在2024年，我们庆祝了公司成立40周年。我们邀请您浏览公司历史中的一些重要时刻。
重新发现那些曾经领先时代的老式光刻系统，参观我们的一些旧建筑，并探索我们公司令人振奋的发展故事！
Heidelberg Instruments' 历史
1984
基金会
Heidelberg Instruments由来自海德堡大学、欧洲分子生物学实验室（EMBL）及其他研究机构的一群科学家和研究人员创立，旨在基于他们的激光扫描技术开发商业产品并推向市场。
1984 - 1988
建国之年
在最初几年，公司开发了多种工具：用于微米和亚微米结构的线轮廓测量系统、共聚焦激光扫描显微镜模块、用于在涂有光刻胶的基板上书写微结构的激光刻写机、晶圆检测系统以及激光断层扫描仪。
1989
重组
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH成立
在最初几年，公司开发了多种工具：用于微米和亚微米结构的线轮廓测量系统、共聚焦激光扫描显微镜模块、用于在涂有光刻胶的基板上书写微结构的激光刻写机、晶圆检测系统以及激光断层扫描仪。
1991
第一个 DWL
直接激光写入系统 DWL2.0 是专为制造栅极阵列和栅极海 ASICS 而设计的。它是在欧洲 ESPRIT 计划框架内开发的，并以 Lasarray 的名义进行销售。 Heidelberg Instruments 在 1993 年之前，它一直是这家瑞士公司的临时组成部分。
1994
迁往罗尔巴赫
随着年轻公司的初步发展，公司需要搬出海德堡科技园，在海德堡南部新建一个更大的办公楼。1999 年，公司增建了二楼，这座被亲切地称为 “Halle 1 “的建筑一直作为公司总部使用到 2021 年。
1995
DWL66
首个专为低产量、高精度直接图案化设计的系统，是为研究机构和大学开发的。它被命名为DWL66，指的是6″ x 6″的曝光面积。DWL66满足了研发工具的需求，其成本低于DWL2.0。
1994 - 1996
面罩写作与格柏的 OEM 协议
Mask Write 800（具有800 mm × 600 mm的大曝光面积）是一款高分辨率系统，旨在用于PCB和后端工业光掩模生产。在与美国Gerber公司的合作中，开发了Mask Write 1550，这是一款用于等离子显示生产的1.55米光掩模刻写机。
1996 - 2002
全球业务
在日本和韩国安装了多套 Mask Write 1550 系统。在台湾、中国大陆、美国和日本设立了客户支持办事处，这反映了在这些地区市场影响力的扩大和扩张。2005 年，韩国办事处成立。
2002
增长
新的生产大楼——Heidelberg Instruments Mikrotechnik建造并拥有的第一座大楼——标志着生产能力的大幅提升。
2006
首个台式系统
首款台式微图案生成器µPG101于2006年推出。在此期间，Heidelberg Instruments还为工业市场开发了其他激光设备。虽然这些设备长期来看并不成功，但其开发拓宽了公司在技术上的能力，例如在光刻中使用空间光调制器（Spatial Light Modulators）。
2007
VPG
大面积系统
开发了一种新型高曝光速度系统，优化用于芯片封装、LCD和触控面板领域的光掩模生产。首台“Volume Pattern Generator” VPG 800安装在台湾的一家PCB制造商，用于为芯片封装应用制作光掩模。
2013
VPG
小面积系统
大型批量图形生成器之后，推出了针对小面积写入的VPG系统，主要面向直接写入应用，涵盖小批量和中等批量光掩模生产、快速原型制作、微流控、微机电系统（MEMS）、先进封装和LED生产等领域。
2015
永恒的一部分
2015 年之前，HIMT 主要是一家家族企业，管理层持有少数股份。RAG 基金会投资公司（RSBG）收购了Heidelberg Instruments 100%的股份。RSBG 为德国硬煤开采业务产生的 “Ewigkeitsaufgaben”（永久煤矿管理义务）提供资金。
2017
成功案例：Maskless Aligners的推出
随着MLA系列的推出，Heidelberg Instruments 将新一代无掩模对准系统带入市场。MLA是一种高性能的无掩模直接曝光系统，设计上注重操作简便和高速图形化。其定位是可替代传统的掩模对准机或步进式光刻机。
2018
推出 ULTRA
2018年，ULTRA作为一款用于成熟光掩模的半导体写入设备正式推出。它基于VPG+技术，但在精度、稳定性和分辨率方面具有更高的规格。
2018
纳米结构：产品组合不断扩大
2018年，Heidelberg Instruments收购了SwissLitho AG的大部分股份。这家瑞士公司的系统基于热扫描探针光刻（t-SPL）技术，用于纳米图案化应用。NanoFrazor技术使用加热探针在光刻胶上书写纳米结构。
2019
工作重点大家庭不断壮大
MLA 300发布：这是一款用于高通量应用的Maskless Aligner，满足行业需求，如提高通量、全自动化以及与制造执行系统（MES）的接口。台式Maskless Aligner现整合了流行的µPG功能，并以µMLA重新推出。
2021
采用 TPP 技术的真正 3D
Heidelberg Instruments与德国公司Multiphoton Optics合作加入，该公司是基于双光子聚合（TPP）技术的3D激光光刻解决方案提供商。TPP系统MPO 100被引入作为用于3D光刻和微结构3D微打印的多用户工具。
2021
搬迁和 ISO 认证
Heidelberg Instruments 同年，公司迁入新址，并获得了 TÜV 南德意志集团（安全、安保和可持续发展解决方案的审核机构和提供商）颁发的 ISO 9001:2015 质量管理体系认证。
2021
LAB14集团的一部分
Heidelberg Instruments 现为 RSBG 旗下 LAB14 集团的一部分。该集团由多家高科技公司组成，提供纳米与微米制造及表面分析的互补产品和服务。
2024
庆祝活动
Heidelberg Instruments庆祝成立40周年。自1984年以来，我们一直热情致力于光刻解决方案的开发和生产。在过去的四十年中，公司已稳固确立了在直接写入光刻领域的全球市场领导地位，并持续强劲增长。
