德国海德堡——Heidelberg Instruments 对其广受认可的 DWL 66⁺ 直写光刻系统进行了显著的性能升级，进一步巩固了其作为微纳加工终极科研工具的地位。该系统现可实现市场领先的最小特征尺寸 200 纳米，并具备高达 65,536 级的先进灰度处理能力，助力科研人员在多个维度上突破创新边界。

全新的高分辨率模式 Write Mode XR 实现了分辨率、质量与速度的卓越结合。其 200 纳米的最小特征尺寸支持复杂的微纳结构制造，使得原本依赖耗时电子束光刻的量子器件、光学与光子学应用成为可能。这一进步不仅加快了研发周期，也释放出高成本的电子束系统用于最具挑战性的任务。

与高分辨率相辅相成的是该系统的专业级灰度光刻能力。DWL 66⁺ 拥有前所未有的 65,536 个强度等级，可在厚度达 150 微米的光刻胶中制造复杂的 2.5D 微结构，如微透镜和其他微光学器件，表面光滑度表现出色。

经过 30 年的持续开发，DWL 66⁺ 已在全球安装超过 400 台，作为研发与快速原型制作的可靠、稳健且高度灵活的平台，其性能早已得到验证。此次升级进一步提升了其价值，为用户提供了卓越分辨率与操作灵活性的强大组合。

如需了解更多关于 DWL 66⁺ 光刻系统的信息，请访问：
https://heidelberg-instruments.com/zh-hans/product/dwl-66/