 (AMOLED) 或其他液晶显示器 (LCD) 和有机发光二极管 (OLED) 相关层。
  • 出色的生产能力:VPG+ 1400 / 1850 FPD 出色的生产能力可确保快速生产掩膜,从而满足大批量显示器制造的需求,优化生产线。
  • 最高精度和可靠性:VPG+ 1400 / 1850 FPD 具有在大幅面光罩上制作复杂图案所需的精度和分辨率,可确保您的设计得到完美无瑕的传输。它们全天候可靠运行,交付时间可预测。
  • 高级计量:包括计量软件包和工具匹配功能,可在大面积灰调掩模生产中实现精确的第二层对准功能。

最大限度地提高性能

  • 超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器大大缩短了写入时间,使您能够更快地制作光罩,最大限度地提高产量。
  • VPG+系统拥有卓越的亚微米级分辨率和图像质量,可确保将设计图案准确地转移到光罩上,从而实现完美无瑕的显示效果。
  • 自动校准工具可简化工作流程,确保书写结构的完美套准和定位,从而节省时间并最大限度地减少错误。
  • 大型精密平台具有灵活的真空布局,可容纳长达 1850 毫米的基板,非常适合处理中型和大型显示器光掩模的需求。
  • 闭环环境室可在整个过程中保持最佳条件,确保一次又一次的光罩质量一致性。
  • VPG+ 1400 / 1850 FPD 支持所有工业数据格式,可与现有的设计和制造工作流程顺利整合。

投资未来的显示技术

VPG+ 1400 FPD 和 VPG+ 1850 FPD 是对未来显示生产能力的投资。通过在生产中采用它们,您可以实现以下目标

  • 出色的光罩质量,实现完美的显示性能。
  • 吞吐量大,可用于大批量显示器生产并提高盈利能力。
  • 以非常经济的工具价格降低生产成本。
  • 工具操作高效,性能可靠。
  • 面向未来的技术,可满足下一代显示器的需求。

为您的显示屏制造提供高性价比的工具。联系我们,了解 VPG+系统如何加速您的光掩膜生产。

曝光质量

边缘粗糙度 20 nm;局部 CD 均匀度 50 nm;地址网格 8 nm;穆拉校正;边缘检测。

写作的稳定性

高度稳定的气候箱、实时气候补偿和软件校正,可应对任何环境变化。

自动对齐

计量软件包,具有自动全局和逐场校准功能,并可进行畸变校正。先进的二维校正矩阵,用于平台位置校准和刀具匹配。

可扩展性

可轻松扩展到各种尺寸,从中小型到 G8.6 显示光罩。

穆拉控制站

间距和面板间距优化

光掩膜处理

半自动基板装载。

定制

可根据要求处理特殊基材、装载机或掩膜。

客户应用

客户为何选择我们的系统

"VPG使我们能够实现尺寸小至1微米的铜线和芯片到芯片互连,这比使用传统光罩对准器工艺的特征尺寸小三倍"。

Markus Wöhrmann
用于晶圆级封装的光刻和薄膜聚合物组组长
德国柏林弗劳恩霍夫微集成与可靠性研究所

"在 TNO @ Holst 中心,Heidelberg Instruments VPG 提供了快速循环设计迭代以及开发和优化这些设计的制造工艺流程的能力,在我们的研发工作中发挥了重要作用"。

Auke Jisk Kronemeijer,研究经理,薄膜电子
TNO @ Holst Centre
Eindhoven,荷兰

技术数据

写入模式QXFX
写作表现高质量高吞吐量
最小结构尺寸 [μm]0.81
地址网格 [nm]88
边缘粗糙度 [3σ,纳米]2040
全局光密度均匀性[3σ,纳米]70
局部光密度均匀性[3σ,纳米]5070
板对板叠加 (G8) [3σ, nm]250
缝合[3σ, nm]4050
第 2 层对齐(1000 x 1000 mm²)[平均值+3σ nm]400
写入速度 [mm²/min]14502900
系统功能
光源波长为 355 nm 的高功率 DPSS 激光器
最大基板尺寸1400 x 1500 mm² (VPG+ 1400 FPD) / 1400 x 1850 mm² (VPG+ 1850 FPD)
基底厚度0 至 15 毫米
最大曝光面积1400 x 1400 mm² (VPG+ 1400 FPD) / 1400 x 1800 mm² (VPG+ 1850 FPD)
自动对焦实时自动对焦系统(光学和气动)
自动对焦补偿范围250 微米
自动化半自动装载系统
流箱闭环温控环境室
对齐 用于计量和校准的摄像系统
其他功能用于平台位置校准、Mura 和面板 间距优化的矩阵校正软件,边缘检测器系统,多种数据输入格式 (DXF、CIF、GDSII 和 Gerber 文件)
系统尺寸
主机(门关闭,装载机伸出)
宽度[毫米]5370
深度[毫米]7000
高度[毫米]2800
重量[千克]25000
安装要求
电气400 VAC ± 5 %,50/60 Hz,32 A
压缩空气8 - 10 巴

请注意
规格取决于个别流程条件,并可能因设备配置而异。写入速度取决于像素大小和写入模式。 设计和规格如有变更,恕不另行通知。

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