产品组合
Heidelberg Instruments 的系统和技术组合包括用于直接书写二维和 2.5 维微结构、掩模板制作以及先进激光光刻应用的高精度无掩模激光光刻（MLA）系统。与此相辅相成的是，我们基于热扫描探针光刻（t-SPL）的 NanoFrazor，可实现具备无与伦比精度的前沿纳米图案化。两者共同构成了 Heidelberg Instruments 在微纳加工领域核心专业能力的基础。
研发
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µMLA 无掩模对准仪
可配置的紧凑型台式无掩模对准仪，具有光栅扫描和矢量曝光模块。 -
MLA 150 无掩模光刻系统
用于快速原型制作的最快无掩模工具，是掩模对准机的替代方案。非常适合标准二元光刻。 -
DWL 66+ 激光直写光刻系统
具有可变分辨率和多种选项的研究与原型制作用最通用系统。 -
VPG 300 DI 无掩模步进
用于高精度和高分辨率微结构的无掩模直接成像仪。 -
NanoFrazor 纳米制造系统
多功能模块化工具，结合了热扫描探针光刻(Thermal Scanning Probe Lithography)、直接激光升华(Direct Laser Sublimation)以及先进自动化技术，用于前沿研发(R&D)。
