Heidelberg Instruments - 直接写入的力量
Heidelberg Instruments 是高精度激光光刻系统、无掩模对准器和纳米制造工具领域的全球领导者。
40年来，我们一直推动微纳米制造领域的创新，在全球安装了超过1,500台系统。我们理解每位客户的需求都是独特的，因此提供定制化光刻解决方案，即使是最具挑战性的应用也能满足。
我们的产品组合涵盖从紧凑型桌面系统（非常适合原型开发和研发）到为大批量工业生产设计的高端光掩膜制造设备。这种广度使我们能够支持多种表面结构化技术，包括精确的二维图案设计以及利用灰度光刻实现的复杂2.5D特征。
我们对客户成功的承诺不仅限于我们的产品。在我们位于德国、瑞士和中国的过程与应用实验室 (PAL)，我们的专业工程师与客户密切合作，提供全面的培训和支持，以确保他们最大限度地发挥其Heidelberg Instruments 设备的潜力。
全球领先的公司、顶尖大学和知名研究机构都依赖于我们系统的灵活性和先进功能，以实现微型和纳米图案化。我们的技术为各个领域带来了突破，包括微光学和微系统技术、光子学、电子学、半导体和先进封装、量子器件、微机电系统、纳米流体学、生物医学工程、二维材料等。
应用 | 技术 | 主要功能
µMLA 无掩模光刻系统
- 无掩膜对准器
可配置的紧凑型台式无掩模对准仪，配有光栅扫描和矢量曝光模块。
MLA 150 无掩模光刻系统
- 无掩膜对准器
用于快速原型制作的最快无掩模工具，是掩模校准器的替代品。非常适合标准二进制光刻。
DWL 66+ 激光直写光刻系统
- 直接写入激光光刻系统
我们最通用的研究和原型制作系统，具有可变分辨率和多种选项。
MLA 300 无掩模光刻系统
- 无掩膜对准器
针对灵活的工业生产进行了优化，精度最高，可与工业生产线无缝集成。
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光直写光刻系统
- 直接写入激光光刻系统
市场上最先进的工业灰度光刻工具。
VPG+ 200、VPG+ 400 和 VPG+ 800 三维图案生成器
- 音量模式发生器
适用于 i-line 光刻胶的标准光掩膜和微结构的强大生产工具。
VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD 三维图案生成器
- 音量模式发生器
在大型基板上生产光掩膜，非常适合显示应用。
VPG 300 DI 无掩模投影光刻系统
- 无掩模步进器
用于高精度和高分辨率微结构的无掩模直接成像仪。
ULTRA 半导体掩模直写系统
- 激光掩膜书写器
专门设计用于生产成熟半导体光掩膜的工具。
NanoFrazor 纳米制造系统
- 热扫描探针光刻系统
多功能模块化工具，结合热扫描探针光刻、直接激光升华及先进自动化技术，助力前沿研发。
新闻博客
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Heidelberg Instruments Korea（海德堡仪器韩国公司） 庆祝其 成立 20 周年，二十年来始终坚持客户承诺与合作伙伴关系！基于信任、忠诚与长期合作，Heidelberg Instruments Korea 继续在为本地客户带来创新方面发挥着至关重要的作用。
