现场检测和计量
在不使用标记的情况下启用精确叠加
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Description
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传统的光刻工艺需要先对抗蚀剂进行湿显影,然后才能对写入的特征进行检查和测量。
直接写入光刻工艺(如NanoFrazor光刻和低吞吐量激光写入)可直接升华热阻(如 PPA)。这种直接去除光刻胶的方法可立即对写入特征进行检测和计量,有利于工艺开发和快速周转制造。此外,通过已获专利的 “闭环光刻 “方法,NanoFrazor还能实现并保持极高的图案质量。
NanoFrazor使用与制图相同的针尖,对书写结构进行原位检测。该技术源自诺贝尔奖获得者格尔德-宾尼格(Gerd Binnig)的发现,即 IBM Millipede 悬臂的电阻与距离密切相关。这一发现促成了易于使用且可靠的NanoFrazor距离传感方法,从而能够对软表面(如抗蚀剂涂层)的高分辨率浅层形貌进行快速成像和精确计量。
传统的光刻工艺需要先对抗蚀剂进行湿显影,然后才能对写入的特征进行检查和测量。
直接写入光刻工艺(如NanoFrazor光刻和低吞吐量激光写入)可直接升华热阻(如 PPA)。这种直接去除光刻胶的方法可立即对写入特征进行检测和计量,有利于工艺开发和快速周转制造。此外,通过已获专利的 “闭环光刻 “方法,NanoFrazor还能实现并保持极高的图案质量。
NanoFrazor使用与制图相同的针尖,对书写结构进行原位检测。该技术源自诺贝尔奖获得者格尔德-宾尼格(Gerd Binnig)的发现,即 IBM Millipede 悬臂的电阻与距离密切相关。这一发现促成了易于使用且可靠的NanoFrazor距离传感方法,从而能够对软表面(如抗蚀剂涂层)的高分辨率浅层形貌进行快速成像和精确计量。