纳米压印模板

纳米压印光刻（NIL）是一种高通量方法，用于复制光子学、光学和纳米流体学应用中的二维或 2.5 维纳米结构。该工艺需要通过直接写入纳米或微光刻技术生成精确的主模板。

尽管所有Heidelberg Instruments 都能制作适合复制的二维结构，但灰度光刻技术却能制作复杂的拓扑结构。无掩模灰度激光光刻技术是一种快速技术，可在基底上的光刻胶层中生成复杂的拓扑结构，然后将其用作复制的母版。DWL 系列是快速制作此类模板的理想选择。

采用热扫描探针灰度光刻技术的 NanoFrazor该系统采用热扫描探针灰度光刻技术，可以生产出横向分辨率更高的母版，垂直分辨率高达 1 纳米（Z 轴），令人印象深刻。