小型和非常规基质
便于研发或测试曝光
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Description
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许多应用要求在标准晶片和掩膜格式之外的特殊样品上进行光刻。针对不同基底的独特要求,我们积累了大量经验。在研究中,通常使用小块晶片。因此,我们完整的研发产品组合非常专业,可轻松处理小至几毫米的样品。
其他应用需要在非常规基底上进行光刻,如长杆、棱镜甚至曲面。如果您的应用需要非常规基底,请与我们联系。
我们的大多数标准系统已经可以处理各种基底,我们还可以为几乎任何尺寸和类型的基底开发定制系统。海德堡仪器公司在海德堡总部自行生产平台。
许多应用要求在标准晶片和掩膜格式之外的特殊样品上进行光刻。针对不同基底的独特要求,我们积累了大量经验。在研究中,通常使用小块晶片。因此,我们完整的研发产品组合非常专业,可轻松处理小至几毫米的样品。
其他应用需要在非常规基底上进行光刻,如长杆、棱镜甚至曲面。如果您的应用需要非常规基底,请与我们联系。
我们的大多数标准系统已经可以处理各种基底,我们还可以为几乎任何尺寸和类型的基底开发定制系统。海德堡仪器公司在海德堡总部自行生产平台。
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Suitable Systems
µMLA
- 无掩膜对准器
可配置的紧凑型台式无掩模对准仪,配有光栅扫描和矢量曝光模块。
纳米光栅
- 热扫描探针光刻系统
多功能模块化 工具 组合热扫描探头 光刻, 直接激光升华和 先进的 自动化用于 尖端研发。研发。