NanoFrazor 纳米制造系统

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多功能模块化纳米光刻工具

  • 产品说明

  • NanoFrazor 是一款开创性的商业化热扫描探针光刻（t-SPL）系统，旨在推动各类应用领域中的前沿研究与创新。无论是探索量子器件、一维/二维材料、量子点、约瑟夫森结，还是纳米尺度器件阵列，NanoFrazor 都能提供无与伦比的精度与多功能性。其能力还可扩展至更复杂的挑战，包括灰度光子学、纳米流体结构、用于细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动的化学反应或物理相变实现的局部材料改性。

    主要功能

    • 高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一种超锋利且可加热的探针尖端，可实现复杂纳米结构的同步写入与检测。通过闭环光刻（CLL）功能实现自校正图案化。这一创新设计为构建精细复杂的图案与结构提供了无与伦比的精度。
    • 直接激光升华（DLS）模块：DLS 模块通过在同一抗蚀剂层中以单一步骤高效写入纳米和微米结构，简化了制备过程。这一集成设计优化了工作流程并提升了生产效率。
    • 带无标记套刻的原位成像：NanoFrazor 的原位成像技术实现了无标记套刻以及已写入图案与目标图案的实时对比。这一独特的闭环光刻（CLL）功能可确保优于 2 nm 的垂直精度，用于构建复杂的 2.5D（灰度）结构，并允许在写入过程中即时调整参数。
    • 十探针并行写入：Decapede 功能支持使用 10 个可加热探针进行并行写入，在保持 NanoFrazor 著名精度的同时显著提高通量。该功能非常适合大面积图案化及对时间敏感的应用。
    • 模块化与可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许广泛定制，以满足特定研究需求和实验室环境。图案化模式、机壳选项及软件模块均可灵活调整，实现最大化的功能性与灵活性。随着研究的发展，NanoFrazor 可通过添加额外模块进行升级，确保长期适应性。
    • 全面工艺支持：凭借 IBM Research Zürich 和 Heidelberg Instruments Nano 超过 20 年的研发经验，NanoFrazor 用户社区持续受益于硬件与软件的不断进步。用户可获取涵盖刻蚀、剥离等图案转移工艺的完整最佳实践与操作规范库，从而确保各类应用的最佳效果。

    应用

    • 量子设备：为量子计算和先进电子应用创建精确的纳米结构。
    • 一维/二维材料：在石墨烯、过渡金属二硫化物及其他二维材料上进行纳米结构的图案化与改性。
    • 光子学：在光学系统中实现灰度结构（如正弦波光栅和相位板）优于 2 nm 的垂直精度。
    • 生物技术：开发用于细胞生长的仿生基底，并构建用于生物与化学分析的纳米流体结构。
    • 局部材料改性：通过局部热驱动实现化学反应和相变等工艺，为材料科学的创新研究提供支持。

    NanoFrazor 通过将先进的热扫描探针光刻技术普及给全球研究人员和技术专家，彻底革新了纳米制造。其尖端功能、模块化设计及广泛的应用范围，使其成为前沿研究与技术创新不可或缺的工具。

    欲深入了解 NanoFrazor，请访问我们的专属网站 nanofrazor.com。配置您的系统，探索 NanoFrazor 如何将您的研究提升到全新高度。

    NanoFrazor 是一款开创性的商业化热扫描探针光刻（t-SPL）系统，旨在推动各类应用领域中的前沿研究与创新。无论是探索量子器件、一维/二维材料、量子点、约瑟夫森结，还是纳米尺度器件阵列，NanoFrazor 都能提供无与伦比的精度与多功能性。其能力还可扩展至更复杂的挑战，包括灰度光子学、纳米流体结构、用于细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动的化学反应或物理相变实现的局部材料改性。

    主要功能

    • 高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一种超锋利且可加热的探针尖端，可实现复杂纳米结构的同步写入与检测。通过闭环光刻（CLL）功能实现自校正图案化。这一创新设计为构建精细复杂的图案与结构提供了无与伦比的精度。
    • 直接激光升华（DLS）模块：DLS 模块通过在同一抗蚀剂层中以单一步骤高效写入纳米和微米结构，简化了制备过程。这一集成设计优化了工作流程并提升了生产效率。
    • 带无标记套刻的原位成像：NanoFrazor 的原位成像技术实现了无标记套刻以及已写入图案与目标图案的实时对比。这一独特的闭环光刻（CLL）功能可确保优于 2 nm 的垂直精度，用于构建复杂的 2.5D（灰度）结构，并允许在写入过程中即时调整参数。
    • 十探针并行写入：Decapede 功能支持使用 10 个可加热探针进行并行写入，在保持 NanoFrazor 著名精度的同时显著提高通量。该功能非常适合大面积图案化及对时间敏感的应用。
    • 模块化与可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许广泛定制，以满足特定研究需求和实验室环境。图案化模式、机壳选项及软件模块均可灵活调整，实现最大化的功能性与灵活性。随着研究的发展，NanoFrazor 可通过添加额外模块进行升级，确保长期适应性。
    • 全面工艺支持：凭借 IBM Research Zürich 和 Heidelberg Instruments Nano 超过 20 年的研发经验，NanoFrazor 用户社区持续受益于硬件与软件的不断进步。用户可获取涵盖刻蚀、剥离等图案转移工艺的完整最佳实践与操作规范库，从而确保各类应用的最佳效果。

    应用

    • 量子设备：为量子计算和先进电子应用创建精确的纳米结构。
    • 一维/二维材料：在石墨烯、过渡金属二硫化物及其他二维材料上进行纳米结构的图案化与改性。
    • 光子学：在光学系统中实现灰度结构（如正弦波光栅和相位板）优于 2 nm 的垂直精度。
    • 生物技术：开发用于细胞生长的仿生基底，并构建用于生物与化学分析的纳米流体结构。
    • 局部材料改性：通过局部热驱动实现化学反应和相变等工艺，为材料科学的创新研究提供支持。

    NanoFrazor 通过将先进的热扫描探针光刻技术普及给全球研究人员和技术专家，彻底革新了纳米制造。其尖端功能、模块化设计及广泛的应用范围，使其成为前沿研究与技术创新不可或缺的工具。

    欲深入了解 NanoFrazor，请访问我们的专属网站 nanofrazor.com。配置您的系统，探索 NanoFrazor 如何将您的研究提升到全新高度。

  • 产品亮点

  • 热扫描探针光刻

    纳米图案化的新方法可实现其他方法无法实现的应用

    高分辨率

    即使几何形状复杂，也能轻松绘制纳米结构图案；最小横向特征 15 纳米，垂直分辨率 2 纳米

    无损光刻

    无带电粒子损伤，无邻近效应，剥离清洁

    兼容性

    兼容所有标准图案转移方法：剥离、刻蚀等 —— 我们的“工艺手册”提供知识资源与最佳实践指南

    独特热悬臂探针

    集成式微加热器和距离传感器，易于更换，成本效益高

    精确的叠加和缝合

    指定无标记叠加和缝合精度为 25 nm，显示的叠加精度低于 10 nm

    原位成像

    图案结构特性的实时可视化

    低拥有成本

    无需洁净室、真空泵或昂贵的耗材

    脚本

    轻松实现定制操作的自动化

  • 可用模块

  • 激光升华模块

    在同一曝光步骤中对粗糙结构进行高通量曝光；405 nm 波长的 CW 光纤激光器

    Decapede

    十探针并行写入

    独立机壳

    三层声学隔离，优异振动隔离｜PC 控制的温湿度监测与气流调节｜（尺寸 185 cm × 78 cm × 128 cm / 重量 650 kg）

    全手套箱集成

    可在手套箱中集成，实现受控环境下的纳米光刻

    灰度软件模块

    垂直分辨率小于 2 纳米的 2.5D 制图案

    自动叠加软件模块

    在现有地形上进行自动无标记覆盖，精度为 25 nm

    智能分割软件模块

    优化大版面处理和字段排序

    动态局部温度调节

    用于热化学应用，通过热量对材料进行局部改性

NanoFrazor 是一款开创性的商业化热扫描探针光刻（t-SPL）系统，旨在推动各类应用领域中的前沿研究与创新。无论是探索量子器件、一维/二维材料、量子点、约瑟夫森结，还是纳米尺度器件阵列，NanoFrazor 都能提供无与伦比的精度与多功能性。其能力还可扩展至更复杂的挑战，包括灰度光子学、纳米流体结构、用于细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动的化学反应或物理相变实现的局部材料改性。

主要功能

  • 高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一种超锋利且可加热的探针尖端，可实现复杂纳米结构的同步写入与检测。通过闭环光刻（CLL）功能实现自校正图案化。这一创新设计为构建精细复杂的图案与结构提供了无与伦比的精度。
  • 直接激光升华（DLS）模块：DLS 模块通过在同一抗蚀剂层中以单一步骤高效写入纳米和微米结构，简化了制备过程。这一集成设计优化了工作流程并提升了生产效率。
  • 带无标记套刻的原位成像：NanoFrazor 的原位成像技术实现了无标记套刻以及已写入图案与目标图案的实时对比。这一独特的闭环光刻（CLL）功能可确保优于 2 nm 的垂直精度，用于构建复杂的 2.5D（灰度）结构，并允许在写入过程中即时调整参数。
  • 十探针并行写入：Decapede 功能支持使用 10 个可加热探针进行并行写入，在保持 NanoFrazor 著名精度的同时显著提高通量。该功能非常适合大面积图案化及对时间敏感的应用。
  • 模块化与可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许广泛定制，以满足特定研究需求和实验室环境。图案化模式、机壳选项及软件模块均可灵活调整，实现最大化的功能性与灵活性。随着研究的发展，NanoFrazor 可通过添加额外模块进行升级，确保长期适应性。
  • 全面工艺支持：凭借 IBM Research Zürich 和 Heidelberg Instruments Nano 超过 20 年的研发经验，NanoFrazor 用户社区持续受益于硬件与软件的不断进步。用户可获取涵盖刻蚀、剥离等图案转移工艺的完整最佳实践与操作规范库，从而确保各类应用的最佳效果。

应用

  • 量子设备：为量子计算和先进电子应用创建精确的纳米结构。
  • 一维/二维材料：在石墨烯、过渡金属二硫化物及其他二维材料上进行纳米结构的图案化与改性。
  • 光子学：在光学系统中实现灰度结构（如正弦波光栅和相位板）优于 2 nm 的垂直精度。
  • 生物技术：开发用于细胞生长的仿生基底，并构建用于生物与化学分析的纳米流体结构。
  • 局部材料改性：通过局部热驱动实现化学反应和相变等工艺，为材料科学的创新研究提供支持。

NanoFrazor 通过将先进的热扫描探针光刻技术普及给全球研究人员和技术专家，彻底革新了纳米制造。其尖端功能、模块化设计及广泛的应用范围，使其成为前沿研究与技术创新不可或缺的工具。

欲深入了解 NanoFrazor，请访问我们的专属网站 nanofrazor.com。配置您的系统，探索 NanoFrazor 如何将您的研究提升到全新高度。

NanoFrazor 是一款开创性的商业化热扫描探针光刻（t-SPL）系统，旨在推动各类应用领域中的前沿研究与创新。无论是探索量子器件、一维/二维材料、量子点、约瑟夫森结，还是纳米尺度器件阵列，NanoFrazor 都能提供无与伦比的精度与多功能性。其能力还可扩展至更复杂的挑战，包括灰度光子学、纳米流体结构、用于细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动的化学反应或物理相变实现的局部材料改性。

主要功能

  • 高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一种超锋利且可加热的探针尖端，可实现复杂纳米结构的同步写入与检测。通过闭环光刻（CLL）功能实现自校正图案化。这一创新设计为构建精细复杂的图案与结构提供了无与伦比的精度。
  • 直接激光升华（DLS）模块：DLS 模块通过在同一抗蚀剂层中以单一步骤高效写入纳米和微米结构，简化了制备过程。这一集成设计优化了工作流程并提升了生产效率。
  • 带无标记套刻的原位成像：NanoFrazor 的原位成像技术实现了无标记套刻以及已写入图案与目标图案的实时对比。这一独特的闭环光刻（CLL）功能可确保优于 2 nm 的垂直精度，用于构建复杂的 2.5D（灰度）结构，并允许在写入过程中即时调整参数。
  • 十探针并行写入：Decapede 功能支持使用 10 个可加热探针进行并行写入，在保持 NanoFrazor 著名精度的同时显著提高通量。该功能非常适合大面积图案化及对时间敏感的应用。
  • 模块化与可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许广泛定制，以满足特定研究需求和实验室环境。图案化模式、机壳选项及软件模块均可灵活调整，实现最大化的功能性与灵活性。随着研究的发展，NanoFrazor 可通过添加额外模块进行升级，确保长期适应性。
  • 全面工艺支持：凭借 IBM Research Zürich 和 Heidelberg Instruments Nano 超过 20 年的研发经验，NanoFrazor 用户社区持续受益于硬件与软件的不断进步。用户可获取涵盖刻蚀、剥离等图案转移工艺的完整最佳实践与操作规范库，从而确保各类应用的最佳效果。

应用

  • 量子设备：为量子计算和先进电子应用创建精确的纳米结构。
  • 一维/二维材料：在石墨烯、过渡金属二硫化物及其他二维材料上进行纳米结构的图案化与改性。
  • 光子学：在光学系统中实现灰度结构（如正弦波光栅和相位板）优于 2 nm 的垂直精度。
  • 生物技术：开发用于细胞生长的仿生基底，并构建用于生物与化学分析的纳米流体结构。
  • 局部材料改性：通过局部热驱动实现化学反应和相变等工艺，为材料科学的创新研究提供支持。

NanoFrazor 通过将先进的热扫描探针光刻技术普及给全球研究人员和技术专家，彻底革新了纳米制造。其尖端功能、模块化设计及广泛的应用范围，使其成为前沿研究与技术创新不可或缺的工具。

欲深入了解 NanoFrazor，请访问我们的专属网站 nanofrazor.com。配置您的系统，探索 NanoFrazor 如何将您的研究提升到全新高度。

热扫描探针光刻

纳米图案化的新方法可实现其他方法无法实现的应用

高分辨率

即使几何形状复杂，也能轻松绘制纳米结构图案；最小横向特征 15 纳米，垂直分辨率 2 纳米

无损光刻

无带电粒子损伤，无邻近效应，剥离清洁

兼容性

兼容所有标准图案转移方法：剥离、刻蚀等 —— 我们的“工艺手册”提供知识资源与最佳实践指南

独特热悬臂探针

集成式微加热器和距离传感器，易于更换，成本效益高

精确的叠加和缝合

指定无标记叠加和缝合精度为 25 nm，显示的叠加精度低于 10 nm

原位成像

图案结构特性的实时可视化

低拥有成本

无需洁净室、真空泵或昂贵的耗材

脚本

轻松实现定制操作的自动化

激光升华模块

在同一曝光步骤中对粗糙结构进行高通量曝光；405 nm 波长的 CW 光纤激光器

Decapede

十探针并行写入

独立机壳

三层声学隔离，优异振动隔离｜PC 控制的温湿度监测与气流调节｜（尺寸 185 cm × 78 cm × 128 cm / 重量 650 kg）

全手套箱集成

可在手套箱中集成，实现受控环境下的纳米光刻

灰度软件模块

垂直分辨率小于 2 纳米的 2.5D 制图案

自动叠加软件模块

在现有地形上进行自动无标记覆盖，精度为 25 nm

智能分割软件模块

优化大版面处理和字段排序

动态局部温度调节

用于热化学应用，通过热量对材料进行局部改性

客户应用

一个 约瑟夫森 结 ，由 两个 铝 电极 重叠 组成 ，中间 隔 有 一层 薄 的 绝缘 屏障 。
约瑟夫森结设计采用NanoFrazor技术制作。该 器件 由 两个 铝 电极 重叠 组成 ，中间 隔 有 一层 薄 的 绝缘 屏障 ，通过 双 角度 蒸发 工艺 形成 。
阅读应用说明以了解制造工艺。
纳米电子学：带电极的InSb纳米线
使用NanoFrazor的无标记对准功能，在InSb纳米线上制作了电接触。首先通过集成的形貌传感器精确定位纳米线，然后叠加并图案化电极设计。为了防止纳米线受损，位于纳米线上的区域仅使用t-SPL进行图案化。 (L. Shani*, J. Chaaban* et al 2024 Nanotechnology 35 255302)
连接已有电极与TMD堆叠的电极的光学显微镜图像
由于过渡金属二硫化物对环境非常敏感，制造用于研究和利用这些材料的完整器件通常具有很大挑战。借助NanoFrazor，可以在不暴露底层薄片于恶劣环境的情况下完成电极的叠加和图案化。
用于光操控的光学傅里叶表面，由NanoFrazor制成
光操控通常需要具备三维亚波长级别的图案化能力。借助NanoFrazor工具与闭环光刻（CLL）技术，光学傅里叶曲面等全新结构得以实现。针对纳米光子学应用的大面积需求，Decapede模块通过十个t-SPL悬臂梁并行运作，在提升吞吐量的同时保持亚30纳米分辨率，现已满足该需求。（图片由苏黎世联邦理工学院Yannik Glauser提供）
由二维材料和过渡金属二硫化物（TMDs）组成的敏感电子器件结构示例
使用NanoFrazor进行灰度图案化，在二维材料片上制造的FET器件。（图片由EPFL的Xia Liu博士和Berke Erbas提供）
蚀刻于硅基底的大面积金属透镜纳米结构，适用于批量复制。
NanoFrazor: 蚀刻于硅基底的大面积金属透镜纳米结构，适用于批量复制。
直径范围为30–200 nm的纳米柱阵列，具有平面光学和超表面应用潜力
通过标准图案转移工艺，实现了纳米孔的显著图像反转，进而形成了直径在30–200 nm之间的硅纳米柱阵列。这些直径小于100 nm的纳米柱在平面光学和超表面应用中具有巨大潜力。NanoFrazor背后的热扫描探针光刻技术支持纳米结构的同时图案化与检测，使纳米柱的制造更加高效流畅。
金属沉积和剥离后制成的纳米线量子器件
使用NanoFrazor，可以利用超尖锐探针（用于高分辨率电极）和激光混合光刻（用于接触垫）来制造基于纳米线的量子器件。下图是金属沉积和剥离后的器件光学图像。
阅读应用说明以了解制造工艺。
带有180 nm宽交错电极的指梳式电子器件
指梳式电极器件因其独特的设计和功能，在微电子学和传感应用中发挥着关键作用。这些指梳电极采用混合光刻工艺进行图案化，结合了NanoFrazor的t-SPL和激光直接写入技术。在t-SPL工艺中，使用主动拼接技术写入了宽度为180 nm、覆盖160微米水平区域的指梳电极。
采用热扫描探针光刻技术制备的骨组织复制结构，具有生物纳米技术应用潜力
热扫描探针光刻（t-SPL）通过热刺激可操作化学敏感表面，分辨率可达亚30 nm，实现独特的化学梯度。此外，在聚合物等生物兼容材料上进行灰度图案模仿自然结构，为生物纳米技术开辟了新路径。（图片由纽约大学Elisa Riedo教授提供）
通过 NanoFrazor 图案化以纳米级精度制造的纳米流体摆动棘轮。该具有精确 3D 拓扑结构的纳米流体设备利用布朗运动，通过引导颗粒朝相反方向运动，将尺寸差异小至 1 nm 的颗粒分离开来。（图片由 IBM Research 提供，发表于《Science》和《PRL》2018）
通过 NanoFrazor 图案化以纳米级精度制造的纳米流体摆动棘轮。该具有精确 3D 拓扑结构的纳米流体设备利用布朗运动，通过引导颗粒朝相反方向运动，将尺寸差异小至 1 nm 的颗粒分离开来。（图片由 IBM Research 提供，发表于Science和PRL2018）
在 PPA 中写入并蚀刻到 SiO₂ 中的具有不同距离 ∆x 的高斯函数结构，旨在堆叠到分布式布拉格反射器中，形成光子分子。截面图展示了不同 ∆x 下的高斯轮廓，其决定了腔体之间的耦合强度。精确的高斯轮廓是通过 NanoFrazor 和闭环光刻技术实现的。（图片由 IBM Research Zurich 提供，2018 年发表）
在 PPA 中写入并蚀刻到 SiO₂ 中的具有不同距离 ∆x 的高斯函数结构，旨在堆叠到分布式布拉格反射器中，形成光子分子。截面图展示了不同 ∆x 下的高斯轮廓，其决定了腔体之间的耦合强度。精确的高斯轮廓是通过 NanoFrazor 和闭环光刻技术实现的。（图片由 IBM Research Zurich 提供，2018 年发表）
砷化铟（InAs）纳米线对陷阱电荷非常敏感，这些电荷会降低器件性能，使开关电压偏离零点，并且难以去除。这些陷阱电荷在电子束光刻工艺中十分常见。然而，使用 NanoFrazor 光刻制造的 InAs 纳米线器件能够在 0 V 准确关闭。（图片由 IBM Research – Zurich 的 S. Karg 和 A. Knoll 提供）
砷化铟（InAs）纳米线对陷阱电荷非常敏感，这些电荷会降低器件性能，使开关电压偏离零点，并且难以去除。这些陷阱电荷在电子束光刻工艺中十分常见。然而，使用 NanoFrazor 光刻制造的 InAs 纳米线器件能够在 0 V 准确关闭。（图片由 IBM Research – Zurich 的 S. Karg 和 A. Knoll 提供）
使用 NanoFrazor 在单层 MoS₂ 薄片上图案化的霍尔条器件。使用加热探针写入的电接触几乎没有肖特基势垒，因为没有残留光刻胶，也不会损伤薄片。因此，使用 NanoFrazor 图案化的接触和顶栅的器件显示出创纪录的高开关比。（图片由 NYU 的 Elisa Riedo 教授提供）
使用 NanoFrazor 在单层 MoS₂ 薄片上图案化的霍尔条器件。使用加热探针写入的电接触几乎没有肖特基势垒，因为没有残留光刻胶，也不会损伤薄片。因此，使用 NanoFrazor 图案化的接触和顶栅的器件显示出创纪录的高开关比。（图片由 NYU 的 Elisa Riedo 教授提供）
阅读应用说明以了解制造工艺。
在 PPA 中图案化并蚀刻到硅中的三维八级计算机生成全息图（插图）。通过反应离子蚀刻将深度从 70 nm 放大到 700 nm。
在 PPA 中图案化并蚀刻到硅中的三维八级计算机生成全息图（插图）。通过反应离子蚀刻将深度从 70 nm 放大到 700 nm。

客户为何选择我们的系统

我很喜欢NanoFrazor 提供的闭环光刻功能，它对低维材料应用中的各种高精度光刻、叠层和缝合非常有帮助。此外，我还非常感谢NanoFrazor 支持团队对我们使用该系统的各方面需求所做出的迅速而专业的回应（24 小时内）。

Xiaorui Zheng，助理教授，首席研究员
西湖大学
中国杭州

Nanofrazor在一台紧凑型纳米光刻仪器中提供了独特的功能组合。我特别强调在二维材料上进行低损伤的无标记叠加和点阵、三维灰度纳米光刻以及材料的直接热转换和改性。

Francesco Buatier de Mongeot，意大利热那亚大学凝聚态物理实验教授
意大利热那亚大学物理学系
热那亚

技术数据

热探针写入直接激光升华
单探针Decapede
打样性能
最小结构尺寸 [nm]1515600
最小线距和间距 [半间距，纳米］25251000
灰度/三维分辨率（PPA 中的步长）[纳米］22-
最大写入字段尺寸 [X μm x Y μm] (X μm x Y μm)60 x 6060 x 6060 x 60
场拼接精度（无标记，使用原位成像）[nm]2525600
套刻精度（无标记，使用原位成像）[nm]2525600
写入速度（典型扫描速度）[mm/s]115
写入速度（50 nm 像素）[μm²/min] 100010 000100 000
表面形貌成像性能
横向成像分辨率（特征尺寸）[nm]10
垂直分辨率（形貌灵敏度）[nm]<0.5
成像速度（@ 50 nm 分辨率）[μm²/min]100010 000-
基本系统功能
基底尺寸1 x 1 mm² 至 100 x 100 mm²（可达 150 x 150 mm²，但有限制）
厚度：最大 10 mm
光学显微镜0.6 μm 数字分辨率，2 μm 衍射极限，1.0 mm x 1.0 mm 视场，自动对焦
磁性悬臂支架快速（<1 分钟）且精确的探针更换
振动隔离主动隔振台
可选系统功能/模块化
直接激光升华激光源和光学器件：405 nm 波长 CW 光纤激光器，300 mW，1.2 μm 最小焦斑尺寸 激光自动对焦：使用 NanoFrazor 悬臂的距离传感器
Decapede十探针并行写入
独立机壳三层声学隔离，优异振动隔离（>98% @ 10 Hz）｜PC 控制的温湿度监测，气流调节｜（尺寸 185 cm x 78 cm x 128 cm / 重量 650 kg）
全手套箱集成可在手套箱中集成，实现受控环境下的纳米光刻
NanoFrazor 悬臂特征（适用于单探针和 Decapede 多探针）
集成组件探针加热器、表面形貌传感器、电静力驱动
探针几何形状锥形探针，半径小于 <10 nm，长度 750 nm
探针加热器温度范围25 °C – 1400 °C (<1 K 设定点分辨率)
基本系统尺寸和安装要求
高 × 宽 × 深台式装置：44 厘米 x 40 厘米 x 45 厘米
控制器：84 厘米 x 60 厘米 x 56 厘米
重量台式装置：50 千克
控制器：80 千克
电源输入1 x 110 或 220 伏交流电，10 A
软件功能
GDS 和位图导入、256 级灰度、地形图像分析和绘图叠加、针尖和激光写入之间的混合与匹配、 全自动校准例程、Python 脚本编程

请注意
规格取决于个别流程条件，并可能因设备配置而异。写入速度取决于像素大小和写入模式。 设计和规格如有变更，恕不另行通知。

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