材料科学
新材料的光刻技术
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说明
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使用纳米和微米尺度的材料时,需要注意图案和器件尺寸对材料特性的影响。
直接写入光刻为在这些尺度上修改和塑造材料提供了一种灵活的方法,使得能够控制一系列物理特性。Heidelberg Instruments 的 DWL 和 MLA 系列使用直接写入激光光刻来创建微尺度的图案、结构和纹理,以及用于电子器件和测量的接触点。此外,热扫描探针光刻(t-SPL)可用于在纳米尺度上启动材料修改,并具有施加局部加热的附加能力。 NanoFrazor 提供了一种高度精确且多功能的光刻工具,允许在纳米尺度的材料上施加超快速加热、冷却和高局部压力,从而打开通往在宏观尺度上可能无法获得的物质状态的途径。
这些直接写入光刻技术可用于研究和控制材料的物理特性,在高性能电子器件、能源存储和水净化等领域具有潜在的应用前景。随着图案和器件尺寸的不断缩小,直接写入光刻技术为纳米技术的持续发展提供了一条前景广阔的道路。
下面列出了一些与材料科学和适用于该应用的系统有关的图片。
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要求
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在任意材料上绘制图案
非侵入式光刻技术
局部加热
精确的温度控制
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解决方案
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热转换
用于在纳米级局部生成改性材料和新材料(NanoFrazor)精确叠合
用于将电极对准纳米级材料,无需对准标记(NanoFrazor)无需无尘室
使用新型材料的高分辨率光刻技术非侵入式光刻技术
用于保存敏感材料的物理特性,否则这些材料会因带电粒子辐照或与空气接触而受损或毁坏(手套箱溶液)
使用纳米和微米尺度的材料时,需要注意图案和器件尺寸对材料特性的影响。
直接写入光刻为在这些尺度上修改和塑造材料提供了一种灵活的方法,使得能够控制一系列物理特性。Heidelberg Instruments 的 DWL 和 MLA 系列使用直接写入激光光刻来创建微尺度的图案、结构和纹理,以及用于电子器件和测量的接触点。
此外,热扫描探针光刻(t-SPL)可用于在纳米尺度上启动材料修改,并具有施加局部加热的附加能力。 NanoFrazor 提供了一种高度精确且多功能的光刻工具,允许在纳米尺度的材料上施加超快速加热、冷却和高局部压力,从而打开通往在宏观尺度上可能无法获得的物质状态的途径。
这些直接写入光刻技术可用于研究和控制材料的物理特性,在高性能电子器件、能源存储和水净化等领域具有潜在的应用前景。随着图案和器件尺寸的不断缩小,直接写入光刻技术为纳米技术的持续发展提供了一条前景广阔的道路。
下面列出了一些与材料科学和适用于该应用的系统有关的图片。
在任意材料上绘制图案
非侵入式光刻技术
局部加热
精确的温度控制
热转换
精确叠合
无需无尘室
非侵入式光刻技术
应用图像








合适的系统
DWL 66+ 激光直写光刻系统
- 直接写入激光光刻系统
我们最通用的研究和原型制作系统,具有可变分辨率和多种选项。
MLA 150 无掩模光刻系统
- 无掩膜对准器
用于快速原型制作的最快无掩模工具,是掩模校准器的替代品。非常适合标准二进制光刻。
NanoFrazor 纳米制造系统
- 热扫描探针光刻系统
多功能模块化工具,结合热扫描探针光刻、直接激光升华及先进自动化技术,助力前沿研发。
