微光学和光子学

反光镜、散光镜和微透镜的精湛工艺

  • Description

  • 由于智能手机和平板电脑对先进微型光学器件的需求日益增长,微型透镜阵列和复杂菲涅尔透镜成为紧凑型相机光学器件的关键部件。这些微型透镜可用于波前传感器、光纤耦合或均匀化光源等多种应用。这些微型透镜的生产首先要使用灰度光刻技术生成模具,然后通过 LIGA 复制模具以创建金属垫片,用作成型、压印或热压印的主工具。灰度光刻技术还可用于制造微棱镜、波导、炽热光栅、CGH(计算机生成全息图)和特殊防伪标签等。直接写入光刻技术可精确制造 VLS(可变行距)和标准光栅。DWL 系列包括各种高性能灰度光刻系统,如用于研发的DWL 66+和用于高端需求的DWL 2000 GS / DWL 4000 GS

    NanoFrazor是一种功能强大的工具,可用于各种微型和纳米光学应用。它的高分辨率和灰度光刻功能使其成为制造衍射光栅、光学傅里叶表面、相位板和更复杂的精细调整光学元件等纳米光学结构的理想工具。

  • Requirements

  • Solutions

由于智能手机和平板电脑对先进微型光学器件的需求日益增长,微型透镜阵列和复杂菲涅尔透镜成为紧凑型相机光学器件的关键部件。这些微型透镜可用于波前传感器、光纤耦合或均匀化光源等多种应用。这些微型透镜的生产首先要使用灰度光刻技术生成模具,然后通过 LIGA 复制模具以创建金属垫片,用作成型、压印或热压印的主工具。灰度光刻技术还可用于制造微棱镜、波导、炽热光栅、CGH(计算机生成全息图)和特殊防伪标签等。直接写入光刻技术可精确制造 VLS(可变行距)和标准光栅。DWL 系列包括各种高性能灰度光刻系统,如用于研发的DWL 66+和用于高端需求的DWL 2000 GS / DWL 4000 GS

NanoFrazor是一种功能强大的工具,可用于各种微型和纳米光学应用。它的高分辨率和灰度光刻功能使其成为制造衍射光栅、光学傅里叶表面、相位板和更复杂的精细调整光学元件等纳米光学结构的理想工具。

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