Heidelberg Instruments将前往英国南安普敦，参加第51届国际微纳工程大会（MNE 2025）！9月15日至18日，我们将以白金赞助商和参展商身份出席。欢迎与我们一同探索无掩膜激光光刻和直写技术的最新进展。

我们的团队将在现场分享见解，讨论创新成果，并与充满活力的光刻社区一起探讨未来项目。

特别里程碑：MLA 150十周年

今年的会议尤为特别，因为我们将庆祝MLA 150无掩膜光刻机的十周年纪念。自2015年推出以来，MLA 150已成为全球洁净室中不可或缺的主力设备，提供高性能、灵活且具成本效益的图案化能力。我们很高兴能与促成这一成功的社区共同庆祝这一里程碑。

访问我们的周年纪念页面，并于周一下午6点来到10号展位，与我们一起享用一杯鸡尾酒吧！

致敬科研卓越

我们很荣幸能继续支持享有盛誉的MNE Fellow Award。今年，我们祝贺Lund大学名誉教授、创新先进材料研究所（AM-I）主任Lars Montelius教授荣获该奖，以表彰他杰出的科研贡献。能够支持并庆祝他具有影响力的工作是我们的荣幸。

不要错过我们的专题演讲

请将以下由我方专家和合作伙伴带来的报告加入您的MNE日程：

• BEAMeeting 演讲：
  9月15日星期一 下午2:00（BST），来自利兹大学（University of Leeds）的 Mark Rosamond
  将在 GenISys 合作举办的 BEAMeeting 上分享他使用 MLA 150 无掩模光刻机（Maskless Aligner） 的经验。
• 闪电演讲（Shotgun Presentation）：
  9月16日星期二 下午1:10，来自 Heidelberg Instruments 的 Sven Preuss
  将在 5分钟 内介绍 DWL 66⁺ 的最新升级成果——这是一款最先进的科研光刻工具。
• 重点报告（Featured Talk）：
  9月17日星期三 上午11:45，来自 Heidelberg Instruments Nano 的 Julia Stark
  将在主会场（Plenary Hall）介绍热扫描探针光刻（thermal scanning probe lithography）并行化
  及其在大面积图案化方面的最新进展。

我们迫不及待地想在MNE 2025与同行、合作伙伴和先锋们相聚。欢迎访问我们的#10展位，共同探讨您的下一个项目。南安普敦见！