纳诺弗雷佐

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多功能模块化纳米光刻工具

  • Product Description

  • NanoFrazor 是用于热扫描探针光刻技术 (t-SPL) 的开创性商用系统，旨在实现各种应用领域的先进研究和创新。无论是探索量子器件、1D/2D 材料、量子点、约瑟夫森结还是纳米级器件阵列，NanoFrazor 都能提供无与伦比的精度和多功能性。它的功能可应对各种复杂挑战，包括灰度光子学、纳米流体结构、细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动化学反应或物理相变对局部材料进行改性。

    主要功能

    • 高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一个超锐利、可加热的探针头，可同时书写和检测复杂的纳米结构。通过闭环光刻（CLL）功能实现自校正图案化。这一创新设计为创建复杂的图案和结构提供了无与伦比的精度。
    • 直接激光升华 (DLS) 模块：DLS 模块可在一个步骤中将纳米和微观结构有效地写入同一抗蚀层，从而简化制造过程。这种集成简化了工作流程，提高了生产率。
    • 无标记叠加原位成像：NanoFrazor 的原位成像技术引入了无标记叠加和实时比较写入图案与目标图案的功能。这种独特的闭环光刻 (CLL) 功能可确保 2 纳米以下的垂直精度，以创建复杂的 2.5D（灰度）图形，并允许在写入过程中立即调整参数。
    • 10 个针尖并行书写：Decapede 功能可实现 10 个可加热吸头的并行写入，在保持 NanoFrazor 著名的精度的同时显著提高了吞吐量。这种功能非常适合大面积图案化和时间敏感型应用。
    • 模块化和可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许进行广泛的定制，以满足特定的研究需求和实验室环境。成型模式、外壳选项和软件模块都可以量身定制，以实现最大的灵活性和功能性。随着研究的不断发展，NanoFrazor 可以通过附加模块进行升级，确保其长期适应性。
    • 全面的工艺支持：经过 IBM 苏黎世研究院和海德堡纳米仪器公司 20 多年的研究和开发，NanoFrazor 用户社区受益于硬件和软件的不断进步。用户可以访问全面的最佳实践和协议库，了解蚀刻和升离等图案转移过程，确保各种应用获得最佳结果。

    应用

    • 量子设备：为量子计算和先进电子应用创建精确的纳米结构。
    • 1D/2D 材料：在石墨烯、过渡金属二卤化物和其他二维材料上绘制和修改纳米结构。
    • 光子学：实现光学系统中正弦波光栅和相位板等灰度形状的垂直精度低于 2 纳米。
    • 生物技术：开发用于细胞生长的仿生物基质，创建用于生物和化学分析的纳米流体结构。
    • 局部材料改性：实现局部热驱动过程，如化学反应和相变，促进材料科学的创新研究。

    NanoFrazor 使全世界的研究人员和技术人员都能使用复杂的热扫描探针光刻技术，从而彻底改变了纳米制造技术。其尖端功能、模块化设计和广泛的应用范围使其成为突破性研究和技术进步不可或缺的工具。

    要进一步了解 NanoFrazor，请访问我们的专门网站nanofrazor.com。配置您的系统，了解 NanoFrazor 如何将您的研究提升到新的高度。

    NanoFrazor 是用于热扫描探针光刻技术 (t-SPL) 的开创性商用系统，旨在实现各种应用领域的先进研究和创新。无论是探索量子器件、1D/2D 材料、量子点、约瑟夫森结还是纳米级器件阵列，NanoFrazor 都能提供无与伦比的精度和多功能性。它的功能可应对各种复杂挑战，包括灰度光子学、纳米流体结构、细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动化学反应或物理相变对局部材料进行改性。

    主要功能

    • 高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一个超锐利、可加热的探针头，可同时书写和检测复杂的纳米结构。通过闭环光刻（CLL）功能实现自校正图案化。这一创新设计为创建复杂的图案和结构提供了无与伦比的精度。
    • 直接激光升华 (DLS) 模块：DLS 模块可在一个步骤中将纳米和微观结构有效地写入同一抗蚀层，从而简化制造过程。这种集成简化了工作流程，提高了生产率。
    • 无标记叠加原位成像：NanoFrazor 的原位成像技术引入了无标记叠加和实时比较写入图案与目标图案的功能。这种独特的闭环光刻 (CLL) 功能可确保 2 纳米以下的垂直精度，以创建复杂的 2.5D（灰度）图形，并允许在写入过程中立即调整参数。
    • 10 个针尖并行书写：Decapede 功能可实现 10 个可加热吸头的并行写入，在保持 NanoFrazor 著名的精度的同时显著提高了吞吐量。这种功能非常适合大面积图案化和时间敏感型应用。
    • 模块化和可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许进行广泛的定制，以满足特定的研究需求和实验室环境。成型模式、外壳选项和软件模块都可以量身定制，以实现最大的灵活性和功能性。随着研究的不断发展，NanoFrazor 可以通过附加模块进行升级，确保其长期适应性。
    • 全面的工艺支持：经过 IBM 苏黎世研究院和海德堡纳米仪器公司 20 多年的研究和开发，NanoFrazor 用户社区受益于硬件和软件的不断进步。用户可以访问全面的最佳实践和协议库，了解蚀刻和升离等图案转移过程，确保各种应用获得最佳结果。

    应用

    • 量子设备：为量子计算和先进电子应用创建精确的纳米结构。
    • 1D/2D 材料：在石墨烯、过渡金属二卤化物和其他二维材料上绘制和修改纳米结构。
    • 光子学：实现光学系统中正弦波光栅和相位板等灰度形状的垂直精度低于 2 纳米。
    • 生物技术：开发用于细胞生长的仿生物基质，创建用于生物和化学分析的纳米流体结构。
    • 局部材料改性：实现局部热驱动过程，如化学反应和相变，促进材料科学的创新研究。

    NanoFrazor 使全世界的研究人员和技术人员都能使用复杂的热扫描探针光刻技术，从而彻底改变了纳米制造技术。其尖端功能、模块化设计和广泛的应用范围使其成为突破性研究和技术进步不可或缺的工具。

    要进一步了解 NanoFrazor，请访问我们的专门网站nanofrazor.com。配置您的系统，了解 NanoFrazor 如何将您的研究提升到新的高度。

  • Product Highlights

  • 热扫描探针光刻技术

    纳米图案化的新方法可实现其他方法无法实现的应用

    高分辨率

    即使几何形状复杂，也能轻松绘制纳米结构图案；最小横向特征 15 纳米，垂直分辨率 2 纳米

    无损光刻

    无带电粒子损伤，无近距离效应，升空干净利落

    兼容性

    可使用所有标准图案转移方法：掀起、蚀刻等。- 我们的 “配方手册 “中提供了知识资源和最佳做法

    独特的热悬臂

    集成式微加热器和距离传感器，易于更换，成本效益高

    精确的叠加和缝合

    指定无标记叠加和缝合精度为 25 nm，显示的叠加精度低于 10 nm

    原位成像

    图案结构特性的实时可视化

    低拥有成本

    无需洁净室、真空泵或昂贵的耗材

    脚本

    轻松实现定制操作的自动化

  • Available Modules

  • 激光升华模块

    在同一曝光步骤中对粗糙结构进行高通量曝光；405 nm 波长的 CW 光纤激光器

    Decapede

    平行写作的 10 个技巧

    独立房屋

    三层隔音、卓越的隔振 | 电脑控制的温度和湿度监测、气体流量调节 | （尺寸 185 厘米 x 78 厘米 x 128 厘米/重量 650 千克）

    全面集成手套箱

    集成在手套箱中，可在受控环境中进行纳米光刻

    灰度软件模块

    垂直分辨率小于 2 纳米的 2.5D 制图案

    自动叠加软件模块

    在现有地形上进行自动无标记覆盖，精度为 25 nm

    智能分割软件模块

    优化大版面处理和字段排序

    动态局部温度调节

    用于热化学应用，通过热量对材料进行局部改性

NanoFrazor 是用于热扫描探针光刻技术 (t-SPL) 的开创性商用系统，旨在实现各种应用领域的先进研究和创新。无论是探索量子器件、1D/2D 材料、量子点、约瑟夫森结还是纳米级器件阵列，NanoFrazor 都能提供无与伦比的精度和多功能性。它的功能可应对各种复杂挑战，包括灰度光子学、纳米流体结构、细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动化学反应或物理相变对局部材料进行改性。

主要功能

  • 高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一个超锐利、可加热的探针头，可同时书写和检测复杂的纳米结构。通过闭环光刻（CLL）功能实现自校正图案化。这一创新设计为创建复杂的图案和结构提供了无与伦比的精度。
  • 直接激光升华 (DLS) 模块：DLS 模块可在一个步骤中将纳米和微观结构有效地写入同一抗蚀层，从而简化制造过程。这种集成简化了工作流程，提高了生产率。
  • 无标记叠加原位成像：NanoFrazor 的原位成像技术引入了无标记叠加和实时比较写入图案与目标图案的功能。这种独特的闭环光刻 (CLL) 功能可确保 2 纳米以下的垂直精度，以创建复杂的 2.5D（灰度）图形，并允许在写入过程中立即调整参数。
  • 10 个针尖并行书写：Decapede 功能可实现 10 个可加热吸头的并行写入，在保持 NanoFrazor 著名的精度的同时显著提高了吞吐量。这种功能非常适合大面积图案化和时间敏感型应用。
  • 模块化和可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许进行广泛的定制，以满足特定的研究需求和实验室环境。成型模式、外壳选项和软件模块都可以量身定制，以实现最大的灵活性和功能性。随着研究的不断发展，NanoFrazor 可以通过附加模块进行升级，确保其长期适应性。
  • 全面的工艺支持：经过 IBM 苏黎世研究院和海德堡纳米仪器公司 20 多年的研究和开发，NanoFrazor 用户社区受益于硬件和软件的不断进步。用户可以访问全面的最佳实践和协议库，了解蚀刻和升离等图案转移过程，确保各种应用获得最佳结果。

应用

  • 量子设备：为量子计算和先进电子应用创建精确的纳米结构。
  • 1D/2D 材料：在石墨烯、过渡金属二卤化物和其他二维材料上绘制和修改纳米结构。
  • 光子学：实现光学系统中正弦波光栅和相位板等灰度形状的垂直精度低于 2 纳米。
  • 生物技术：开发用于细胞生长的仿生物基质，创建用于生物和化学分析的纳米流体结构。
  • 局部材料改性：实现局部热驱动过程，如化学反应和相变，促进材料科学的创新研究。

NanoFrazor 使全世界的研究人员和技术人员都能使用复杂的热扫描探针光刻技术，从而彻底改变了纳米制造技术。其尖端功能、模块化设计和广泛的应用范围使其成为突破性研究和技术进步不可或缺的工具。

要进一步了解 NanoFrazor，请访问我们的专门网站nanofrazor.com。配置您的系统，了解 NanoFrazor 如何将您的研究提升到新的高度。

NanoFrazor 是用于热扫描探针光刻技术 (t-SPL) 的开创性商用系统，旨在实现各种应用领域的先进研究和创新。无论是探索量子器件、1D/2D 材料、量子点、约瑟夫森结还是纳米级器件阵列，NanoFrazor 都能提供无与伦比的精度和多功能性。它的功能可应对各种复杂挑战，包括灰度光子学、纳米流体结构、细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动化学反应或物理相变对局部材料进行改性。

主要功能

  • 高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一个超锐利、可加热的探针头，可同时书写和检测复杂的纳米结构。通过闭环光刻（CLL）功能实现自校正图案化。这一创新设计为创建复杂的图案和结构提供了无与伦比的精度。
  • 直接激光升华 (DLS) 模块：DLS 模块可在一个步骤中将纳米和微观结构有效地写入同一抗蚀层，从而简化制造过程。这种集成简化了工作流程，提高了生产率。
  • 无标记叠加原位成像：NanoFrazor 的原位成像技术引入了无标记叠加和实时比较写入图案与目标图案的功能。这种独特的闭环光刻 (CLL) 功能可确保 2 纳米以下的垂直精度，以创建复杂的 2.5D（灰度）图形，并允许在写入过程中立即调整参数。
  • 10 个针尖并行书写：Decapede 功能可实现 10 个可加热吸头的并行写入，在保持 NanoFrazor 著名的精度的同时显著提高了吞吐量。这种功能非常适合大面积图案化和时间敏感型应用。
  • 模块化和可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许进行广泛的定制，以满足特定的研究需求和实验室环境。成型模式、外壳选项和软件模块都可以量身定制，以实现最大的灵活性和功能性。随着研究的不断发展，NanoFrazor 可以通过附加模块进行升级，确保其长期适应性。
  • 全面的工艺支持：经过 IBM 苏黎世研究院和海德堡纳米仪器公司 20 多年的研究和开发，NanoFrazor 用户社区受益于硬件和软件的不断进步。用户可以访问全面的最佳实践和协议库，了解蚀刻和升离等图案转移过程，确保各种应用获得最佳结果。

应用

  • 量子设备：为量子计算和先进电子应用创建精确的纳米结构。
  • 1D/2D 材料：在石墨烯、过渡金属二卤化物和其他二维材料上绘制和修改纳米结构。
  • 光子学：实现光学系统中正弦波光栅和相位板等灰度形状的垂直精度低于 2 纳米。
  • 生物技术：开发用于细胞生长的仿生物基质，创建用于生物和化学分析的纳米流体结构。
  • 局部材料改性：实现局部热驱动过程，如化学反应和相变，促进材料科学的创新研究。

NanoFrazor 使全世界的研究人员和技术人员都能使用复杂的热扫描探针光刻技术，从而彻底改变了纳米制造技术。其尖端功能、模块化设计和广泛的应用范围使其成为突破性研究和技术进步不可或缺的工具。

要进一步了解 NanoFrazor，请访问我们的专门网站nanofrazor.com。配置您的系统，了解 NanoFrazor 如何将您的研究提升到新的高度。

热扫描探针光刻技术

纳米图案化的新方法可实现其他方法无法实现的应用

高分辨率

即使几何形状复杂，也能轻松绘制纳米结构图案；最小横向特征 15 纳米，垂直分辨率 2 纳米

无损光刻

无带电粒子损伤，无近距离效应，升空干净利落

兼容性

可使用所有标准图案转移方法：掀起、蚀刻等。- 我们的 “配方手册 “中提供了知识资源和最佳做法

独特的热悬臂

集成式微加热器和距离传感器，易于更换，成本效益高

精确的叠加和缝合

指定无标记叠加和缝合精度为 25 nm，显示的叠加精度低于 10 nm

原位成像

图案结构特性的实时可视化

低拥有成本

无需洁净室、真空泵或昂贵的耗材

脚本

轻松实现定制操作的自动化

激光升华模块

在同一曝光步骤中对粗糙结构进行高通量曝光；405 nm 波长的 CW 光纤激光器

Decapede

平行写作的 10 个技巧

独立房屋

三层隔音、卓越的隔振 | 电脑控制的温度和湿度监测、气体流量调节 | （尺寸 185 厘米 x 78 厘米 x 128 厘米/重量 650 千克）

全面集成手套箱

集成在手套箱中，可在受控环境中进行纳米光刻

灰度软件模块

垂直分辨率小于 2 纳米的 2.5D 制图案

自动叠加软件模块

在现有地形上进行自动无标记覆盖，精度为 25 nm

智能分割软件模块

优化大版面处理和字段排序

动态局部温度调节

用于热化学应用，通过热量对材料进行局部改性

Customer applications

Electrical contacts to an InSb nanowire were fabricated using markerless overlay with the NanoFrazor. The nanowire was first precisely located using the integrated topography sensor, before the electrode design was overlaid and patterned. In order to protect the nanowire from damage, areas directly on the nanowire were patterned exclusively with t-SPL. (L. Shani*, J. Chaaban* et al 2024 Nanotechnology 35 255302)
Electrical contacts to an InSb nanowire were fabricated using markerless overlay with the NanoFrazor. The nanowire was first precisely located using the integrated topography sensor, before the electrode design was overlaid and patterned. In order to protect the nanowire from damage, areas directly on the nanowire were patterned exclusively with t-SPL.
(L. Shani*, J. Chaaban* et al 2024 Nanotechnology 35 255302)
Fabricating full devices to investigate and exploit transition metal dichalcogenides is typically very challenging, due to the environmental sensitivity of these materials. With the NanoFrazor, electrodes were overlaid and patterned without the need to expose the underlying flakes to a harsh environment.
Fabricating full devices to investigate and exploit transition metal dichalcogenides is typically very challenging, due to the environmental sensitivity of these materials. With the NanoFrazor, electrodes were overlaid and patterned without the need to expose the underlying flakes to a harsh environment.
Manipulation of light often requires sub-wavelength patterning capabilities in all three dimensions. With the NanoFrazor tool and the Closed Loop Lithography (CLL) capability, new landscapes such as optical Fourier surfaces are made possible. Large area requirements for nanophotonic applications are now also possible with the Decapede module where ten t-SPL cantilevers operate in parallel for increased throughput with sub-30 nm resolution.(Courtesy of Yannik Glauser, ETH Zürich)
Manipulation of light often requires sub-wavelength patterning capabilities in all three dimensions. With the NanoFrazor tool and the Closed Loop Lithography (CLL) capability, new landscapes such as optical Fourier surfaces are made possible. Large area requirements for nanophotonic applications are now also possible with the Decapede module where ten t-SPL cantilevers operate in parallel for increased throughput with sub-30 nm resolution.
(Courtesy of Yannik Glauser, ETH Zürich)
FET device created on 2D material flake using grayscale patterning with the NanoFrazor.(Courtesy of Dr. Xia Liu and Berke Erbas, EPFL)
FET device created on 2D material flake using grayscale patterning with the NanoFrazor.
(Courtesy of Dr. Xia Liu and Berke Erbas, EPFL)
Through standard pattern transfer processes, impressive image reversal of nanoholes was achieved, resulting in arrays of Si nanopillars with diameters ranging from 30-200 nm. These sub-100 nm diameter pillars hold immense potential for flat optics and metasurfaces applications. The Thermal Scanning Probe Lithography technology behind the NanoFrazor enables simultaneous patterning and inspection of nanoscale structures, making nanopillar fabrication seamless and efficient.
Through standard pattern transfer processes, impressive image reversal of nanoholes was achieved, resulting in arrays of Si nanopillars with diameters ranging from 30-200 nm. These sub-100 nm diameter pillars hold immense potential for flat optics and metasurfaces applications. The Thermal Scanning Probe Lithography technology behind the NanoFrazor enables simultaneous patterning and inspection of nanoscale structures, making nanopillar fabrication seamless and efficient.
Nanowire-based quantum devices can be fabricated using the ultra-sharp tip (for the high-resolution electrodes) and laser hybrid lithography (for the contact pads) with the NanoFrazor. Here is an optical image of the devices after metal deposition and lift-off.
Nanowire-based quantum devices can be fabricated using the ultra-sharp tip (for the high-resolution electrodes) and laser hybrid lithography (for the contact pads) with the NanoFrazor. Here is an optical image of the devices after metal deposition and lift-off.
Inter-digitated electrode devices play a crucial role in microelectronics and sensing applications thanks to their unique design and functionality. These inter-digitated electrodes were patterned using a mix-and-match lithography process that combined t-SPL and direct laser writing of the NanoFrazor. Active stitching was used for the t-SPL writing of 180 nm wide inter-digitated electrodes, covering a horizontal area of 160 micrometers.
Inter-digitated electrode devices play a crucial role in microelectronics and sensing applications thanks to their unique design and functionality. These inter-digitated electrodes were patterned using a mix-and-match lithography process that combined t-SPL and direct laser writing of the NanoFrazor. Active stitching was used for the t-SPL writing of 180 nm wide inter-digitated electrodes, covering a horizontal area of 160 micrometers.
By using a thermal stimulus, Thermal Scanning Probe Lithography (t-SPL) allows for the manipulation of chemically sensitive surfaces with sub-30 nm resolution capabilities to unlock unique chemical gradients. In addition, biomimicry by grayscale patterning on polymers and other biocompatible materials opens the path to exciting bionanotechnology. (Image courtesy of Prof. Dr. Elisa Riedo, NYU)
By using a thermal stimulus, Thermal Scanning Probe Lithography (t-SPL) allows for the manipulation of chemically sensitive surfaces with sub-30 nm resolution capabilities to unlock unique chemical gradients. In addition, biomimicry by grayscale patterning on polymers and other biocompatible materials opens the path to exciting bionanotechnology.
(Image courtesy of Prof. Dr. Elisa Riedo, NYU)
Nanofluidic rocking ratchets fabricated with single-nanometer accuracy by NanoFrazor patterning. A nanofluidic device with precisely engineered 3D topography harnesses Brownian motion to separate particles with down to 1 nm size difference by guiding them in opposite directions. (Courtesy of IBM Research, Publications in Science and PRL 2018)
Nanofluidic rocking ratchets fabricated with single-nanometer accuracy by NanoFrazor patterning. A nanofluidic device with precisely engineered 3D topography harnesses Brownian motion to separate particles with down to 1 nm size difference by guiding them in opposite directions.
(Courtesy of IBM Research, Publications in Science and PRL 2018)
Gaussians with varying distance ∆x written in PPA and etched into SiO2, to be stacked in distributed Bragg reflector, forming a photonic molecule. Cross-sections show Gaussian profiles for different ∆x, which controls the coupling strength between the cavities. Precise Gaussian profile is patterned using the NanoFrazor and the closed-loop lithography approach. (Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018)
Gaussians with varying distance ∆x written in PPA and etched into SiO2, to be stacked in distributed Bragg reflector, forming a photonic molecule. Cross-sections show Gaussian profiles for different ∆x, which controls the coupling strength between the cavities. Precise Gaussian profile is patterned using the NanoFrazor and the closed-loop lithography approach.
(Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018)
Indium arsenide (InAs) nanowires are notoriously sensitive to trapped charges that deteriorate the device performance by shifting the switching voltage away from zero and are difficult to remove. Such trapped charges are typical for the fabrication with electron beam lithography. The InAs nanowire device fabricated by NanoFrazor lithography, however, switches off exactly at 0 V. (Courtesy of S. Karg & A. Knoll, IBM Research – Zurich)
Indium arsenide (InAs) nanowires are notoriously sensitive to trapped charges that deteriorate the device performance by shifting the switching voltage away from zero and are difficult to remove. Such trapped charges are typical for the fabrication with electron beam lithography. The InAs nanowire device fabricated by NanoFrazor lithography, however, switches off exactly at 0 V.
(Courtesy of S. Karg & A. Knoll, IBM Research – Zurich)
A Hall-bar device patterned into a single-layer MoS2 flake using the NanoFrazor. The electrical contacts written using the heated tip exhibit vanishingly small Schottky barriers due to no resist residues and no damage to the flake. As a result, the devices with contacts and top gates patterened with the NanoFrazor, show record-high on-off ratios. (Courtesy of Prof. Elisa Riedo, NYU)
A Hall-bar device patterned into a single-layer MoS2 flake using the NanoFrazor. The electrical contacts written using the heated tip exhibit vanishingly small Schottky barriers due to no resist residues and no damage to the flake. As a result, the devices with contacts and top gates patterened with the NanoFrazor, show record-high on-off ratios.
(Courtesy of Prof. Elisa Riedo, NYU)
3D computer-generated 8-level hologram patterned in PPA and etched into Si (inset). Reactive ion etching enabled depth amplification from 70 nm to 700 nm.
3D computer-generated 8-level hologram patterned in PPA and etched into Si (inset). Reactive ion etching enabled depth amplification from 70 nm to 700 nm.

Why customers choose our systems

"我很喜欢 NanoFrazor 提供的闭环光刻功能，它对低维材料应用中的各种高精度光刻、叠加和拼接非常有帮助。此外，我还非常感谢 NanoFrazor 支持团队对我们使用该系统的各方面需求做出的迅速而专业的回应（24 小时内）"。

Xiaorui Zheng，助理教授，首席研究员
西湖大学
中国杭州

"Nanofrazor在一台紧凑型纳米光刻仪器中提供了独特的功能组合。我特别强调在二维材料上进行低损伤的无标记叠加和点阵、三维灰度纳米光刻以及材料的直接热转换和改性。

Francesco Buatier de Mongeot，意大利热那亚大学凝聚态物理实验教授
意大利热那亚大学物理学系
热那亚

Technical Data

热探头 书写直接激光 升华
单尖头Decapede
打样性能
最小结构尺寸 [nm]1515600
最小线距和间距 [半间距，纳米］25251000
灰度/三维分辨率（PPA 中的步长）[纳米］22-
最大写入字段尺寸 [X μm x Y μm] (X μm x Y μm)60 x 6060 x 6060 x 60
现场拼接精度（无标记，使用现场成像）[纳米］2525600
叠加精度（无标记，使用原位成像）[nm]2525600
写入速度（典型扫描速度）[毫米/秒］115
写入速度（50 纳米像素）[μm²/分钟］ 100010 000100 000
地形成像性能
横向成像分辨率（特征尺寸）[纳米］10
垂直分辨率（地形敏感度）[纳米］<0.5
成像速度（50 纳米分辨率）[μm²/分钟］100010 000-
基本系统功能
基底尺寸1 x 1 mm² 至 100 x 100 mm²（可达 150 x 150 mm²，但有限制）
厚度：最大 10 mm
光学显微镜0.6 μm 数字分辨率，2 μm 衍射极限，1.0 mm x 1.0 mm 视场，自动对焦
磁性悬臂支架快速 (<1 分钟)、准确地交换喷嘴
振动隔离主动隔振台
可选系统功能/模块化
直接激光升华激光源和光学器件：405 nm 波长 CW 光纤激光器，300 mW，1.2 μm 最小焦斑尺寸 激光自动对焦：使用 NanoFrazor 悬臂的距离传感器
Decapede平行写作的 10 个技巧
独立房屋三层隔音、卓越的隔振效果（> 98% @ 10 Hz） | 电脑控制的温度和 湿度监控、气体流量调节 | （尺寸 185 厘米 x 78 厘米 x 128 厘米/重量 650 千克）
全面集成手套箱集成在手套箱中，可在受控环境中进行纳米光刻
NanoFrazor 悬臂的特点（单针尖和十针尖）
集成组件针尖加热器、地形传感器、静电驱动
喷嘴几何形状圆锥形尖端，<，半径 10 纳米，长度 750 纳米
针尖加热器温度范围25 °C - 1100 °C (<1 K 设定点分辨率)
基本系统尺寸和安装要求
高 × 宽 × 深台式装置：44 厘米 x 40 厘米 x 45 厘米
控制器：84 厘米 x 60 厘米 x 56 厘米
重量台式装置：50 千克
控制器：80 千克
电源输入1 x 110 或 220 伏交流电，10 A
软件功能
GDS 和位图导入、256 级灰度、地形图像分析和绘图叠加、针尖和激光写入之间的混合与匹配、 全自动校准例程、Python 脚本编程

请注意
规格取决于个别流程条件，并可能因设备配置而异。写入速度取决于像素大小和写入模式。设计和规格如有变更，恕不另行通知。

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