现场检测和计量

在不使用标记的情况下启用精确叠加

说明
传统的光刻工艺需要先对抗蚀剂进行湿显影，然后才能对写入的特征进行检查和测量。

直写光刻工艺（如NanoFrazor光刻和低通量激光直写模组）可直接升华 PPA 等热敏电阻。这种直接去除抗蚀层的方法可实现对直写特征的即时检测和计量，有利于工艺开发和快速周转制造。此外，它还允许NanoFrazor通过获得专利的 “闭环光刻 “方法实现并保持极高的图案质量。

NanoFrazor使用与图案化相同的针尖对写入结构进行原位检测。该技术源于诺贝尔奖获得者格尔德-宾尼格（Gerd Binnig）的发现，即 IBM Millipede 悬臂的电阻与距离密切相关。这一发现促成了易于使用且可靠的NanoFrazor距离传感方法，使其能够对软表面（如抗蚀剂涂层）的高分辨率浅层形貌进行快速成像和精确计量。

传统的光刻工艺需要先对抗蚀剂进行湿显影，然后才能对写入的特征进行检查和测量。

直写光刻工艺（如NanoFrazor光刻和低通量激光直写模组）可直接升华 PPA 等热敏电阻。这种直接去除抗蚀层的方法可实现对直写特征的即时检测和计量，有利于工艺开发和快速周转制造。此外，它还允许NanoFrazor通过获得专利的 “闭环光刻 “方法实现并保持极高的图案质量。

NanoFrazor使用与图案化相同的针尖对写入结构进行原位检测。该技术源于诺贝尔奖获得者格尔德-宾尼格（Gerd Binnig）的发现，即 IBM Millipede 悬臂的电阻与距离密切相关。这一发现促成了易于使用且可靠的NanoFrazor距离传感方法，使其能够对软表面（如抗蚀剂涂层）的高分辨率浅层形貌进行快速成像和精确计量。