NanoFrazor 纳米制造系统

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多功能模块化纳米光刻工具

  • 产品说明

  • NanoFrazor 是一款突破性的商用热扫描探针光刻（t-SPL）系统，旨在支持各类先进研究与创新应用。 无论是在探索量子器件、1D/2D 材料、量子点、约瑟夫森结，还是纳米级器件阵列方面，NanoFrazor 都能提供无与伦比的精度与灵活性。 它的功能涵盖复杂领域，包括灰阶光子学、纳米流体结构、用于细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动化学反应或物理相变实现的局部材料改性。

    主要功能

    • 高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一个超锐利、可加热的探针头，可同时书写和检测复杂的纳米结构。闭环光刻（CLL）功能可实现自校正图案化。这一创新设计为创建复杂图案和结构提供了无与伦比的精度。
    • 直接激光升华 (DLS) 模块：DLS 模块可在一个步骤中将纳米和微观结构有效地写入同一抗蚀层，从而简化制造过程。这种集成简化了工作流程，提高了生产率。
    • 原位成像与无标记叠加：NanoFrazor 的原位成像技术引入了无标记叠加和写入图案与目标图案的实时比较功能。这种独特的闭环光刻 (CLL) 功能可确保 2 纳米以下的垂直精度，以创建复杂的 2.5D（灰度）图形，并允许在写入过程中立即调整参数。
    • 10 个针尖并行书写：Decapede 功能可实现 10 个可加热针尖的并行写入，在保持NanoFrazor 著名的精度的同时，大大提高了吞吐量。这种功能非常适合大面积图案化和时间敏感型应用。
    • 模块化和可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许进行广泛的定制，以满足特定的研究需求和实验室环境。成型模式、外壳选项和软件模块都可以量身定制，以实现最大的灵活性和功能性。随着研究的不断发展，NanoFrazor 可以通过附加模块进行升级，确保其长期适应性。
    • 全面流程支持：凭借在 IBM Research Zürich 和 Heidelberg Instruments Nano 超过20年的研发经验，NanoFrazor 用户社区持续受益于硬件和软件的不断进步。用户可以访问涵盖最佳实践和工艺协议的综合库，用于诸如蚀刻和剥离等图案转移流程，确保在各种应用中获得最佳结果。

    应用

    • 量子设备：为量子计算和先进电子应用创建精确的纳米结构。
    • 1D/2D 材料：在石墨烯、过渡金属二卤化物和其他二维材料上绘制和修改纳米结构。
    • 光子学：实现光学系统中正弦波光栅和相位板等灰度形状的垂直精度低于 2 纳米。
    • 生物技术：开发用于细胞生长的仿生物基质，创建用于生物和化学分析的纳米流体结构。
    • 局部材料改性：实现局部热驱动过程，如化学反应和相变，促进材料科学的创新研究。

    NanoFrazor 通过将先进的热扫描探针光刻技术普及到全球的研究人员和技术人员手中，革新了纳米制造。其尖端功能、模块化设计及广泛的应用范围，使其成为开创性研究和技术进步中不可或缺的工具。

    如需进一步了解 NanoFrazor，请访问我们的专用网站：nanofrazor.com。 配置您的系统，探索 NanoFrazor 如何将您的研究提升到新的高度。

    NanoFrazor 是一款突破性的商用热扫描探针光刻（t-SPL）系统，旨在支持各类先进研究与创新应用。 无论是在探索量子器件、1D/2D 材料、量子点、约瑟夫森结，还是纳米级器件阵列方面，NanoFrazor 都能提供无与伦比的精度与灵活性。 它的功能涵盖复杂领域，包括灰阶光子学、纳米流体结构、用于细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动化学反应或物理相变实现的局部材料改性。

    主要功能

    • 高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一个超锐利、可加热的探针头，可同时书写和检测复杂的纳米结构。闭环光刻（CLL）功能可实现自校正图案化。这一创新设计为创建复杂图案和结构提供了无与伦比的精度。
    • 直接激光升华 (DLS) 模块：DLS 模块可在一个步骤中将纳米和微观结构有效地写入同一抗蚀层，从而简化制造过程。这种集成简化了工作流程，提高了生产率。
    • 原位成像与无标记叠加：NanoFrazor 的原位成像技术引入了无标记叠加和写入图案与目标图案的实时比较功能。这种独特的闭环光刻 (CLL) 功能可确保 2 纳米以下的垂直精度，以创建复杂的 2.5D（灰度）图形，并允许在写入过程中立即调整参数。
    • 10 个针尖并行书写：Decapede 功能可实现 10 个可加热针尖的并行写入，在保持NanoFrazor 著名的精度的同时，大大提高了吞吐量。这种功能非常适合大面积图案化和时间敏感型应用。
    • 模块化和可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许进行广泛的定制，以满足特定的研究需求和实验室环境。成型模式、外壳选项和软件模块都可以量身定制，以实现最大的灵活性和功能性。随着研究的不断发展，NanoFrazor 可以通过附加模块进行升级，确保其长期适应性。
    • 全面流程支持：凭借在 IBM Research Zürich 和 Heidelberg Instruments Nano 超过20年的研发经验，NanoFrazor 用户社区持续受益于硬件和软件的不断进步。用户可以访问涵盖最佳实践和工艺协议的综合库，用于诸如蚀刻和剥离等图案转移流程，确保在各种应用中获得最佳结果。

    应用

    • 量子设备：为量子计算和先进电子应用创建精确的纳米结构。
    • 1D/2D 材料：在石墨烯、过渡金属二卤化物和其他二维材料上绘制和修改纳米结构。
    • 光子学：实现光学系统中正弦波光栅和相位板等灰度形状的垂直精度低于 2 纳米。
    • 生物技术：开发用于细胞生长的仿生物基质，创建用于生物和化学分析的纳米流体结构。
    • 局部材料改性：实现局部热驱动过程，如化学反应和相变，促进材料科学的创新研究。

    NanoFrazor 通过将先进的热扫描探针光刻技术普及到全球的研究人员和技术人员手中，革新了纳米制造。其尖端功能、模块化设计及广泛的应用范围，使其成为开创性研究和技术进步中不可或缺的工具。

    如需进一步了解 NanoFrazor，请访问我们的专用网站：nanofrazor.com。 配置您的系统，探索 NanoFrazor 如何将您的研究提升到新的高度。

  • 产品亮点

  • 热扫描探针光刻技术

    纳米图案化的新方法可实现其他方法无法实现的应用

    高分辨率

    即使几何形状复杂，也能轻松绘制纳米结构图案；最小横向特征 15 纳米，垂直分辨率 2 纳米

    无损平版印刷

    无带电粒子损伤，无近距离效应，升空干净利落

    兼容性

    可使用所有标准图案转移方法：掀起、蚀刻等。- 我们的 “配方手册 “中提供了知识资源和最佳做法

    独特的热悬臂

    集成式微加热器和距离传感器，易于更换，成本效益高

    精确的叠加和缝合

    指定无标记叠加和缝合精度为 25 nm，显示的叠加精度低于 10 nm

    原位成像

    图案结构特性的实时可视化

    低拥有成本

    无需洁净室、真空泵或昂贵的耗材

    脚本

    轻松实现定制操作的自动化

  • 可用模块

  • 激光升华模块

    在同一曝光步骤中对粗糙结构进行高通量曝光；405 nm 波长的 CW 光纤激光器

    Decapede

    平行写作的 10 个技巧

    独立房屋

    三层隔音、卓越的隔振 | 电脑控制的温度和湿度监测、气体流量调节 | （尺寸 185 厘米 x 78 厘米 x 128 厘米/重量 650 千克）

    全面集成手套箱

    集成在手套箱中，可在受控环境中进行纳米光刻

    灰度软件模块

    垂直分辨率小于 2 纳米的 2.5D 制图案

    自动叠加软件模块

    在现有地形上进行自动无标记覆盖，精度为 25 nm

    智能分割软件模块

    优化大版面处理和字段排序

    动态局部温度调节

    用于热化学应用，通过热量对材料进行局部改性

NanoFrazor 是一款突破性的商用热扫描探针光刻（t-SPL）系统，旨在支持各类先进研究与创新应用。 无论是在探索量子器件、1D/2D 材料、量子点、约瑟夫森结，还是纳米级器件阵列方面，NanoFrazor 都能提供无与伦比的精度与灵活性。 它的功能涵盖复杂领域，包括灰阶光子学、纳米流体结构、用于细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动化学反应或物理相变实现的局部材料改性。

主要功能

  • 高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一个超锐利、可加热的探针头，可同时书写和检测复杂的纳米结构。闭环光刻（CLL）功能可实现自校正图案化。这一创新设计为创建复杂图案和结构提供了无与伦比的精度。
  • 直接激光升华 (DLS) 模块：DLS 模块可在一个步骤中将纳米和微观结构有效地写入同一抗蚀层，从而简化制造过程。这种集成简化了工作流程，提高了生产率。
  • 原位成像与无标记叠加：NanoFrazor 的原位成像技术引入了无标记叠加和写入图案与目标图案的实时比较功能。这种独特的闭环光刻 (CLL) 功能可确保 2 纳米以下的垂直精度，以创建复杂的 2.5D（灰度）图形，并允许在写入过程中立即调整参数。
  • 10 个针尖并行书写：Decapede 功能可实现 10 个可加热针尖的并行写入，在保持NanoFrazor 著名的精度的同时，大大提高了吞吐量。这种功能非常适合大面积图案化和时间敏感型应用。
  • 模块化和可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许进行广泛的定制，以满足特定的研究需求和实验室环境。成型模式、外壳选项和软件模块都可以量身定制，以实现最大的灵活性和功能性。随着研究的不断发展，NanoFrazor 可以通过附加模块进行升级，确保其长期适应性。
  • 全面流程支持：凭借在 IBM Research Zürich 和 Heidelberg Instruments Nano 超过20年的研发经验，NanoFrazor 用户社区持续受益于硬件和软件的不断进步。用户可以访问涵盖最佳实践和工艺协议的综合库，用于诸如蚀刻和剥离等图案转移流程，确保在各种应用中获得最佳结果。

应用

  • 量子设备：为量子计算和先进电子应用创建精确的纳米结构。
  • 1D/2D 材料：在石墨烯、过渡金属二卤化物和其他二维材料上绘制和修改纳米结构。
  • 光子学：实现光学系统中正弦波光栅和相位板等灰度形状的垂直精度低于 2 纳米。
  • 生物技术：开发用于细胞生长的仿生物基质，创建用于生物和化学分析的纳米流体结构。
  • 局部材料改性：实现局部热驱动过程，如化学反应和相变，促进材料科学的创新研究。

NanoFrazor 通过将先进的热扫描探针光刻技术普及到全球的研究人员和技术人员手中，革新了纳米制造。其尖端功能、模块化设计及广泛的应用范围，使其成为开创性研究和技术进步中不可或缺的工具。

如需进一步了解 NanoFrazor，请访问我们的专用网站：nanofrazor.com。 配置您的系统，探索 NanoFrazor 如何将您的研究提升到新的高度。

NanoFrazor 是一款突破性的商用热扫描探针光刻（t-SPL）系统，旨在支持各类先进研究与创新应用。 无论是在探索量子器件、1D/2D 材料、量子点、约瑟夫森结，还是纳米级器件阵列方面，NanoFrazor 都能提供无与伦比的精度与灵活性。 它的功能涵盖复杂领域，包括灰阶光子学、纳米流体结构、用于细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动化学反应或物理相变实现的局部材料改性。

主要功能

  • 高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一个超锐利、可加热的探针头，可同时书写和检测复杂的纳米结构。闭环光刻（CLL）功能可实现自校正图案化。这一创新设计为创建复杂图案和结构提供了无与伦比的精度。
  • 直接激光升华 (DLS) 模块：DLS 模块可在一个步骤中将纳米和微观结构有效地写入同一抗蚀层，从而简化制造过程。这种集成简化了工作流程，提高了生产率。
  • 原位成像与无标记叠加：NanoFrazor 的原位成像技术引入了无标记叠加和写入图案与目标图案的实时比较功能。这种独特的闭环光刻 (CLL) 功能可确保 2 纳米以下的垂直精度，以创建复杂的 2.5D（灰度）图形，并允许在写入过程中立即调整参数。
  • 10 个针尖并行书写：Decapede 功能可实现 10 个可加热针尖的并行写入，在保持NanoFrazor 著名的精度的同时，大大提高了吞吐量。这种功能非常适合大面积图案化和时间敏感型应用。
  • 模块化和可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许进行广泛的定制，以满足特定的研究需求和实验室环境。成型模式、外壳选项和软件模块都可以量身定制，以实现最大的灵活性和功能性。随着研究的不断发展，NanoFrazor 可以通过附加模块进行升级，确保其长期适应性。
  • 全面流程支持：凭借在 IBM Research Zürich 和 Heidelberg Instruments Nano 超过20年的研发经验，NanoFrazor 用户社区持续受益于硬件和软件的不断进步。用户可以访问涵盖最佳实践和工艺协议的综合库，用于诸如蚀刻和剥离等图案转移流程，确保在各种应用中获得最佳结果。

应用

  • 量子设备：为量子计算和先进电子应用创建精确的纳米结构。
  • 1D/2D 材料：在石墨烯、过渡金属二卤化物和其他二维材料上绘制和修改纳米结构。
  • 光子学：实现光学系统中正弦波光栅和相位板等灰度形状的垂直精度低于 2 纳米。
  • 生物技术：开发用于细胞生长的仿生物基质，创建用于生物和化学分析的纳米流体结构。
  • 局部材料改性：实现局部热驱动过程，如化学反应和相变，促进材料科学的创新研究。

NanoFrazor 通过将先进的热扫描探针光刻技术普及到全球的研究人员和技术人员手中，革新了纳米制造。其尖端功能、模块化设计及广泛的应用范围，使其成为开创性研究和技术进步中不可或缺的工具。

如需进一步了解 NanoFrazor，请访问我们的专用网站：nanofrazor.com。 配置您的系统，探索 NanoFrazor 如何将您的研究提升到新的高度。

热扫描探针光刻技术

纳米图案化的新方法可实现其他方法无法实现的应用

高分辨率

即使几何形状复杂，也能轻松绘制纳米结构图案；最小横向特征 15 纳米，垂直分辨率 2 纳米

无损平版印刷

无带电粒子损伤，无近距离效应，升空干净利落

兼容性

可使用所有标准图案转移方法：掀起、蚀刻等。- 我们的 “配方手册 “中提供了知识资源和最佳做法

独特的热悬臂

集成式微加热器和距离传感器，易于更换，成本效益高

精确的叠加和缝合

指定无标记叠加和缝合精度为 25 nm，显示的叠加精度低于 10 nm

原位成像

图案结构特性的实时可视化

低拥有成本

无需洁净室、真空泵或昂贵的耗材

脚本

轻松实现定制操作的自动化

激光升华模块

在同一曝光步骤中对粗糙结构进行高通量曝光；405 nm 波长的 CW 光纤激光器

Decapede

平行写作的 10 个技巧

独立房屋

三层隔音、卓越的隔振 | 电脑控制的温度和湿度监测、气体流量调节 | （尺寸 185 厘米 x 78 厘米 x 128 厘米/重量 650 千克）

全面集成手套箱

集成在手套箱中，可在受控环境中进行纳米光刻

灰度软件模块

垂直分辨率小于 2 纳米的 2.5D 制图案

自动叠加软件模块

在现有地形上进行自动无标记覆盖，精度为 25 nm

智能分割软件模块

优化大版面处理和字段排序

动态局部温度调节

用于热化学应用，通过热量对材料进行局部改性

客户应用

一个 约瑟夫森 结 ，由 两个 铝 电极 重叠 组成 ，中间 隔 有 一层 薄 的 绝缘 屏障 。
约瑟夫森结设计采用NanoFrazor技术制作。该 器件 由 两个 铝 电极 重叠 组成 ，中间 隔 有 一层 薄 的 绝缘 屏障 ，通过 双 角度 蒸发 工艺 形成 。
阅读应用说明以了解制造工艺。
纳米电子学：带电极的InSb纳米线
使用NanoFrazor的无标记对准功能，在InSb纳米线上制作了电接触。首先通过集成的形貌传感器精确定位纳米线，然后叠加并图案化电极设计。为了防止纳米线受损，位于纳米线上的区域仅使用t-SPL进行图案化。 (L. Shani*, J. Chaaban* et al 2024 Nanotechnology 35 255302)
连接已有电极与TMD堆叠的电极的光学显微镜图像
由于过渡金属二硫化物对环境非常敏感，制造用于研究和利用这些材料的完整器件通常具有很大挑战。借助NanoFrazor，可以在不暴露底层薄片于恶劣环境的情况下完成电极的叠加和图案化。
用于光操控的光学傅里叶表面，由NanoFrazor制成
光操控通常需要具备三维亚波长级别的图案化能力。借助NanoFrazor工具与闭环光刻（CLL）技术，光学傅里叶曲面等全新结构得以实现。针对纳米光子学应用的大面积需求，Decapede模块通过十个t-SPL悬臂梁并行运作，在提升吞吐量的同时保持亚30纳米分辨率，现已满足该需求。（图片由苏黎世联邦理工学院Yannik Glauser提供）
由二维材料和过渡金属二硫化物（TMDs）组成的敏感电子器件结构示例
使用NanoFrazor进行灰度图案化，在二维材料片上制造的FET器件。（图片由EPFL的Xia Liu博士和Berke Erbas提供）
蚀刻于硅基底的大面积金属透镜纳米结构，适用于批量复制。
NanoFrazor: 蚀刻于硅基底的大面积金属透镜纳米结构，适用于批量复制。
直径范围为30–200 nm的纳米柱阵列，具有平面光学和超表面应用潜力
通过标准图案转移工艺，实现了纳米孔的显著图像反转，进而形成了直径在30–200 nm之间的硅纳米柱阵列。这些直径小于100 nm的纳米柱在平面光学和超表面应用中具有巨大潜力。NanoFrazor背后的热扫描探针光刻技术支持纳米结构的同时图案化与检测，使纳米柱的制造更加高效流畅。
金属沉积和剥离后制成的纳米线量子器件
使用NanoFrazor，可以利用超尖锐探针（用于高分辨率电极）和激光混合光刻（用于接触垫）来制造基于纳米线的量子器件。下图是金属沉积和剥离后的器件光学图像。
阅读应用说明以了解制造工艺。
带有180 nm宽交错电极的指梳式电子器件
指梳式电极器件因其独特的设计和功能，在微电子学和传感应用中发挥着关键作用。这些指梳电极采用混合光刻工艺进行图案化，结合了NanoFrazor的t-SPL和激光直接写入技术。在t-SPL工艺中，使用主动拼接技术写入了宽度为180 nm、覆盖160微米水平区域的指梳电极。
采用热扫描探针光刻技术制备的骨组织复制结构，具有生物纳米技术应用潜力
热扫描探针光刻（t-SPL）通过热刺激可操作化学敏感表面，分辨率可达亚30 nm，实现独特的化学梯度。此外，在聚合物等生物兼容材料上进行灰度图案模仿自然结构，为生物纳米技术开辟了新路径。（图片由纽约大学Elisa Riedo教授提供）
通过 NanoFrazor 图案化以纳米级精度制造的纳米流体摆动棘轮。该具有精确 3D 拓扑结构的纳米流体设备利用布朗运动，通过引导颗粒朝相反方向运动，将尺寸差异小至 1 nm 的颗粒分离开来。（图片由 IBM Research 提供，发表于《Science》和《PRL》2018）
通过 NanoFrazor 图案化以纳米级精度制造的纳米流体摆动棘轮。该具有精确 3D 拓扑结构的纳米流体设备利用布朗运动，通过引导颗粒朝相反方向运动，将尺寸差异小至 1 nm 的颗粒分离开来。（图片由 IBM Research 提供，发表于Science和PRL2018）
在 PPA 中写入并蚀刻到 SiO₂ 中的具有不同距离 ∆x 的高斯函数结构，旨在堆叠到分布式布拉格反射器中，形成光子分子。截面图展示了不同 ∆x 下的高斯轮廓，其决定了腔体之间的耦合强度。精确的高斯轮廓是通过 NanoFrazor 和闭环光刻技术实现的。（图片由 IBM Research Zurich 提供，2018 年发表）
在 PPA 中写入并蚀刻到 SiO₂ 中的具有不同距离 ∆x 的高斯函数结构，旨在堆叠到分布式布拉格反射器中，形成光子分子。截面图展示了不同 ∆x 下的高斯轮廓，其决定了腔体之间的耦合强度。精确的高斯轮廓是通过 NanoFrazor 和闭环光刻技术实现的。（图片由 IBM Research Zurich 提供，2018 年发表）
砷化铟（InAs）纳米线对陷阱电荷非常敏感，这些电荷会降低器件性能，使开关电压偏离零点，并且难以去除。这些陷阱电荷在电子束光刻工艺中十分常见。然而，使用 NanoFrazor 光刻制造的 InAs 纳米线器件能够在 0 V 准确关闭。（图片由 IBM Research – Zurich 的 S. Karg 和 A. Knoll 提供）
砷化铟（InAs）纳米线对陷阱电荷非常敏感，这些电荷会降低器件性能，使开关电压偏离零点，并且难以去除。这些陷阱电荷在电子束光刻工艺中十分常见。然而，使用 NanoFrazor 光刻制造的 InAs 纳米线器件能够在 0 V 准确关闭。（图片由 IBM Research – Zurich 的 S. Karg 和 A. Knoll 提供）
使用 NanoFrazor 在单层 MoS₂ 薄片上图案化的霍尔条器件。使用加热探针写入的电接触几乎没有肖特基势垒，因为没有残留光刻胶，也不会损伤薄片。因此，使用 NanoFrazor 图案化的接触和顶栅的器件显示出创纪录的高开关比。（图片由 NYU 的 Elisa Riedo 教授提供）
使用 NanoFrazor 在单层 MoS₂ 薄片上图案化的霍尔条器件。使用加热探针写入的电接触几乎没有肖特基势垒，因为没有残留光刻胶，也不会损伤薄片。因此，使用 NanoFrazor 图案化的接触和顶栅的器件显示出创纪录的高开关比。（图片由 NYU 的 Elisa Riedo 教授提供）
阅读应用说明以了解制造工艺。
在 PPA 中图案化并蚀刻到硅中的三维八级计算机生成全息图（插图）。通过反应离子蚀刻将深度从 70 nm 放大到 700 nm。
在 PPA 中图案化并蚀刻到硅中的三维八级计算机生成全息图（插图）。通过反应离子蚀刻将深度从 70 nm 放大到 700 nm。

客户为何选择我们的系统

"我很喜欢NanoFrazor 提供的闭环光刻功能，它对低维材料应用中的各种高精度光刻、叠层和缝合非常有帮助。此外，我还非常感谢NanoFrazor 支持团队对我们使用该系统的各方面需求所做出的迅速而专业的回应（24 小时内）"。

Xiaorui Zheng，助理教授，首席研究员
西湖大学
中国杭州

"Nanofrazor在一台紧凑型纳米光刻仪器中提供了独特的功能组合。我特别强调在二维材料上进行低损伤的无标记叠加和点阵、三维灰度纳米光刻以及材料的直接热转换和改性。

Francesco Buatier de Mongeot，意大利热那亚大学凝聚态物理实验教授
意大利热那亚大学物理学系
热那亚

技术数据

热探头 书写直接激光 升华
单尖头Decapede
打样性能
最小结构尺寸 [nm]1515600
最小线距和间距 [半间距，纳米］25251000
灰度/三维分辨率（PPA 中的步长）[纳米］22-
最大写入字段尺寸 [X μm x Y μm] (X μm x Y μm)60 x 6060 x 6060 x 60
现场拼接精度（无标记，使用现场成像）[纳米］2525600
叠加精度（无标记，使用原位成像）[nm]2525600
写入速度（典型扫描速度）[毫米/秒］115
写入速度（50 纳米像素）[μm²/分钟］ 100010 000100 000
地形成像性能
侧向成像分辨率（特征尺寸）[纳米］10
垂直分辨率（地形敏感度）[纳米］<0.5
成像速度（50 纳米分辨率）[μm²/分钟］100010 000-
基本系统功能
基底尺寸1 x 1 mm² 至 100 x 100 mm²（可达 150 x 150 mm²，但有限制）
厚度：最大 10 mm
光学显微镜0.6 μm 数字分辨率，2 μm 衍射极限，1.0 mm x 1.0 mm 视场，自动对焦
磁性悬臂支架快速 (<1 分钟)、准确地交换喷嘴
振动隔离主动隔振台
可选系统功能/模块化
直接激光升华激光源和光学器件：405 nm 波长 CW 光纤激光器，300 mW，1.2 μm 最小焦斑尺寸 激光自动对焦：使用 NanoFrazor 悬臂的距离传感器
Decapede平行写作的 10 个技巧
独立房屋三层隔音、卓越的隔振效果（> 98% @ 10 Hz） | 电脑控制的温度和 湿度监控、气体流量调节 | （尺寸 185 厘米 x 78 厘米 x 128 厘米/重量 650 千克）
全面集成手套箱集成在手套箱中，可在受控环境中进行纳米光刻
NanoFrazor 悬臂功能（包括单触点和十触点）
集成组件针尖加热器、地形传感器、静电驱动
喷嘴几何形状圆锥形尖端，<，半径 10 纳米，长度 750 纳米
针尖加热器温度范围25 °C – 1400 °C (<1 K 设定点分辨率)
基本系统尺寸和安装要求
高 × 宽 × 深台式装置：44 厘米 x 40 厘米 x 45 厘米
控制器：84 厘米 x 60 厘米 x 56 厘米
重量台式装置：50 千克
控制器：80 千克
电源输入1 x 110 或 220 伏交流电，10 A
软件功能
GDS 和位图导入、256 级灰度、地形图像分析和绘图叠加、针尖和激光写入之间的混合与匹配、 全自动校准例程、Python 脚本编程

请注意
规格取决于个别流程条件，并可能因设备配置而异。写入速度取决于像素大小和写入模式。 设计和规格如有变更，恕不另行通知。

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