传感器

海德堡仪器公司的直接写入器以无与伦比的灵活性和精度重新定义了传感器设计

Description
海德堡仪器公司的直接写入器具有高精度，适用于具有精细细节和复杂几何形状的传感器（VPG 和 DWL 系列）。它们可以使用各种材料，包括聚合物、金属和陶瓷。这种灵活性有利于创建具有不同功能层的传感器，并针对特定的传感应用优化材料特性。

无掩膜光刻系统是快速制作传感器设计原型的重要工具。研究人员和工程师可以快速迭代和测试不同的传感器配置，而无需耗时的掩膜更换或复杂的光刻设置（VPG 300 DI、MLA 系列）。

分辨率高达 20 纳米的热扫描探针光刻技术有可能提高制造传感器的灵敏度。它为复杂传感器和其他纳米技术的开发提供了新的可能性。
Requirements
Solutions

海德堡仪器公司的直接写入器具有高精度，适用于具有精细细节和复杂几何形状的传感器（VPG 和 DWL 系列）。它们可以使用各种材料，包括聚合物、金属和陶瓷。这种灵活性有利于创建具有不同功能层的传感器，并针对特定的传感应用优化材料特性。

无掩膜光刻系统是快速制作传感器设计原型的重要工具。研究人员和工程师可以快速迭代和测试不同的传感器配置，而无需耗时的掩膜更换或复杂的光刻设置（VPG 300 DI、MLA 系列）。

分辨率高达 20 纳米的热扫描探针光刻技术有可能提高制造传感器的灵敏度。它为复杂传感器和其他纳米技术的开发提供了新的可能性。

Application images

mr-DWL exposed with a DWL 66+ with 405nm wavelength; comb of lines with varying lengths (linewidth & gap 50 µm) — mr-DWL exposed with a DWL 66⁺ with 405nm wavelength; comb of lines with varying lengths (linewidth & gap 50 µm)

Fabrication of sensor and digital circuits as part of the research made in the direction of flexible electronics. Multi-Layer thin-film transistor made of six different materials. (Courtesy of Instituto Politécnico Nacional (IPN), Mexico)

Pattern exposed in AZ positive resist (~3µm) aligned to a pattern structured in a wafer. The structured wafer contains a stack of three metals.

Part of Bolometer, 500nm gap in 700nm AZ MIR 701 positive resist. Courtesy of Tian Yuan Global Corp.

Part of Bolometer, 750nm gap in 700nm AZ MIR 701 positive resist. Courtesy of Tian Yuan Global Corp.

SQUID (Superconducting QUantum Interference Device) made with up to 18 layers process (Lift-off, plating, etching). Critical alignment requirements through thick layers. Yield increased by a factor 3 compared to mask aligners. (Courtesy of Kirchhoff Institute for Physics, Heidelberg)

Overlay exposure of a 5x5 Matrix of image sensors in SiGe SPADs (Single Photon Avallanche Diode) (Courtesy of IMS Chips)

Line Detector in SiGe-SPADs (single photon avalanche diodes made of silicon-germanium) - SEM cross-section (Courtesy of IMS Chips)

Structured photoresist of the Metal conductor tracks for SiGe-SPADs (single photon avalanche diodes made of silicon-germanium) (Courtesy of IMS Chips)

Freeform optic printed on-device: a EEL (Edge Emitting Laser), used for Beam Shaping in Sensors. (Courtesy of nanoplus Nanosystems and Technologies GmbH)

An SEM image of a 20 nm gap in between two metal electrodes patterned by NanoFrazor and transferred via a 3-layer lift-off process

suitable Systems

工作重点 150

无掩膜对准器

用于快速原型制作的最快无掩模工具，是掩模校准器的替代品。非常适合标准二进制光刻。

µMLA

无掩膜对准器

可配置的紧凑型台式无掩模对准仪，配有光栅扫描和矢量曝光模块。

DWL⁶⁶⁺

直接写入激光光刻系统

我们最通用的研究和原型制作系统，具有可变分辨率和多种选项。

纳米光栅

热扫描探针光刻系统

多功能模块化工具组合热扫描探头光刻, 直接激光升华和先进的自动化用于尖端研发。研发。

^VPG+200、^VPG+ 400 和^VPG+800

音量模式发生器

功能强大的生产工具，适用于 i-line 树脂中的标准光掩模和微结构。

VPG 300 DI

无掩模步进器

用于高精度和高分辨率微结构的无掩模直接成像仪。

超

激光掩膜书写器

专门设计用于生产成熟半导体光掩膜的工具。