德国海德堡讯—— Heidelberg Instruments自豪地庆祝MLA 150无掩模光刻机问世十周年——这一突破性技术重新定义了全球洁净室中的高分辨率光刻技术。自2015年推出以来，MLA 150为研究人员和工程师提供了传统光刻技术之外的一种灵活、无需掩模的替代方案，变革了学术界和工业界的微加工领域。

“MLA 150无掩模光刻机的诞生，旨在解决多用户洁净室因掩膜对准机老化和掩模版生产耗时造成的瓶颈问题。Heidelberg Instruments设想了一种直写解决方案，其性能优于掩膜对准机，且没有延迟。结果是：快速响应、高精度和卓越的易用性。”——Heidelberg Instruments首席运营官Steffen Diez

MLA 150的核心是一个充当动态掩模的数字微镜器件（DMD），结合固态光源和先进的对准功能。这种组合使该系统从第一天起就成为了游戏规则的改变者。其曝光时间不到10分钟，完整工艺周期不到30分钟，用户培训在一小时内即可完成，MLA 150迅速为研发光刻设立了新基准。“MLA 150是我们洁净室中使用最持续稳定的工具之一。其灵活性和易用性使其成为我们光刻工作流程的基石。”——卡迪夫大学高级工艺工程师Tom Peach博士。MLA 150使用户能够在几分钟内从数字设计实现完美图案化的基板，从而推动了量子器件、微机电系统、微光学和生命科学等领域的快速创新。

通过与包括洛桑联邦理工学院（EPFL）、海德堡大学基尔霍夫物理研究所（KIP）和哈佛大学纳米系统中心（CNS）在内的领先机构密切合作而不断改进，MLA 150迅速证明了其价值。例如，在KIP，它使得复杂SQUID（超导量子干涉器件）传感器的产率提高了三倍，展示了其变革性影响。虽然最初被研究实验室采用，但该系统的多功能性和成本效益很快吸引了寻求快速原型制作和小批量生产敏捷解决方案的工业用户。从量子材料的基础研究到拯救生命的生物传感器的开发，MLA 150一直是无数发现背后的默默贡献者。

2025年，Heidelberg Instruments对MLA 150进行了重大升级，将最小特征尺寸推至450纳米，并扩展了其在高精度应用方面的能力。

如今，MLA 150已成为全球250多个洁净室中值得信赖的主力设备。Heidelberg Instruments在庆祝这一里程碑的同时，也向全球用户、工程师和合作伙伴社区致敬，正是他们共同塑造了MLA 150这一变革性平台——继续推动微加工可能性的边界。

探索MLA 150的十年历程，并参加其十周年特别庆祝活动。

更多信息: https://heidelberg-instruments.com/mla-150-anniversary/