用于一维和二维材料研究的光刻技术

采用一维（1D）和二维（2D）结构制成的器件能够展现出引人入胜的物理现象，从而在高性能电子器件、传感和量子计算领域，以及用于通信和能量 harvesting 的光子器件中开辟了潜在的应用前景。此外，它们在航空航天和汽车工业所需的超强轻质材料、可穿戴技术和显示器所需的柔性透明电子器件，以及储能和水净化领域也具有潜在的应用价值。 然而，杂质和缺陷会显著限制这些器件的性能。

为应对这一挑战，海德堡仪器公司提供了能够以高精度和准确度对一维或二维材料进行图案化，同时避免产生杂质和缺陷的工具。例如，NanoFrazor 为此类应用提供了无损伤的光刻解决方案，既不会产生电荷效应，也不会让高能光束照射到材料表面。利用集成式地形传感器与支持自动化的工作流程，可在NanoFrazor软件中直接对目标纳米结构进行精确对准。NanoFrazor具备类似于原子力显微镜（AFM）的原位成像能力，能够对包含细丝、带状、管状或片状等微小元件的超高清分辨率图案进行精确对准，从而降低引入杂质或缺陷的风险。海德堡仪器还提供专用于器件制造的后处理配方，以配合具有对准功能的纳米光刻工艺。

此外，MLA 系列无掩模对准器还具有 “绘制模式”，可在小型元件的实时显微镜图像上创建叠加设计，因此非常适合创建连接，同时还能防止杂质和缺陷。

借助这些工具，由 1D 和 2D 材料制成的器件可实现更好的性能，并应用于更广泛的领域。