光掩膜

光刻生产中的掩模

Description
光掩膜是光刻工艺中的重要模板，是生产集成电路、高性能电子元件、半导体器件、显示器等的精确模板。尽管晶体管微型化技术不断进步，但基于光掩膜的紫外光刻技术仍是微细加工的领先技术。

通常情况下，光掩膜是由钠钙或石英基板制成，基板上有一层薄薄的金属层–通常是铬–用于吸收特定波长的光，如 i 线、g 线和 h 线。光掩膜上的透明部分定义了电路图案，使用掩膜对准器或步进器将图案转移到光敏层上。在半导体和显示器制造中，需要使用多个光掩膜来完成设备的复杂层。为了避免污染，半导体光掩膜都有一层薄膜保护。

光掩膜上的图案是通过高分辨率激光光刻或电子束光刻生成的，具体取决于所需的精度。作为主模板，光掩膜必须满足严格的规格要求，包括均匀的线宽、精确的图案定位、最小的边缘粗糙度和极小的特征尺寸。这些严格的公差对于实现宽广的工艺窗口、确保大批量生产的可靠性至关重要。

海德堡仪器公司的^VPG+系统是大批量图案发生器，具有直接写入功能，可生产小面积到大面积的光掩膜，图像保真度高，产量大。此外，ULTRA 是一款经过认证的用于半导体光掩膜生产的激光掩膜刻制机，具有极高的精度，可刻制小至 500 纳米的结构。这使它成为对先进半导体和显示器应用有严格标准要求的制造商的理想选择。
Requirements
Solutions

光掩膜是光刻工艺中的重要模板，是生产集成电路、高性能电子元件、半导体器件、显示器等的精确模板。尽管晶体管微型化技术不断进步，但基于光掩膜的紫外光刻技术仍是微细加工的领先技术。

通常情况下，光掩膜是由钠钙或石英基板制成，基板上有一层薄薄的金属层–通常是铬–用于吸收特定波长的光，如 i 线、g 线和 h 线。光掩膜上的透明部分定义了电路图案，使用掩膜对准器或步进器将图案转移到光敏层上。在半导体和显示器制造中，需要使用多个光掩膜来完成设备的复杂层。为了避免污染，半导体光掩膜都有一层薄膜保护。

光掩膜上的图案是通过高分辨率激光光刻或电子束光刻生成的，具体取决于所需的精度。作为主模板，光掩膜必须满足严格的规格要求，包括均匀的线宽、精确的图案定位、最小的边缘粗糙度和极小的特征尺寸。这些严格的公差对于实现宽广的工艺窗口、确保大批量生产的可靠性至关重要。

海德堡仪器公司的^VPG+系统是大批量图案发生器，具有直接写入功能，可生产小面积到大面积的光掩膜，图像保真度高，产量大。此外，ULTRA 是一款经过认证的用于半导体光掩膜生产的激光掩膜刻制机，具有极高的精度，可刻制小至 500 纳米的结构。这使它成为对先进半导体和显示器应用有严格标准要求的制造商的理想选择。