微流控与纳流控
精确流体操纵
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说明
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微流体和纳米流体学是快速增长的领域,分别涉及在微米和纳米尺寸的通道中操控少量液体。这些技术在化学和生物研究、医学诊断以及工业领域有广泛应用,并推动了芯片实验室(lab-on-a-chip)设备的发展,为化学和生物反应提供了微型化平台。
这些设备具有减少样品用量、加快反应速度以及提高灵敏度等优势,使其在药物研发、即时诊断(point-of-care diagnostics)和环境监测中具有重要价值。微流体设备可以包含多种结构,制造材料包括 SU-8 和 mr-DWL 光刻胶,并使用 DWL 和 MLA 系列等直接写入光刻工具进行图案化。
另一方面,纳米流体学在纳米和生物技术应用中至关重要,因为这些应用需要对极微小的液体体积进行精确处理。其范围包括 DNA 测序、分选、组装,以及对纳米颗粒、蛋白质、酶和病毒的操控。纳米流体结构需要极佳的形状控制,材料可包括生物相容性聚合物和环氧树脂等。NanoFrazor 采用灰度图案化能力,使纳米流体系统能够高效制造。其闭环光刻方法和集成拓扑传感器确保了高精度与超高分辨率,使其在纳米流体应用中具有显著优势。随着技术进步,微流体和纳米流体学将在从基础研究到医学诊断的多个领域中发挥越来越重要的作用。
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要求
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光滑表面
高纵横比结构
超高分辨率孔和通道
精确的通道灰度光刻(粒子引导)
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解决方案
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高分辨率(DWL 和 MLA 系列)和超高分辨率(NanoFrazor)
绘制小直径孔和窄通道图案灰度光刻技术(DWL 系列、µMLA & NanoFrazor)
用于绘制简单或复杂的 2.5D 地形图案(如锥形通道)高纵横比
带垂直侧壁的高通道(MLA 系列)无下切
该结构可用于复制纳米级热转换(NanoFrazor)
例如,胺基的局部结合
微流体和纳米流体学是快速增长的领域,分别涉及在微米和纳米尺寸的通道中操控少量液体。这些技术在化学和生物研究、医学诊断以及工业领域有广泛应用,并推动了芯片实验室(lab-on-a-chip)设备的发展,为化学和生物反应提供了微型化平台。
这些设备具有减少样品用量、加快反应速度以及提高灵敏度等优势,使其在药物研发、即时诊断(point-of-care diagnostics)和环境监测中具有重要价值。微流体设备可以包含多种结构,制造材料包括 SU-8 和 mr-DWL 光刻胶,并使用 DWL 和 MLA 系列等直接写入光刻工具进行图案化。
另一方面,纳米流体学在纳米和生物技术应用中至关重要,因为这些应用需要对极微小的液体体积进行精确处理。其范围包括 DNA 测序、分选、组装,以及对纳米颗粒、蛋白质、酶和病毒的操控。纳米流体结构需要极佳的形状控制,材料可包括生物相容性聚合物和环氧树脂等。NanoFrazor 采用灰度图案化能力,使纳米流体系统能够高效制造。其闭环光刻方法和集成拓扑传感器确保了高精度与超高分辨率,使其在纳米流体应用中具有显著优势。随着技术进步,微流体和纳米流体学将在从基础研究到医学诊断的多个领域中发挥越来越重要的作用。
光滑表面
高纵横比结构
超高分辨率孔和通道
精确的通道灰度光刻(粒子引导)
高分辨率(DWL 和 MLA 系列)和超高分辨率(NanoFrazor)
灰度光刻技术(DWL 系列、µMLA & NanoFrazor)
高纵横比
无下切
纳米级热转换(NanoFrazor)
应用图像












合适的系统
MLA 150 无掩模光刻系统
- 无掩膜对准器
用于快速原型制作的最快无掩模工具,是掩模校准器的替代品。非常适合标准二进制光刻。
DWL 66+ 激光直写光刻系统
- 直接写入激光光刻系统
我们最通用的研究和原型制作系统,具有可变分辨率和多种选项。
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光直写光刻系统
- 直接写入激光光刻系统
市场上最先进的工业灰度光刻工具。
NanoFrazor 纳米制造系统
- 热扫描探针光刻系统
多功能模块化工具,结合热扫描探针光刻、直接激光升华及先进自动化技术,助力前沿研发。
