精确放置图案

位置和叠加精度高

说明
在某些应用中，局部或全局图案放置精度是光刻技术最关键的要求。
我们的直写光刻系统使用差分激光干涉仪、光学正面和/或背面对准或原位成像来测量各种参数，以便在样品上准确定位。气候控制室和 Zerodur 样品卡盘可最大限度地减少不易测量和主动补偿的热漂移。

与依赖掩模或印章的掩模对准机、步进机或压印光刻设备相比，直接写入光刻（Direct Write Lithography）在图形位置精度方面具有关键优势。
这些设备无法补偿来自前一道工艺步骤、热效应或基板翘曲所导致的局部或全局不完美。
而在直接写入光刻中，可以通过局部与全局位置矩阵校正（local and global position matrix corrections）——包括 x 方向比例误差、y 方向比例误差、旋转、平移、正交误差等——对版图数据进行单独调整，从而补偿由于样品或设备缺陷导致的与期望图形的偏差。

在某些应用中，局部或全局图案放置精度是光刻技术最关键的要求。
我们的直写光刻系统使用差分激光干涉仪、光学正面和/或背面对准或原位成像来测量各种参数，以便在样品上准确定位。气候控制室和 Zerodur 样品卡盘可最大限度地减少不易测量和主动补偿的热漂移。

与依赖掩模或印章的掩模对准机、步进机或压印光刻设备相比，直接写入光刻（Direct Write Lithography）在图形位置精度方面具有关键优势。
这些设备无法补偿来自前一道工艺步骤、热效应或基板翘曲所导致的局部或全局不完美。
而在直接写入光刻中，可以通过局部与全局位置矩阵校正（local and global position matrix corrections）——包括 x 方向比例误差、y 方向比例误差、旋转、平移、正交误差等——对版图数据进行单独调整，从而补偿由于样品或设备缺陷导致的与期望图形的偏差。