产品
产品组合
Heidelberg Instruments 的系统和技术组合包括用于二维(2D)和2.5维(2.5D)微结构直接写入、掩模制作以及高级激光光刻应用的高精度无掩模激光光刻(Maskless Laser Lithography)系统。此外,基于热扫描探针光刻(Thermal Scanning Probe Lithography)的NanoFrazor提供无与伦比精度的前沿纳米图案化。两种技术结合构成了 Heidelberg Instruments 在微纳制造领域的核心专业能力基础。
研发
-
µMLA 无掩模对准仪
可配置的紧凑型台式无掩模对准仪,具有光栅扫描和矢量曝光模块。 -
MLA 150 无掩模光刻系统
用于快速原型制作的最快无掩模工具,是掩模对准机的替代方案。非常适合标准二元光刻。 -
DWL 66+ 激光直写光刻系统
具有可变分辨率和多种选项的研究与原型制作用最通用系统。 -
VPG 300 DI 无掩模步进
用于高精度和高分辨率微结构的无掩模直接成像仪。 -
NanoFrazor 纳米制造系统
多功能模块化工具,结合了热扫描探针光刻(Thermal Scanning Probe Lithography)、直接激光升华(Direct Laser Sublimation)以及先进自动化技术,用于前沿研发(R&D)。
