瑞士苏黎世 — 在 2024 年模块化 NanoFrazor 纳米光刻系统成功推出之后，Heidelberg Instruments 自豪地宣布完成了最新 NanoFrazor 的安装。该系统配备了最新模块，可实现并行化热扫描探针光刻（t-SPL）。该 Beta 站点由研究合作伙伴 EPFL——瑞士洛桑联邦理工学院承办。此次安装标志着双方在推动下一代纳米制造技术落地应用方面迈出了重要一步，有望在纳米尺度研究与应用领域取得突破性进展。
该系统专为高达 20 nm 的高分辨率光刻而设计，同时兼具应用灵活性和更高的吞吐量。其特点包括：十个加热探针同时写入的并行化 t-SPL、直接激光升华（DLS）以及先进的自动化功能。Heidelberg Instruments Nano AG 首席技术官 Emine Cagin 博士表示：“t-SPL 的并行化是推动热纳米光刻发展的必然下一步。然而，其实现过程远非易事。”她补充道：“并行化历经十年的研发，最终形成了全新的、可扩展的电子与软件框架，如今正驱动着全新的 NanoFrazor 系统。”
名为 Decapede 的新模块在不牺牲高分辨率能力的前提下，将系统吞吐量提升至原来的十倍。EPFL 微系统实验室的博士后研究员 Berke Erbas 表示：“随着吞吐量的提升，我们正在考虑将能够实现对二维材料进行确定性、局域应变工程的灰度纳米表面，从芯片级扩展到晶圆级，以实现潜在的工业集成。”他还指出：“我们也致力于扩大通过 t-SPL 与干法刻蚀工艺制备的灰度纳米压印光刻模具的规模。”
EPFL —— 创新枢纽
EPFL 在 t-SPL 领域的专业能力以及其广泛的纳米制造基础，使其成为理想的 Beta 站点，也延续了与 Heidelberg Instruments 长期而稳固的合作关系。参与其中的研究团队联盟汇聚了在 t-SPL 和多种纳米制造技术方面的深厚知识，同时带来了新的理念和富有挑战性的应用。持续反馈的积极投入将有助于 Heidelberg Instruments 进一步验证系统性能并优化用户界面。
从纳米电子到量子器件——展望未来
EPFL Beta 站点不仅是系统能力的测试与验证平台，更是推动纳米光刻创新的重要催化剂。其应用涵盖纳米电子学、等离激元学、量子器件以及生物纳米传感器。EPFL 微工程与材料科学教授 Jürgen Brugger 强调：“t-SPL 由于其快速原型制作能力以及在短时间内生成纳米图形的低门槛，已被证明是培养青年研究人员的极佳工具。我们非常期待向并行写入能力扩展。”例如，Giulia Tagliabue 教授领导的能源技术纳米科学实验室（LNET）正在探索利用灰度功能来实现先进的超表面，以在纳米尺度上强烈约束光，用于能量转换和界面过程研究。
我们期待看到该 Beta 站点如何加速科学发现，并在 NanoFrazor 系统的科研与教学应用中开启纳米尺度科学的新可能。
