探索十年：HEIDELBERG INSTRUMENTS MLA 150无掩模光刻机迎来十周年庆典
16 9 月, 2025
Heidelberg Instruments自豪地庆祝MLA 150无掩膜光刻机十周年——这一突破重新定义了全球洁净室中的高分辨率光刻。
新闻发布
Heidelberg Instruments 提升 DWL 66⁺ 光刻系统，实现行业领先的 200 纳米分辨率和 65,536 灰度级。
15 7 月, 2025
Heidelberg Instruments 对其广受认可的 DWL 66⁺ 进行了显著的性能升级，进一步巩固了其作为微纳加工终极科研工具的地位。
Heidelberg Instruments 报告称亚洲领先的光掩膜制造商订购了 VPG+ 1400 FPD 体积图案发生器
7 11 月, 2024
Heidelberg Instruments 其 VPG+ 1400 FPD 体积图案发生器已获得亚洲领先光掩膜制造商的两份大订单。
Heidelberg Instruments 推出全新模块化、速度提升 10 倍的 NanoFrazor 纳米光刻工具
8 10 月, 2024
瑞士苏黎世 / 德国海德堡 —— Heidelbe
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