2022/2023 年应用图像竞赛

祝贺获奖者!

我们非常高兴地宣布 2022/2023 图像竞赛的结果,该竞赛展示了我们设备在先进研究中的能力。

本次竞赛吸引了来自世界各地的大量投稿,突出了纳米技术、生物医学工程、量子器件、柔性电子、光子学等领域中正在发生的卓越突破与创新。本次竞赛真正展现了前沿研究的精神以及我们技术的潜力。

自 2022 年 9 月 1 日至 2023 年 2 月 28 日,所有 Heidelberg Instruments 产品的用户均被邀请参加我们的全新“先进微纳制造应用图像竞赛”。该竞赛为全球社区提供了一个展示其工作的机会,参与者可通过 Heidelberg Instruments 的传播渠道展示成果,并有机会赢得总计 10,000 欧元的奖金。每个奖项将以捐赠形式发放。

  • 请上传1至5张图片和/或一段短视频(时长不超过3分钟),以展示一项创新应用;下文将统称为“图片”。<
  • 提交的图片应突出展示海德堡仪器(Heidelberg Instruments)设备的应用(包括VPG、DWL、MLA、µPG、µMLA、NanoFrazor及MPO 100等当前或过往的任何系统)。
  • 图片必须没有第三方版权。
  • 这些图像可以使用任何设备(例如相机或显微镜)拍摄。
  • 为达到说明目的(例如添加比例尺或标注元素名称),图片可以进行轻微编辑。
  • 海德堡仪器公司将拥有在线或印刷形式使用这些图片的全部权利。图片将标注提交者选择的参考信息(作者姓名和/或所属机构)。
  • 获奖者将由海德堡仪器公司提名的一个委员会选出。
  • 针对不同申请的多份提交将被接受,但应分别提交。
  • 图片的说明性(图片应有助于理解该应用程序)。
  • 图像的美观度与质量(准确性、清晰度及分辨率)。
  • 对应用程序及其相关图片的清晰简洁描述。
  • 该应用程序的创造力和创新性。
  • 该应用在节能或环保方面的优势也将被纳入考量。

一等奖 / 5,000 €

基于 SU-8 模具制造的合成生物学微流控器件

今年应用程序图片大赛的第一名由

Kei Ikemori and Prof. Yuichi Wakamoto
Graduate School of Arts and Sciences, The University of Tokyo, Japan

使用系统:
Heidelberg Instruments µMLA Maskless Aligner

描述:
具有合成基因电路和荧光蛋白的细菌在微腔中培养,模拟多细胞生物中的干细胞。
微腔通过使用 pMLA 制备的 SU-8 模具在 PDMS 中制成。
在该项目中,在一个方形微腔内制作了 Heidelberg Instruments 标志,并在其中培养了大肠杆菌细胞。
蛋白质的荧光协同传播,形成包围标志的光波。
这种基因表达动力学的人工构建对于理解多细胞生物的发育模式具有重要意义。

评审意见:
尽管我们很欣赏使用了我们的标志,但将该作品评为一等奖的主要原因在于,我们很高兴看到我们的系统正在推动生物和医学研究的发展。这不仅有益于人类健康,也有助于理解和保护自然环境。

合成生物学微流控器件 SU-8 模具,µMLA

二等奖 / 3,000 €

用于扩展微技术功能并构建集成量子实验室的原子芯片光学光栅

Sascha de Wall
Institute of Micro Production Technology, University of Hannover, Germany

使用系统:
Heidelberg Instruments DWL 66+ Laser Lithography System

描述:
玻色-爱因斯坦凝聚(BEC)已研究超过 20 年,目前用于惯性传感器和重力仪。
原子芯片技术缩小了 BEC 设备尺寸,使其适用于商业应用。
通过集成纳米结构光学反射光栅,可形成光栅磁光阱,从而减少冷却原子所需的激光数量。
为了获得最佳性能,光栅需要直接集成到系统中。
使用 DWL 66+ 对光刻胶进行图形化。
通过离子束刻蚀将图形转移到硅基底中。
为了实现所需的光学反射特性,通过物理气相沉积(PVD)在基底上沉积铝层。

评审意见:
量子研究是一个快速发展的领域,具有巨大的潜力,我们为我们的系统能够参与其中而感到自豪。

原子芯片上的光栅

三等奖 / 2,000 €

制造半导体MoS纳米电路

Dr. Giorgio Zambito
Department of Physics, University of Genoa, Italy

使用系统:
Heidelberg Instruments NanoFrazor Scholar

描述:
这是一张呈DIFILab标志形状的二硫化钼(MoS2)纳米电路的扫描电子显微镜图像。该二硫化钼结构是使用NanoFrazor Scholar制备的。(插图:通过导电原子力显微镜获得的二硫化钼纳米指的电流图和形貌图。该二硫化钼纳米指以及电接触区域的高分辨率部分均由NanoFrazor制备而成。)

所得的局部导电率图表明,二维过渡金属二卤化物(TMD)纳米电路有望作为构建二维半导体互连结构的基元,并在纳米尺度上具有可预测的特性。

评审意见:
二维材料因其独特特性而具有广泛应用前景,我们为我们的系统适用于该领域研究而感到自豪。

半导体 MoS₂ 纳米电路 NanoFrazor

该图片的一个版本已用于科研论文中 “Deterministic Thermal Sculpting of Large-Scale 2D Semiconductor Nanocircuits”, published in Advanced Materials Interfaces, Volume 10, Issue 5.

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