精确放置图案

位置和叠加精度高

Description
在某些应用中，局部或全局图案放置精度是光刻技术最关键的要求。
我们的直写光刻系统使用差分激光干涉仪、光学正面和/或背面对准或原位成像来测量各种参数，以便在样品上准确定位。气候控制室和 Zerodur 样品卡盘可最大限度地减少不易测量和主动补偿的热漂移。

与光罩对准器、步进器或受光罩或印章约束的压印光刻工具相比，直接写入光刻技术在图案放置精度方面具有关键优势。这些工具无法弥补先前制造步骤、热效应或弯曲造成的局部或整体缺陷。在直接写入光刻技术中，布局数据可通过局部和全局位置矩阵校正（X-尺度误差、Y-尺度误差、旋转、平移、正交误差）进行单独调整，以补偿样品或工具缺陷造成的与所需图案的偏差。

在某些应用中，局部或全局图案放置精度是光刻技术最关键的要求。
我们的直写光刻系统使用差分激光干涉仪、光学正面和/或背面对准或原位成像来测量各种参数，以便在样品上准确定位。气候控制室和 Zerodur 样品卡盘可最大限度地减少不易测量和主动补偿的热漂移。

与光罩对准器、步进器或受光罩或印章约束的压印光刻工具相比，直接写入光刻技术在图案放置精度方面具有关键优势。这些工具无法弥补先前制造步骤、热效应或弯曲造成的局部或整体缺陷。在直接写入光刻技术中，布局数据可通过局部和全局位置矩阵校正（X-尺度误差、Y-尺度误差、旋转、平移、正交误差）进行单独调整，以补偿样品或工具缺陷造成的与所需图案的偏差。

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