一维和二维材料

利用一维（1D）和二维（2D）结构制造的设备可以展现出迷人的物理现象，在高性能电子设备、传感和量子计算以及用于通信和能量收集的光子设备等领域具有潜在的应用前景。它们还可用于航空航天和汽车工业的超强和轻质材料、可穿戴技术和显示器的柔性和透明电子器件，以及能源存储和水净化。然而，杂质和缺陷会极大地限制这些设备的性能。

为了克服这一挑战，海德堡仪器公司提供的工具可以对一维或二维材料进行精确制图，同时避免杂质和缺陷。例如，NanoFrazor为此类应用提供了无损光刻解决方案，不会产生充电效应，也不会有高能光束撞击材料表面。利用集成的形貌传感器和自动化工作流程，可直接在NanoFrazor软件中对相关纳米结构进行精确叠加。NanoFrazor具有与原子力显微镜类似的原位成像功能，可将超高分辨率图案与线材、带材、管材或薄片等小元件准确对齐，从而降低引入杂质或缺陷的可能性。海德堡仪器公司还为器件制造提供了专用的后处理配方，以补充叠层纳米光刻技术。

此外，MLA 系列无掩模对准器还具有 “绘制模式”，可在小型元件的实时显微镜图像上创建叠加设计，因此非常适合创建连接，同时还能防止杂质和缺陷。

在这些工具的帮助下，一维和二维材料制成的设备可以提高性能，并可广泛应用于各种领域。