推进技术，庆祝里程碑，凝聚社区

精彩的一周！9月15–18日，我们与微纳加工社区相聚于英国南安普敦的第51届国际微纳工程大会（MNE 2025）。Heidelberg Instruments 以白金赞助商兼展商身份自豪参会——这不仅是延续多年的传统，也是与全球同行交流、分享我们在无掩膜激光光刻与直写技术方面最新进展、并共同庆祝特别里程碑的绝佳机会。我们的 MLA 150 无掩膜光刻机迎来 10 周年，是本届 MNE 周的真正亮点。自 2015 年推出以来，MLA 150 已成为全球洁净室中不可或缺的“主力设备”，提供高性能、灵活且具成本效益的图案化能力。我们在展位上以清爽的石榴鸡尾酒举杯，庆祝 Heidelberg Instruments 历史上的这一重要里程碑。真诚感谢每一位到访并与我们同庆的朋友！

我们也很自豪再次支持 MNE Fellow Award。今年的奖项授予隆德大学名誉教授、AM-I 主任 Lars Montelius，以表彰其卓越的科研贡献。恭喜 Montelius 教授！在颁奖典礼上，我们向他赠送了一份特别礼物——一片定制微结构晶圆，象征着精密、创意与微加工精神。

大会期间，我们的专家与系统用户同台分享见解与创新：来自利兹大学的 Mark Rosamond 在 BEAMeeting 上率先开场，分享他使用 MLA 150 的经验。DWL 系列战略产品经理 Sven Preuss 在节奏明快的“闪电式”报告（5 分钟！）中介绍了 DWL 66⁺ 的最新升级；瑞士 Heidelberg Instruments Nano 工艺与应用实验室的研发工程师 Julia Stark 则以题为 “Advances in parallelization of thermal scanning probe lithography and large-area patterning” 的报告为 MNE 学术日程作出贡献。

谢谢你，MNE 2025！ 大家在这里与用户、合作伙伴和朋友重逢，结识新伙伴，并就光刻的未来展开了精彩对话，度过了美好时光。感谢每一位来到我们展位、聆听报告或驻足问候的朋友。我们已迫不及待期待明年在瑞士再见！