光刻技术会改变或恶化样品的特性，例如，暴露在电子或离子等高能带电粒子中。这可能会导致与有机抗蚀剂产生不必要的共价键、捕获电荷或晶格缺陷。在使用带有绝缘层的芯片设计或包含敏感材料（如二维材料或纳米线）的设备时，由此产生的污染或缺陷会大大降低设备的性能。

标准 NanoFrazor标准光刻工艺的加热头仅加热顶部抗蚀层。抗蚀层堆叠下面的敏感材料不会被明显加热，在对顶层抗蚀层进行图案化时也不会受到任何伤害。
。 NanoFrazor光刻机还可以安装在手套箱内，这有利于对在空气中变质的样品进行纳米光刻。