DWL⁶⁶⁺

用于研究和原型开发的多功能工具，具有可变分辨率和多种模块选择，便于定制

DWL⁶⁶⁺激光光刻工具是一种高分辨率直写图形发生器。作为全能型设备，DWL⁶⁶⁺是微电子、微机电系统（MEMS）、微流体、传感器、非标准基板、先进封装等领域研发（R&D）的理想之选，几乎适用于任何需要微结构制造的学术应用。 DWL⁶⁶⁺以其灰度曝光模式脱颖而出，可创建复杂的 2.5D 微型结构，如移动应用的微型光学器件、衍射光学元件 (DOE)、计算机生成的全息图和结构化表面。

它是一个高度灵活、可定制的系统，可精确满足您的应用需求。 DWL⁶⁶⁺的主要功能包括高分辨率模式、正面和背面校准、绝对位置校准和自动装载系统。

曝光质量

CD 均匀度 60 nm；边缘粗糙度 50 nm；第二层对齐 500 nm；自动对焦补偿 80 µm

灰度平版印刷

灰度级高达 1024 级；专用 GenISys BEAMER 软件可优化复杂几何图形的曝光效果

多功能性

有 6 种写入模式和 2 种激光波长可供选择；3 种灰度曝光机制；可提供的附加模块数量最多，包括自动化选项

6 种写入模式

最小特征为 300 纳米至 4 微米

曝光波长

波长为 375 纳米或 405 纳米的二极管激光器

自动对焦

气压计或光学自动对焦，可对小样品（小于 10 毫米）进行完美曝光

可变基质

尺寸从 3 毫米到 230 毫米

2 种灰度模式

灰度级高达 1024 级，GenISys BEAMER 专用软件可优化复杂几何图形的曝光效果

高精度选项

采取各种技术措施，提高平台坐标系的热稳定性和位置精度。改进了第二层对准的规格：350 纳米

自动装载机

可处理最大 7 英寸的掩膜和最大 8 英寸的基板。可选配第二个供片盒站。可提供预对准器和晶片扫描仪

基本自由形态 (BFF)

在非平面基底上进行曝光，最小特征为 3 μm。典型应用是凸透镜或凹透镜顶部的微结构

矢量扫描模式

在需要平滑轮廓的地方，绘制由弧线组成的结构和形状图案

Customer applications

The 300 nm wide channel waveguide coupled to a ring resonator with a radius of 3 µm was written using the high-resolution write mode HiRes on the DWL 66+. Submicron waveguides, resonators and similar microstructures are used in optoelectronics to guide or study electromagnetic radiation. This design was created with the “Nanolithography Toolbox”, K.C. Balram et al., J. Res. natl. Inst. Stand. 121, pp. 464-475 (2016). — The 300 nm wide channel waveguide coupled to a ring resonator with a radius of 3 µm was written using the high-resolution write mode HiRes on the DWL 66⁺. Submicron waveguides, resonators and similar microstructures are used in optoelectronics to guide or study electromagnetic radiation. This design was created with the “Nanolithography Toolbox”, K.C. Balram et al., J. Res. natl. Inst. Stand. 121, pp. 464-475 (2016).

Fresnel microlenses are still a crucial component in today’s micro-optics and opto-electronics. Originally invented to reduce mass and volume of lenses used in lighthouses, Fresnel microlenses manufactured by grayscale direct-write lithography are used in mobile devices, enabling ultra-light and compact powerful cameras that fit in our pockets.

This array of pseudo-random concave microlenses is used as a diffusor. Such devices modify the light distribution of a point-like source, e.g. LED. For example, in mobile devices, a diffusor is used to ensure homogeneous illumination when taking a picture with a flash.

$A diffraction grating patterned with the DWL 66+. Both the angle of the sawtooth-like profile and the groove spacing are tuned to match the specific application requirements. Blazed gratings are key components of many optical instruments, such as monochromators and spectrometers used in sensors, communication systems and other tools. (Courtesy of IGI)$

A diffraction grating patterned with the DWL 66⁺. Both the angle of the sawtooth-like profile and the groove spacing are tuned to match the specific application requirements. Blazed gratings are key components of many optical instruments, such as monochromators and spectrometers used in sensors, communication systems and other tools. (Courtesy of IGI)

This retro-reflector structure was patterned using the DWL 66+. 2.5D micro-structures designed to control reflection or diffusion of light are used in light sources and illumination, such as backlight units in LCD displays.
(Courtesy of karmic.ch) — This retro-reflector structure was patterned using the DWL 66⁺. 2.5D micro-structures designed to control reflection or diffusion of light are used in light sources and illumination, such as backlight units in LCD displays. (Courtesy of karmic.ch)

“Moth eye” compound microlenses array replicated with nanoimprint technology shows the DWL 66+ capabilities for 2.5D patterning. Texturing surfaces using grayscale lithography can control and modify their hydrophobicity, friction, haptics, and adhesion.
(Courtesy of ShenZhen Nahum-Eli Optical Technology Inc.) — “Moth eye” compound microlenses array replicated with nanoimprint technology shows the DWL 66⁺ capabilities for 2.5D patterning. Texturing surfaces using grayscale lithography can control and modify their hydrophobicity, friction, haptics, and adhesion. (Courtesy of ShenZhen Nahum-Eli Optical Technology Inc.)

Why customers choose our systems

"在科罗娜大流行期间订购 DWL⁶⁶⁺设备是一个巨大的挑战。但这也变成了一种优势。安装非常及时。通过远程培训，我们迅速了解了灰度光刻技术，在三名本科生的帮助下掌握了基本工艺知识，并立即投入到第一个工业项目中，这些项目为我们提供了实际经验，让我们深入了解了新工具的能力。在此期间，我们与海德堡仪器公司（Heidelberg Instruments）进行了深入交流，这对我们进一步了解三维光刻技术的基础知识起到了重要作用。因此可以说，选择 DWL⁶⁶⁺是正确的，它很好地补充了我们在保罗舍勒研究所追求的其他光刻技术"。

Helmut Schift 博士，先进纳米制造小组负责人
Paul Scherrer Institute (PSI)
Villigen，瑞士

"在使用 µPG 101（µMLA 的前身）制作具有挑战性的衍射光学元件取得成功后，我们在 2021 年为实验室配备了 DWL 66⁺。这种工具速度更快、书写区域更大，并且具有良好的稳定性，可进行高分辨率灰度图案化。它使我们能够制造出迄今为止最大的平面透镜。我们非常感谢海德堡仪器公司的支持与合作，尤其是在不断改进光刻工艺方面"。

Rajesh Menon 博士，教授
犹他大学
美国盐湖城

"在我们研究所，DWL⁶⁶⁺是传统掩膜光刻技术与电子束光刻技术之间的桥梁技术，前者可以实现高吞吐量，后者可以保证非常高的分辨率，但却是一种缓慢的结构化工艺。DWL⁶⁶⁺正是对现有结构化工艺的一种补充。DWL⁶⁶⁺使我们能够在内部生产用于传统光刻技术的玻璃掩模，进行原型设计，并在可接受的时间内加工出总面积较大的亚微米级结构"。

Sascha de Wall，副研究员，组长
微型生产技术研究所
汉诺威莱布尼茨大学
汉诺威，德国

Technical Data

写入模式	高分辨率	I	II	III	四	V
写作表现
最小特征尺寸 [μm]	0.3	0.6	0.8	1	2	4
最小线段和空间 [μm]	0.5	0.8	1	1.5	3	5
地址网格 [nm]	5	10	25	50	100	200
边缘粗糙度 [3σ，纳米］	50	50	70	80	110	160
CD 均匀度 [3σ，纳米］	60	70	80	130	250	400
5 x 5 mm² 上的第 2 层对齐[纳米]	250	250	250	250	350	500
超过 100 x 100 mm² 的第 2 层对齐 [nm]	500	500	500	500	800	1000
背面对齐 [nm]	1000	1000	1000	1000	1000	1000
带二极管激光器（405 纳米）
写入速度 [mm²/min］	3	13	40	150	600	2000
100 x 100 mm² 面积的曝光时间 [分钟］	3000	740	255	72	20	7
配备紫外线二极管激光器（375 纳米）
写入速度 [mm²/min］	2	10	30	110
100 x 100 mm² 面积的曝光时间 [分钟］	5000	1015	350	100

系统功能
光源	405 纳米或 375 纳米二极管激光器
基底尺寸	可变：5 x 5 mm² 至 9″ x 9″ \| 可根据要求定制
基底厚度	0 至 12 毫米
最大暴露面积	200 x 200 平方毫米
温控流化箱	温度稳定性 ± 0.1°，ISO 4 环境
实时自动对焦	光学自动对焦或气压计自动对焦
自动对焦补偿范围	80 μm
标准或高级灰度模式	分别为 128 / 256 灰度级
矢量模式	可书写无缝线条
相机概览	8 x 10 mm² 视场便于对准标记和基底导航
背面对齐（可选）	可对准基质背面的结构进行曝光

高级选项 - 性能升级
高精度坐标系	包括黄金板校准和气候监测：第二层校准至 350 纳米
专业灰度模式	1024 灰度级，专业数据转换软件
自动装载系统	处理最大 7 英寸的掩膜和最大 8 英寸的晶片，配有两个载物台、预对准器和晶片扫描仪

标准版系统尺寸
宽 × 深 × 高	1300 毫米 × 1100 毫米 × 1950 毫米（仅光刻装置）
重量	1000 千克（仅光刻装置）

安装要求
电气	230 伏交流 ± 5 %，50/60 赫兹，16 A
压缩空气	6 - 10 巴

请注意
规格取决于个别流程条件，并可能因设备配置而异。写入速度取决于像素大小和写入模式。设计和规格如有变更，恕不另行通知

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多功能性

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曝光波长

自动对焦

可变基质

2 种灰度模式

高精度选项

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