最新博客
无掩模光刻技术如何推动先进封装技术迈向新纪元
随着人工智能（AI）和高性能计算（HPC）推动单片电路走向过时，行业正全面转向先进封装。然而，芯粒位移和基板翘曲等挑战可能在封装离开工厂前就“杀死”良率。此时，微电子的新英雄登场：无掩模光刻。了解“自适应对准”如何让您的 chiplets“活下来继续计算”。 （“让芯粒活下去一天再算一天” live to compute another day）
超越理论：以精密光刻技术打造量子器件
量子革命正从理论走向现实，正如谷歌的 “Quantum Echoes（量子回声）” 等突破性成果所展示的那样。
从小型实验样机扩展到拥有数千量子比特的系统，需要 超高精度且均匀的纳米制造技术。
本文探讨了实现从实验室到大规模生产飞跃所需的制造挑战与光刻解决方案。
圆满收官：英国南安普敦 MNE 2025 精彩回顾
精彩一周！9月15–18日，我们有幸在英国南安普敦参加第51届国际微纳工程大会（MNE 2025），与微纳加工社区相聚。
十年探索：海德堡仪器 MLA 150 无掩膜对准机迎来十周年
海德堡仪器自豪地庆祝 MLA 150 无掩膜对准机十周年——这一突破性产品重新定义了全球洁净室中的高分辨率光刻技术。
2005-2025:庆祝韩国海德堡仪器公司成立 20 周年！
Heidelberg Instruments Korea（海德堡仪器韩国公司） 庆祝其 成立 20 周年，二十年来始终坚持客户承诺与合作伙伴关系！基于信任、忠诚与长期合作，Heidelberg Instruments Korea 继续在为本地客户带来创新方面发挥着至关重要的作用。
庆祝十年创新：欢迎加入Heidelberg Instruments，共赴MNE 2025
与Heidelberg Instruments在南安普敦相聚，共迎MNE 2025！我们很荣幸成为享有盛誉的Fellow Award的赞助商，并期待与您一起庆祝MLA 150的十周年。
用于金属表面的直接激光写入： 快速跟踪定制红外光学的未来
直接激光写入技术加快了定制红外超表面的制造速度–无需复杂的光刻技术，即可实现快速、灵活、经济高效的光束整形、全息等功能。
拉夫堡大学制造出 “世界上最小的小提琴” 展示NanoFrazor 能力
物理学家们制作出了 “世界上最小的小提琴”，令人惊叹地展示了他们全新的NanoFrazor 纳米光刻能力。
圆满成功！回顾 2025 年 OPTICA 全球先进制造联盟会议
阅读 Heidelberg Instruments 对 2025 年 OPTICA 全球先进制造联盟会议 的回顾。
感谢所有推动光子创新的伙伴！
在 EPFL 安装具备并行化能力的 NanoFrazor Beta 站点
继 2024 年成功推出模块化 NanoFrazor 纳米光刻系统之后，海德堡仪器公司（Heidelberg Instruments）自豪地宣布，在 EPFL 安装了最新的 NanoFrazor 系统。
海德堡仪器宣布来自亚洲领先显示光掩膜制造商的 VPG+ 1850 FPD 体积图形发生器重大订单
海德堡仪器已从亚洲一家顶级光掩膜制造商获得一笔可观订单，订购的是基于其旗舰产品 VPG+ 1400 FPD 体积图形发生器成熟平台开发的 VPG+ 1850 FPD 系统。
无掩模光刻技术如何推动先进封装技术迈向新纪元
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庆祝十年创新：欢迎加入Heidelberg Instruments，共赴MNE 2025
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Heidelberg Instruments 提升 DWL 66⁺ 光刻系统，实现行业领先的 200 纳米分辨率和 65,536 灰度级。
Heidelberg Instruments 对其广受认可的 DWL 66⁺ 进行了显著的性能升级，进一步巩固了其作为微纳加工终极科研工具的地位。
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