核心技术

海德堡仪器开发用于微纳制造的先进光刻技术，实现从微米级到纳米级的精确图案化。我们的产品组合将灵活的无掩膜激光光刻用于直接写入图案，与超高分辨率纳米光刻的热扫描探针光刻（t-SPL）相结合。

无掩模激光光刻实现快速原型制作、精确图案定位以及无需光掩模的灰度光刻。这使其非常适合复杂2D和2.5D微结构、微光学、MEMS以及先进研究器件的制造。

作为对这一方法的补充，基于热扫描探针光刻的 NanoFrazor 平台实现了非侵入式纳米图案化，精度可达 10 纳米以下，将直接写入纳米光刻与同一设备上的原位检测和计量相结合。

这些技术共同支持高分辨率微纳米结构的制造，包括复杂的拓扑、高纵横比特征以及小型或非传统基板上的结构，从而推动光子学、微光学、纳米技术和先进材料研究的创新。