海德堡仪器发展历程中的里程碑
在2024年，我们庆祝了公司成立40周年。我们邀请您浏览公司历史中的一些重要时刻。
重新发现那些曾经领先时代的老式光刻系统，参观我们的一些旧建筑，并探索我们公司令人振奋的发展故事！
海德堡仪器发展历程中的里程碑
1984
基金会
Heidelberg Instruments 由来自海德堡大学、欧洲分子生物学实验室（EMBL）以及其他科研机构的一批科学家和研究人员创立，旨在将其激光扫描技术开发为商业化产品并推向市场。
1984–1988
建国之年
在最初几年，公司开发了多种工具：用于微米和亚微米结构的线轮廓测量系统、共聚焦激光扫描显微镜模块、用于在涂有光刻胶的基板上书写微结构的激光刻写机、晶圆检测系统以及激光断层扫描仪。
1989
战略重组与 Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH 的成立
在启动资金耗尽后，公司被划分为三个业务领域：共聚焦显微镜、检眼镜和光刻技术。与共聚焦激光显微镜相关的所有业务均由 Wild Leitz 接管，后者最终发展成为 Leica Lasertechnik GmbH。与此同时，两家新公司相继成立：负责生产激光断层扫描仪的 Heidelberg Engineering GmbH，以及于 1989 年成立、在 Roelof Wijnaendts-van-Resandt 领导下继续推进激光光刻业务的 Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH。
1991
第一个 DWL
直接激光写入系统 DWL2.0 是专为制造栅极阵列和栅极海 ASICS 而设计的。它是在欧洲 ESPRIT 计划框架内开发的，并以 Lasarray 的名义进行销售。 Heidelberg Instruments 在 1993 年之前曾一度隶属于这家瑞士公司。
1994
迁往罗尔巴赫
随着年轻公司的初步发展，公司需要搬出海德堡科技园，在海德堡南部新建一个更大的办公楼。1999 年，公司增建了二楼，这座被亲切地称为 "Halle 1 "的建筑一直作为公司总部使用到 2021 年。
1995
DWL66
首个专为低产量、高精度直接图案化设计的系统，是为研究机构和大学开发的。它被命名为DWL66，指的是6″ x 6″的曝光面积。DWL66满足了研发工具的需求，其成本低于DWL2.0。
1994–1996
面罩写作与格柏的 OEM 协议
Mask Write 800（具有800 mm × 600 mm的大曝光面积）是一款高分辨率系统，旨在用于PCB和后端工业光掩模生产。在与美国Gerber公司的合作中，开发了Mask Write 1550，这是一款用于等离子显示生产的1.55米光掩模刻写机。
1996–2002
全球业务
在日本和韩国安装了多套 Mask Write 1550 系统。在台湾、中国大陆、美国和日本设立了客户支持办事处，这反映了在这些地区市场影响力的扩大和扩张。2005 年，韩国办事处成立。
2002
增长
这座新的生产大楼是 Heidelberg Instruments Mikrotechnik 首次自行建造并拥有的厂房，标志着公司生产能力的显著提升。
2006
首个台式系统
首款台式微图案生成器µPG101于2006年问世。在此期间，海德堡仪器公司还为工业市场开发了其他激光设备。尽管这些产品最终未能取得长期成功，但其研发过程拓展了公司的技术能力，例如在光刻领域应用空间光调制器等技术。
2007
VPG
大面积系统
开发了一种新型高曝光速度系统，优化用于芯片封装、LCD和触控面板领域的光掩模生产。首台“Volume Pattern Generator” VPG 800安装在台湾的一家PCB制造商，用于为芯片封装应用制作光掩模。
2013
VPG
小面积系统
大型批量图形生成器之后，推出了针对小面积写入的VPG系统，主要面向直接写入应用，涵盖小批量和中等批量光掩模生产、快速原型制作、微流控、微机电系统（MEMS）、先进封装和LED生产等领域。
2015
永恒的一部分
截至2015年，HIMT仍是一家以家族控股为主、管理层持有少数股权的企业。随后，RAG基金会投资公司（RSBG）收购了海德堡仪器公司100%的股权。RSBG负责为德国硬煤开采作业产生的“永续矿山管理义务”提供资金支持。
2017
成功案例：Maskless Aligners的推出
随着MLA系列的推出，海德堡仪器公司将新一代无掩模对准系统推向市场。MLA是一款高性能无掩模直接曝光系统，专为简易操作和高速图案化而设计。该产品特别定位于替代传统掩模对准机或步进曝光机。
2018
推出 ULTRA
2018年，ULTRA作为一款用于成熟光掩模的半导体写入设备正式推出。它基于VPG
2018
纳米结构：产品组合不断扩大
2018年，海德堡仪器收购了SwissLitho AG的多数股权。这家瑞士公司的系统基于热扫描探针光刻技术（t-SPL），用于纳米图案化应用。其NanoFrazor技术通过加热探针在抗蚀剂上刻写纳米结构。
2019
工作重点大家庭不断壮大
MLA 300发布：这是一款用于高通量应用的Maskless Aligner，满足行业需求，如提高通量、全自动化以及与制造执行系统（MES）的接口。台式Maskless Aligner现整合了流行的µPG功能，并以µMLA重新推出。
2021
采用 TPP 技术的真正 3D
海德堡仪器公司与德国多光子光学公司达成合作，后者是基于双光子聚合（TPP）技术的3D激光光刻解决方案供应商。此次推出的TPP系统MPO 100作为多用户工具，可实现微结构的3D光刻与3D微印刷。
2021
搬迁和 ISO 认证
Heidelberg Instruments 搬迁至新的办公及生产场所，并于同年获得由 TÜV Süd 颁发的 ISO 9001:2015 质量管理体系认证。TÜV Süd 是一家提供安全、可靠性及可持续发展解决方案的审核与认证机构。
2021
LAB14集团的一部分
海德堡仪器现已成为RSBG旗下LAB14集团的成员。该集团由多家高科技企业组成，这些企业提供互补性产品与服务，涵盖纳米与微米级制造及表面分析领域。
2024
庆祝活动
海德堡仪器公司迎来成立四十周年。自1984年以来，我们始终致力于光刻解决方案的研发与生产。过去四十年间，公司已在直接写入光刻领域稳居全球市场领导者之列，并持续保持强劲增长态势。
