显示器
Heidelberg Instruments 的尖端显示解决方案
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说明
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引领显示技术的未来
在 Heidelberg Instruments,我们正在重新定义显示技术的生产,处于精密度和光学创新的前沿。作为现代电子设备的重要组成部分,显示屏为各种设备提供视觉接口,从智能手机到大型平板显示器(FPD)不等。
面向下一代显示屏的先进光刻技术
我们的先进光刻工具通过使用高分辨率光掩模,实现像素化显示屏的精确图案化。这些光掩模可将复杂图案准确转移到显示屏基板上,确保复杂设计的无缝集成。通过我们的直接写入技术,我们提供无与伦比的精度,提升下一代显示屏的整体性能和质量。
显示屏生产的全面解决方案
Heidelberg Instruments 的尖端工具在显示器生产的多个阶段发挥着关键作用:
- 大尺寸光掩模图案化: 我们的 VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD 体积图案生成器专为大尺寸光掩模图案化而设计,支持最大 1400 x 1850 mm² 的掩模尺寸。 这使它们非常适合用于各代(G4 至 G8.6)平板显示器的掩模,使用石英基板上的铬。 对于追求精度和可扩展性的制造商而言,它们在大型显示屏的高通量光掩模生产中树立了新的标准。
- 大面积半色调光掩模: VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD 提供生产平板显示器大面积半色调光掩模所需的精度。 它们采用先进的计量和对准功能,例如基于 Cognex 人工智能的图像识别,确保多层掩模的精确对准。 坐标系统的线性和非线性校正,使得在不同设备上制作的掩模能够实现良好的叠加精度。
- 可实现的显示层: 我们的体积图案生成器在关键尺寸(CD)和对准方面提供高精度,能够制作用于不同显示技术的多层光掩模,包括彩色滤光片(CF)、触摸屏面板(TSP)、阵列(Array)、精密金属掩模(FFM)等。
- 背光照明面板: 我们 DWL 生产线的灰阶光刻系统可创建 2.5D 微结构,包括扩散器和微透镜阵列,从而优化显示屏背光照明的效率和均匀性。
推动未来显示技术的发展
我们的工具支持下一代显示屏的开发,具备卓越的性能特性,包括更高的刷新率、更大尺寸、更高的能效,以及在扩展现实(XR)中的先进应用。尤其是 XR 应用,需要高分辨率的近眼显示屏,使像素设计的复杂性达到前所未有的水平。
致力于创新
Heidelberg Instruments 致力于在显示技术领域持续创新。我们的专业知识和先进解决方案为未来发展铺平道路,确保客户在竞争激烈的显示市场中保持领先。借助我们的工具,显示技术的可能性无限,推动技术进步,重新定义视觉体验。我们在全球范围内提供广泛的定制选项和全面的服务,并保证快速响应。
立即联系我们,了解我们的定制解决方案如何提升您的显示屏生产效率。
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要求
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最小化村落
高度均匀性和一致性
高吞吐量
大面积
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解决方案
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TEM00性能卓越的激光器
适用于典型的半导体抗蚀剂干涉位置测量
实时舞台地图校正,分辨率低至 1.2 nm(ULTRA & VPG+)。快速大面积图案化
1400 x 1400 mm² 不超过四小时(VPG+ 1400 FPD)将村落最小化
通过多种控制功能:间距优化、双曝光模式、软缝合
引领显示技术的未来
在 Heidelberg Instruments,我们正在重新定义显示技术的生产,处于精密度和光学创新的前沿。作为现代电子设备的重要组成部分,显示屏为各种设备提供视觉接口,从智能手机到大型平板显示器(FPD)不等。
面向下一代显示屏的先进光刻技术
我们的先进光刻工具通过使用高分辨率光掩模,实现像素化显示屏的精确图案化。这些光掩模可将复杂图案准确转移到显示屏基板上,确保复杂设计的无缝集成。通过我们的直接写入技术,我们提供无与伦比的精度,提升下一代显示屏的整体性能和质量。
显示屏生产的全面解决方案
Heidelberg Instruments 的尖端工具在显示器生产的多个阶段发挥着关键作用:
- 大尺寸光掩模图案化: 我们的 VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD 体积图案生成器专为大尺寸光掩模图案化而设计,支持最大 1400 x 1850 mm² 的掩模尺寸。 这使它们非常适合用于各代(G4 至 G8.6)平板显示器的掩模,使用石英基板上的铬。 对于追求精度和可扩展性的制造商而言,它们在大型显示屏的高通量光掩模生产中树立了新的标准。
- 大面积半色调光掩模: VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD 提供生产平板显示器大面积半色调光掩模所需的精度。 它们采用先进的计量和对准功能,例如基于 Cognex 人工智能的图像识别,确保多层掩模的精确对准。 坐标系统的线性和非线性校正,使得在不同设备上制作的掩模能够实现良好的叠加精度。
- 可实现的显示层: 我们的体积图案生成器在关键尺寸(CD)和对准方面提供高精度,能够制作用于不同显示技术的多层光掩模,包括彩色滤光片(CF)、触摸屏面板(TSP)、阵列(Array)、精密金属掩模(FFM)等。
- 背光照明面板: 我们 DWL 生产线的灰阶光刻系统可创建 2.5D 微结构,包括扩散器和微透镜阵列,从而优化显示屏背光照明的效率和均匀性。
推动未来显示技术的发展
我们的工具支持下一代显示屏的开发,具备卓越的性能特性,包括更高的刷新率、更大尺寸、更高的能效,以及在扩展现实(XR)中的先进应用。尤其是 XR 应用,需要高分辨率的近眼显示屏,使像素设计的复杂性达到前所未有的水平。
致力于创新
Heidelberg Instruments 致力于在显示技术领域持续创新。我们的专业知识和先进解决方案为未来发展铺平道路,确保客户在竞争激烈的显示市场中保持领先。借助我们的工具,显示技术的可能性无限,推动技术进步,重新定义视觉体验。我们在全球范围内提供广泛的定制选项和全面的服务,并保证快速响应。
立即联系我们,了解我们的定制解决方案如何提升您的显示屏生产效率。
最小化村落
高度均匀性和一致性
高吞吐量
大面积
TEM00性能卓越的激光器
干涉位置测量
快速大面积图案化
将村落最小化
应用图像






合适的系统
VPG+ 200、VPG+ 400 和 VPG+ 800 三维图案生成器
- 音量模式发生器
适用于 i-line 光刻胶的标准光掩膜和微结构的强大生产工具。
VPG 300 DI 无掩模投影光刻系统
- 无掩模步进器
用于高精度和高分辨率微结构的无掩模直接成像仪。
ULTRA 半导体掩模直写系统
- 激光掩膜书写器
专门设计用于生产成熟半导体光掩膜的工具。
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光直写光刻系统
- 直接写入激光光刻系统
市场上最先进的工业灰度光刻工具。
