热扫描探针光刻技术（t-SPL）是一种图案化方法，在这种方法中，热敏抗蚀剂通过超锐利的加热探针升华。这种方法可以在同一工具上写入复杂的高分辨率纳米结构，并对其进行视觉检测。

这种方法构成了 NanoFrazor工作原理的核心。在图案化之后，标准的图案转移方法（如升华或蚀刻）就可以应用到图案化的基底上。这项技术最早出现在苏黎世 IBM 研究院的 Millipede 存储器项目框架内，随后发展成为一种完整的纳米制造方法。现在，这项技术可以通过Heidelberg Instruments 以NanoFrazor 系统的形式实现商业化。

该 NanoFrazor该技术是传统纳米制造方法的替代技术。它既能进行高分辨率图案化，又能以 1 毫米/秒的扫描速度进行成像。这种方法避免了其他纳米光刻技术所表现出的许多问题–无需湿显影、无需邻近效应校正、无需真空。与任何标准图案转移工艺和基底材料的兼容性为其开辟了广泛的应用领域。