热扫描探针光刻（t-SPL）是一种先进的纳米级图案化和纳米制造技术，可实现高分辨率结构的直接写入，无需掩膜、电子束或复杂的光刻胶处理。
在这种扫描探针光刻方式中，超尖热探针局部改变或升华热敏光刻胶。通过精确控制探针的温度和位置，可以以极高的精度和可重复性书写纳米级结构。
由于同一探针也可以在成像模式下扫描表面，因此图案化和检测可以在同一系统上完成，从而提供即时反馈并对所制造的纳米结构实现精确控制。
NanoFrazor 原理
热扫描探针光刻构成了海德堡仪器（Heidelberg Instruments）开发的 NanoFrazor 技术的核心操作原理。
使用 NanoFrazor 系统，通过加热探针尖端局部去除光刻胶材料来创建纳米级图案，从而实现高度可控的三维高分辨率表面图案化。在光刻步骤之后，可以使用标准纳米制造工艺将图案化的光刻胶转移到下方材料中，例如：
这种与现有微纳制造工艺流程的兼容性，使热扫描探针光刻成为先进器件制造和科研的多功能工具。
从存储器研究到纳米制造
热扫描探针光刻的起源可追溯到 IBM 苏黎世研究院（IBM Research – Zurich）在开创性“千足虫项目”（Millipede Project）中进行的研究。该技术最初作为超高密度数据存储的概念开发，随后发展为一种强大的直接写入纳米光刻方法，能够制造复杂的纳米级结构。
如今，该技术可通过海德堡仪器的 NanoFrazor 平台商业化获取，并被广泛应用于纳米科学、纳米技术研究以及先进的纳米制造领域。
热扫描探针光刻的优势
与许多传统纳米光刻技术相比，热扫描探针光刻具有若干重要优势：
- 高分辨率纳米级图案化
- 无需光掩膜的直接写入光刻
- 图案化与成像同步进行
- 无需湿法光刻胶显影
- 无需邻近效应校正
- 无需真空系统操作
这些特性简化了纳米制造流程，并实现了对结构几何形状和位置的精确控制。
多功能纳米级制造
由于热扫描探针光刻（t-SPL）兼容标准图案转移技术和多种基底材料，它可用于制造多种应用所需的结构，包括：
通过将高分辨率纳米光刻技术与直接表面检测相结合，热扫描探针光刻技术为纳米尺度研究和器件开发提供了强大的平台。
