核心技术

Heidelberg Instruments 技术组合包括高精度无掩模激光光刻（MLA）系统，用于直接写入 2D 和 2.5D 微结构、掩模制作和高级激光光刻应用。作为补充，我们的NanoFrazor 基于热扫描探针光刻技术 (t-SPL)，能够以无与伦比的精度实现尖端纳米图案化。这些技术共同构成了Heidelberg Instruments 在微米和纳米加工领域的核心专长。