我们非常高兴地宣布最近的图像竞赛结果,这次竞赛展示了我们的工具在高级研究方面的能力。
本次竞赛吸引了来自世界各地的大量参赛作品,突出展示了纳米技术、生物医学工程、量子设备、柔性电子器件、光子学等领域的重大突破和创新。





随着人工智能(AI)和高性能计算(HPC)推动单片电路走向过时,行业正全面转向先进封装。然而,芯粒位移和基板翘曲等挑战可能在封装离开工厂前就“杀死”良率。此时,微电子的新英雄登场:无掩模光刻。了解“自适应对准”如何让您的 chiplets“活下来继续计算”。 (“让芯粒活下去一天再算一天” live to compute another day)

精彩一周!9月15–18日,我们有幸在英国南安普敦参加第51届国际微纳工程大会(MNE 2025),与微纳加工社区相聚。

Heidelberg Instruments自豪地庆祝MLA 150无掩膜光刻机十周年——这一突破重新定义了全球洁净室中的高分辨率光刻。

Heidelberg Instruments Korea(海德堡仪器韩国公司) 庆祝其 成立 20 周年,二十年来始终坚持客户承诺与合作伙伴关系!基于信任、忠诚与长期合作,Heidelberg Instruments Korea 继续在为本地客户带来创新方面发挥着至关重要的作用。