瑞士苏黎世 / 德国海德堡 —— Heidelberg Instruments 自豪地宣布推出其全新的 NanoFrazor 纳米光刻系统，进一步提升在微纳制造领域数十年积累的专业技术。 这款多功能工具为高分辨率、灵活性、高通量和模块化而设计，可配备十个并行图案刻写悬臂，大幅提高生产效率。 结合热扫描探针光刻（t-SPL）、直接激光升华（DLS）以及增强的自动化功能，NanoFrazor 支持量子器件、1D/2D 材料、纳米级电子学等前沿研究，以及纳米光子学、超表面光学和纳米流体等领域的应用。

NanoFrazor 的核心是一枚超锐利、可加热探针尖端，可实现横向分辨率细至 15 nm、垂直分辨率低至 2 nm 的精确纳米结构刻写。其原位检测系统提供闭环光刻（CLL），可进行无标记叠加和实时调整，确保即使在最复杂的灰度图案中也能保持亚 2 nm 的垂直精度。此突破性功能使光子学、生物仿生基底以及通过加热引发化学反应或相变的局部材料改性等先进应用成为可能。

关键特性：

• 热扫描探针光刻（t-SPL）：用于关键纳米器件组件的高精度刻写。
• 模块化设计：NanoFrazor 的可配置平台可根据应用和实验室需求量身定制解决方案。随着研究的进展，可安装额外模块和升级，实现灵活性与可扩展性。
• 分辨率与通量：通过全新的 Decapede 模块，利用 10 个独立热悬臂，使通量提升 10 倍，在不牺牲分辨率的情况下实现高速刻写。
• 混合式 Mix & Match 光刻：NanoFrazor 支持直接激光升华（DLS）模块，实现更快的微米级分辨率刻写，非常适合大面积图案，如接触线和焊盘。

NanoFrazor 的研发最初源自 IBM Research Zurich，经过数十年的技术积累，如今在 Heidelberg Instruments Nano 持续发展。一套全面的刻蚀、剥离等工艺最佳实践库确保用户可在各种应用中优化结果。

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