我们的核心技术
Heidelberg Instruments 的技术组合包括用于直接书写二维 (2D) 和二维半 (2.5D) 微结构、掩模制造及先进激光光刻应用的高精度无掩模激光光刻（MLA）系统。此外，我们基于**热扫描探针光刻（t-SPL）**的 NanoFrazor 系统能够实现无与伦比的高精度纳米图案加工。两者结合，构成了 Heidelberg Instruments 在微纳制造领域的核心技术基础。
Heidelberg Instruments 的技术组合包括用于直接书写二维 (2D) 和二维半 (2.5D) 微结构、掩模制造及先进激光光刻应用的高精度无掩模激光光刻（MLA）系统。此外，我们基于**热扫描探针光刻（t-SPL）**的 NanoFrazor 系统能够实现无与伦比的高精度纳米图案加工。两者结合，构成了 Heidelberg Instruments 在微纳制造领域的核心技术基础。
