无掩膜激光光刻技术

微尺度上的直接书写

Description
传统的光刻技术需要制作或购买光掩膜，然后使用步进器或掩膜校准器将 CAD 图形转移到覆盖有抗蚀剂的晶片或平板上。Heidelberg Instruments 提供^VPG+系列和ULTRA 等先进系统，专为光掩膜市场设计，应用范围从成熟的半导体光掩膜到电子和 FPD 光掩膜。

然而，对于许多其他应用而言，无掩模光刻技术是一种强大而可持续的替代技术。这种高精度、高度灵活的技术是研发、快速原型设计和小批量生产（特征尺寸大于 1 微米）的理想选择。无掩膜光刻技术无需使用光掩膜，从而降低了前期成本、材料浪费和化学消耗，特别适用于对设计灵活性和快速迭代周期要求较高的中小批量生产。

在无掩模光刻技术中，图案通过空间光调制器（SLM）直接曝光在基底表面，起到 “动态光掩模 “的作用。只需上传和转换设计文件，系统就会处理剩下的工作。无需订购光掩膜，没有延迟，没有昂贵的掩膜迭代。随着设计的发展，只需重新加载文件并执行新的曝光，所需的时间仅为传统光掩膜工艺的一小部分。

除了速度和灵活性之外，无掩模系统还能最大限度地减少材料浪费、能源消耗和化学品使用，从而促进可持续发展，是现代微细加工的负责任选择。

点击此处了解我们的无掩膜对准器 (MLA) 和直写光刻 (DWL) 系统。

传统的光刻技术需要制作或购买光掩膜，然后使用步进器或掩膜校准器将 CAD 图形转移到覆盖有抗蚀剂的晶片或平板上。Heidelberg Instruments 提供^VPG+系列和ULTRA 等先进系统，专为光掩膜市场设计，应用范围从成熟的半导体光掩膜到电子和 FPD 光掩膜。

然而，对于许多其他应用而言，无掩模光刻技术是一种强大而可持续的替代技术。这种高精度、高度灵活的技术是研发、快速原型设计和小批量生产（特征尺寸大于 1 微米）的理想选择。无掩膜光刻技术无需使用光掩膜，从而降低了前期成本、材料浪费和化学消耗，特别适用于对设计灵活性和快速迭代周期要求较高的中小批量生产。

在无掩模光刻技术中，图案通过空间光调制器（SLM）直接曝光在基底表面，起到 “动态光掩模 “的作用。只需上传和转换设计文件，系统就会处理剩下的工作。无需订购光掩膜，没有延迟，没有昂贵的掩膜迭代。随着设计的发展，只需重新加载文件并执行新的曝光，所需的时间仅为传统光掩膜工艺的一小部分。

除了速度和灵活性之外，无掩模系统还能最大限度地减少材料浪费、能源消耗和化学品使用，从而促进可持续发展，是现代微细加工的负责任选择。

点击此处了解我们的无掩膜对准器 (MLA) 和直写光刻 (DWL) 系统。

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A spatial Light Modulator (SLM) (essentially a “dynamic mask”) – is used to project the design directly onto the wafer. The full image may consist of many individual images (in stripe form). Typical types of “dynamic” or “programmable” masks are AOM, GLV, and DMD.

Direct-write lithography uses a laser with light modulator to “write” the feature onto the surface. Any type of photolithographic process and resist can be used, opening the entire world of photolithographic micro-structuring to the Maskless Lithography approach.

Microfluidics channels in 25 µm of SU-8 fabricated by Maskless Lithography.

Suitable Systems

MLA 150

无掩膜对准器

用于快速原型制作的最快无掩模工具，是掩模校准器的替代品。非常适合标准二进制光刻。

DWL 66⁺

直接写入激光光刻系统

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µMLA

无掩膜对准器

可配置的紧凑型台式无掩模对准仪，配有光栅扫描和矢量曝光模块。

MLA 300

无掩膜对准器

针对灵活的工业生产进行了优化，精度最高，可与工业生产线无缝集成。

DWL 2000 GS /DWL 4000 GS

直接写入激光光刻系统

市场上最先进的工业灰度光刻工具。

^VPG+200、^VPG+ 400 和^VPG+800

音量模式发生器

功能强大的生产工具，适用于 i-line 树脂中的标准光掩模和微结构。

^VPG+1400 FPD

音量模式发生器

在大型基板上生产光掩膜，非常适合显示应用。

超

激光掩膜书写器

专门设计用于生产成熟半导体光掩膜的工具。