高分辨率和超高分辨率

光学扫描探针光刻技术 300 纳米,热扫描探针光刻技术 15 纳米

  • Description

  • 分辨率不仅仅是尽可能小的特征尺寸。根据不同的应用,高分辨率的决定因素可能是特征密度、几何形状限制、线边粗糙度或光盘均匀性。

    在分辨率低于 100 纳米的超高分辨率光刻技术中,光刻胶选择和蚀刻的实际工艺以及计量功能成为关键因素。

    我们为光刻系统提供的规格是保守的,在现场验收时很容易达到,这意味着我们系统的曝光结果可能比宣传的更好(如几个例子所示)。

    我们努力将技术推向分辨率的物理极限。我们的光学系统可以达到低至 300 纳米的尺寸,而我们的NanoFrazor 热扫描探针光刻系统可以利用超锐利的加热针尖实现 15 纳米的孤立特征尺寸。

分辨率不仅仅是尽可能小的特征尺寸。根据不同的应用,高分辨率的决定因素可能是特征密度、几何形状限制、线边粗糙度或光盘均匀性。

在分辨率低于 100 纳米的超高分辨率光刻技术中,光刻胶选择和蚀刻的实际工艺以及计量功能成为关键因素。

我们为光刻系统提供的规格是保守的,在现场验收时很容易达到,这意味着我们系统的曝光结果可能比宣传的更好(如几个例子所示)。

我们努力将技术推向分辨率的物理极限。我们的光学系统可以达到低至 300 纳米的尺寸,而我们的NanoFrazor 热扫描探针光刻系统可以利用超锐利的加热针尖实现 15 纳米的孤立特征尺寸。

Related images

suitable Systems

NanoFrazor 台式

纳米光栅

  • 热扫描探针光刻系统

多功能模块化 工具 组合热扫描探头 光刻, 直接激光升华和 先进的 自动化用于 尖端研发。研发。

DWL 66+

DWL 66+

  • 直接写入激光光刻系统

我们最通用的研究和原型制作系统,具有可变分辨率和多种选项。

Scroll to Top