半导体
助力半导体创新:Heidelberg Instruments' 精密光刻工具
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说明
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半导体的特点是,当受到电压、热量或光线等外部因素影响时,其导电性能会发生变化。它们是现代技术中电子设备的基础。半导体器件是在由各种材料组成的晶片上制造的。有些晶片由单一元素(如硅)组成,而有些晶片则融合了多种元素,形成具有独特电子特性的复杂晶体结构,如化合物半导体。
光刻技术是半导体制造中的一项关键工艺,它利用掩膜或直接写入技术将精确的图案转移到晶片上。它在确定构成集成电路和其他半导体器件基础的复杂结构方面发挥着至关重要的作用。
海德堡仪器公司(Heidelberg Instruments)提供的工具适用于半导体设备制造过程中的多个关键工序,从要求高精度和高均匀性的网罩到自适应图案化的高吞吐量无掩模曝光。这些激光光刻工具具有多功能性,可在光阻涂层表面直接写入,从而促进快速原型设计和定制。它们的对准精度可支持多层器件生产,并能纠正单个芯片的不对准和变形。这也使它们适用于半导体封装。
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要求
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优质抗蚀剂
高度均匀性和一致性
高吞吐量
与现有流程的兼容性
对齐和叠加精度
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解决方案
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合格的TEM00激光器
适用于典型半导体光刻胶(ULTRA 和 VPG+)环境控制:
自校准计量系统干涉位置测量
实时舞台地图校正第二层对准精度 < 100 纳米
(ULTRA)处理翘曲的基板
(MLA 300)
半导体的特点是,当受到电压、热量或光线等外部因素影响时,其导电性能会发生变化。它们是现代技术中电子设备的基础。半导体器件是在由各种材料组成的晶片上制造的。有些晶片由单一元素(如硅)组成,而有些晶片则融合了多种元素,形成具有独特电子特性的复杂晶体结构,如化合物半导体。
光刻技术是半导体制造中的一项关键工艺,它利用掩膜或直接写入技术将精确的图案转移到晶片上。它在确定构成集成电路和其他半导体器件基础的复杂结构方面发挥着至关重要的作用。
海德堡仪器公司(Heidelberg Instruments)提供的工具适用于半导体设备制造过程中的多个关键工序,从要求高精度和高均匀性的网罩到自适应图案化的高吞吐量无掩模曝光。这些激光光刻工具具有多功能性,可在光阻涂层表面直接写入,从而促进快速原型设计和定制。它们的对准精度可支持多层器件生产,并能纠正单个芯片的不对准和变形。这也使它们适用于半导体封装。
优质抗蚀剂
高度均匀性和一致性
高吞吐量
与现有流程的兼容性
对齐和叠加精度
合格的TEM00激光器
环境控制:
干涉位置测量
第二层对准精度 < 100 纳米
处理翘曲的基板
应用图像

合适的系统
VPG+ 200、VPG+ 400 和 VPG+ 800
- 音量模式发生器
功能强大的生产工具,适用于 i-line 树脂中的标准光掩模和微结构。
VPG 300 DI 无掩模投影光刻系统
- 无掩模步进器
用于高精度和高分辨率微结构的无掩模直接成像仪。
ULTRA 半导体掩模直写系统
- 激光掩膜书写器
专门设计用于生产成熟半导体光掩膜的工具。