微机电系统
灵活的小批量生产
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Description
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MEMS 是微机电系统(Micro-Electro-Mechanical Systems)的简称,是尺寸在 1 微米到 100 微米之间的微型系统组件。这些微小的设备可以实现现有设备的微型化,利用宏观尺度上不存在的物理原理提供新的功能,并促进在微观世界中运行的工具的开发。微机电系统可以是复杂的机器,如传感器和致动器,也可以是简单的结构,如悬臂、齿轮或其他机械零件。
微机电系统应用广泛,包括加速计、陀螺仪、压力传感器、生物传感器、微泵、微阀等。MOEMS 或微光机电系统与标准的 MEMS 不同,它将微光学与其他 MEMS 元件结合在一起。MOEMS 的例子包括光开关、光调制器和光互连。
微机电系统的制造依赖于半导体工艺技术,包括层沉积、光刻图案和蚀刻技术,以实现所需的器件形状。
直接写入光刻技术是一种高度灵活的技术,可在纳米和微米尺度上修改和塑造材料。海德堡仪器公司的 DWL 和 MLA 系列直接写入激光光刻工具可用于在硅片上制作蚀刻掩膜、在厚光刻胶中制作高纵横比结构,以及在清除光刻胶图案中进行材料沉积。请访问相应的产品页面了解更多信息(见下文)。
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Requirements
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Solutions
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MEMS 是微机电系统(Micro-Electro-Mechanical Systems)的简称,是尺寸在 1 微米到 100 微米之间的微型系统组件。这些微小的设备可以实现现有设备的微型化,利用宏观尺度上不存在的物理原理提供新的功能,并促进在微观世界中运行的工具的开发。微机电系统可以是复杂的机器,如传感器和致动器,也可以是简单的结构,如悬臂、齿轮或其他机械零件。
微机电系统应用广泛,包括加速计、陀螺仪、压力传感器、生物传感器、微泵、微阀等。MOEMS 或微光机电系统与标准的 MEMS 不同,它将微光学与其他 MEMS 元件结合在一起。MOEMS 的例子包括光开关、光调制器和光互连。
微机电系统的制造依赖于半导体工艺技术,包括层沉积、光刻图案和蚀刻技术,以实现所需的器件形状。
直接写入光刻技术是一种高度灵活的技术,可在纳米和微米尺度上修改和塑造材料。海德堡仪器公司的 DWL 和 MLA 系列直接写入激光光刻工具可用于在硅片上制作蚀刻掩膜、在厚光刻胶中制作高纵横比结构,以及在清除光刻胶图案中进行材料沉积。请访问相应的产品页面了解更多信息(见下文)。
Application images
suitable Systems
DWL 66+
- 直接写入激光光刻系统
我们最通用的研究和原型制作系统,具有可变分辨率和多种选项。
工作重点 150
- 无掩膜对准器
用于快速原型制作的最快无掩模工具,是掩模校准器的替代品。非常适合标准二进制光刻。
MLA 300
- 无掩膜对准器
针对灵活的工业生产进行了优化,精度最高,可与工业生产线无缝集成。
VPG+200、VPG+ 400 和 VPG+800
- 音量模式发生器
功能强大的生产工具,适用于 i-line 树脂中的标准光掩模和微结构。