产品
面向科研与工业应用的高精度工具
海德堡仪器公司提供种类繁多的光刻解决方案,弥合了学术研究与大规模工业生产之间的鸿沟。我们的产品组合在整个制造领域均能提供最高精度——从高分辨率纳米加工和多功能微加工,到先进光掩模制造以及复杂的2.5D灰度光刻。
通过将无掩模技术的灵活性与工业规模化生产所需的全天候可靠性相结合,我们助力用户在各类基板上制作复杂的图案。无论您是在研发实验室中迭代量子设计,还是使用MLA 300等系统进行高通量生产,我们的技术都能提供推动新一代MEMS、微光学和半导体技术发展所需的灵活性与精度。
研发
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µMLA 无掩模对准仪
可配置的紧凑型台式无掩模对准仪,具有光栅扫描和矢量曝光模块。 -
MLA 150 无掩模光刻系统
用于快速原型制作的最快无掩模工具,是掩模对准机的替代方案。非常适合标准二元光刻。 -
DWL 66+ 激光直写光刻系统
具有可变分辨率和多种选项的研究与原型制作用最通用系统。 -
VPG 300 DI 无掩模步进
用于高精度和高分辨率微结构的无掩模直接成像仪。 -
NanoFrazor 纳米制造系统
多功能模块化工具,结合了热扫描探针光刻(Thermal Scanning Probe Lithography)、直接激光升华(Direct Laser Sublimation)以及先进自动化技术,用于前沿研发(R&D)。
工业
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