折射微透镜的制造对于电信、光镊和电磁波操纵等先进光子学应用至关重要。在我们最新的应用说明中，我们与GermanLitho共同展示了如何将直接激光写入 (DLW) 和纳米压印光刻 (NIL) 技术相结合，从而高效地制造出用于在光波中产生轨道角动量 (OAM) 的微透镜。

主要结论

与传统的衍射光学元件（DOE）相比，折射微透镜具有明显的优势，而传统的衍射光学元件往往存在低衍射效率和色差等缺陷。通过利用 DLW，可以高精度地制造出平滑、灰度的 2.5D 结构，确保在聚焦携带 OAM 模式的光波时具有更好的光学性能。

在本应用中，我们重点关注一种独特光学元件的制造，该元件将螺旋相位板（SPP）与球形微型透镜集成在一起。这种组合可以将 OAM 传输到入射光中，同时将其聚焦到一个小环中，从而简化了工艺流程，并且无需在光路中使用多个元件。我们的DWL ⁶⁶⁺系统在此过程中发挥了关键作用，可以精确控制定义微透镜形状的灰度值。

结合 DLW 和 NIL：从原型到批量生产的可扩展精度

这种方法的优势在于直接激光写入和纳米压印光刻技术之间的协同作用。DLW 可以直接在光刻胶层上创建高分辨率的定制灰度结构。一旦通过 DLW 制作出主结构，NIL 就能提供一种经济高效的方法，在从小规模原型到大批量生产的各种基底上复制这些复杂的图案。这种两步工艺可在不牺牲精度的情况下实现高产能，非常适合需要灵活性和可扩展性的行业。

光子学应用的优势

这种方法并不局限于目前的应用，而是可以扩展到各种折射微光学器件，从而在光纤通信和生物医学光学等领域取得重大进展。使用 NIL 复制 DLW 所创建的结构可确保高效、准确地生产出这些先进的光学元件，供研究和工业使用。

DWL ⁶⁶⁺的优势

DWL ⁶⁶⁺激光光刻系统的突出特点是

• 1024 级灰度，可准确生成表面轮廓。
• 灰度和二进制结构的高分辨率曝光。
• 只需几次迭代就能生产出复杂的微型光学元件。

这种精度使其成为需要可靠、可重复光学元件的研究和生产环境的理想选择。此外，与 NIL 技术的结合有助于快速复制这些元件，从而实现从小型到大规模的生产。

结论

直接激光写入和纳米压印光刻技术的结合是制造具有精确光学特性的折射微透镜的有力方法。这种方法不仅提高了尖端光子学应用的性能，还为快速复制和生产提供了可扩展的解决方案，将创新和效率带到了微光学制造的最前沿。