显示器行业对更高分辨率和能效的不懈追求，要求光掩膜制造工具具有卓越的精度、可扩展性和生产能力，尤其是对平板显示器（FPD）生产中至关重要的大尺寸掩膜而言。海德堡仪器公司的 VPG+1400 FPD 体积图案发生器就是专为满足这些严格要求而设计的。
率先为平板显示器生产光掩膜
VPG+1400 FPD 擅长为薄膜晶体管 (TFT) 阵列、彩色滤光片和氧化铟锡 (ITO) 电极等重要显示器件制作大面积光掩膜（最大 1400 x 1400 mm²）。这些掩膜是现代显示器的基石，使 OLED、微 LED 和量子点等技术成为可能。它能够以亚微米级的分辨率处理大尺寸基板，再加上光村优化、边缘检测和面板间距优化，确保了完美显示性能所需的精度和均匀性。闭环环境室可在整个过程中保持最佳条件，即使在大批量生产中也能确保一致的结果。
应对显示器制造挑战的主要特点
- 高速光学引擎：使用光栅光阀 (GLV) 和 355 nm DPSS 激光器的高速 1D 光学调制器与高数值孔径 (NA) 写入透镜相结合，可实现亚微米分辨率和低光学失真。GLV 光带的驱动频率可达 350 kHz。光学引擎具有高紫外线传输率、1088 像素 2.4 Gbit/s 的超高数据传输率和 10 位强度调制。
- 毫不妥协的精度：采用 1 nm 干涉位置控制和 8 nm 地址网格的高精度位置计量技术，可确保将特征小至 800 nm 的复杂设计图案精确传送到光掩膜上。
- 卓越的生产能力：超高速曝光引擎的吞吐量可达 2750 mm²/min，大大缩短了写入时间，在不影响质量的前提下实现了快速掩膜生产。
- 可扩展制造：大尺寸精密平台可容纳最大 1400 x 1400 mm² 的基板，非常适合中型和大型（最大 G8）显示器的独特需求。
- 高级对准：康耐视图像识别和全面的计量软件包（包括多点对齐和受损标记跳过功能）提供了精确的第二层对齐功能（1000 x 1000 mm² 面积上的 400 nm 平均值+3σ），对于多层掩膜生产至关重要。精密的二维校正矩阵可校准平台位置，确保精确的工具匹配。
- 自动化和可靠性：自动校准可简化工作流程，最大限度地减少错误，并确保全天候可靠运行，提供可预测的交付时间。高度稳定的气候室具有实时气候补偿和软件校正功能，可将温度稳定性保持在 ±0.05°C 的范围内。
其他规格
- 实时自动对焦系统（光学和气动），补偿范围为 150 微米。
- 基底厚度：0 至 13.2 毫米。
- 单交叉测量精度：10 – 20 纳米
- 区域测量精度（G8 区域）：~50 纳米
- 注册 (3σ)：100 纳米
- 板对板叠加（3σ）：250 纳米
- 正交度： 0.2 µrad
显示行业的应用和优势
VPG+1400 FPD 支持所有工业数据格式，确保无缝集成到现有工作流程中。主要应用包括
- TFT 阵列：用于高分辨率显示器的精密晶体管制造。
- 彩色滤光片：滤色片的统一性可实现准确的色彩保真度。
- ITO 电极：对透明导电层进行图案化，以实现触摸屏功能和能源效率。半色调光掩模可精确控制 ITO 层厚度和大面积均匀性，优化光学和电气性能。
VPG+1400 FPD 集出色的生产能力、最高的精度和更低的生产成本于一身，是光掩膜制造商在 FPD 市场上寻求竞争优势不可或缺的工具。
为未来的显示屏生产而打造
投资 VPG+1400 FPD 可为制造商提供以下优势：
- 卓越的掩膜质量可实现完美无瑕的显示效果。
- 通过优化生产提高盈利能力。
- 下一代显示技术的长期可扩展性。
随着显示器行业的不断发展，海德堡仪器公司的 VPG+1400 FPD 成为改变游戏规则的解决方案，使制造商能够满足显示器制造对精度、效率和创新不断增长的需求。
