在日新月异的纳米科学领域，开创性的突破往往来自好奇心驱动的探索。丹麦科技大学（DTU）博士后研究员诺兰-拉萨林博士就体现了这种创新精神。他从研究光子行为到突破量子电子学界限的过程，是一个将经典光学与先进纳米制造技术相结合的精彩故事。
在即将出版的第三期《光刻机》杂志的独家专访中，拉萨林博士分享了他是如何在扫描探针显微镜的发源地苏黎世 IBM 公司实习期间开始热扫描探针光刻技术 (t-SPL) 的。在苏黎世联邦理工学院攻读博士学位期间，他利用NanoFrazor探索光学领域的未知，并创造出突破性的衍射结构，在纳米尺度上操纵光子和电子。他的实验方法提出了 “傅立叶表面 “的概念，这是一种定制衍射和光带结构的革命性方法。
现在，拉萨林博士在德国科技大学研究量子材料，他利用 t-SPL 在石墨烯中编程量子功能，继续发掘二维材料的潜力。从研究出最小的 “黑胶 “唱片，到被《物理学杂志》提名为 “新兴领袖”：他的成就使他走上了一条探索之路，以全新的方式将光学、电子学和纳米制造融为一体。
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海德堡仪器公司的系统和技术库包括用于直接写入 2D、2.5D 和 3D 微结构到掩模制造的高精度无掩模对准器 (MLA) 和激光光刻系统，以及基于热扫描探针光刻技术 (t-SPL) 的先进纳米图案制作系统。基于双光子聚合（TPP）技术的三维激光光刻系统缩小了传统激光光刻技术（海德堡仪器公司强大核心业务的基础）与用于纳米图案制作的热扫描探针光刻技术（t-SPL）之间的差距。
无掩膜光刻技术是最先进、高精度、高灵活性的技术，非常适合用于研发以及需要快速制作特征尺寸大于 1 微米的原型的环境。无掩模光刻技术使您能够直接将设计转移到晶片上，而无需光罩。
在无掩模光刻技术中，图案借助作为 “动态光掩模 “的空间光调制器或 SLM 直接暴露在基底表面上。
