Heidelberg Instruments - 直接写作的力量
Heidelberg Instruments 是高精度激光光刻系统、无掩模对准器和纳米制造工具领域的全球领导者。
40 年来，我们在全球安装了 1,500 多套系统，为微米和纳米制造领域的创新提供了动力。我们深知每位客户的需求都是独一无二的，因此我们为最具挑战性的应用提供量身定制的光刻解决方案。
我们的产品组合涵盖从最适合原型设计和研发的紧凑型台式系统，到专为大批量工业生产设计的高端光掩膜制造设备。这种广泛性使我们能够支持各种表面结构技术，包括使用灰度光刻技术进行精确的二维图案化和复杂的 2.5D 特征。
我们对客户成功的承诺不仅限于我们的产品。在我们位于德国、瑞士和中国的过程与应用实验室 (PAL)，我们的专业工程师与客户密切合作，提供全面的培训和支持，以确保他们最大限度地发挥其Heidelberg Instruments 设备的潜力。
全球领先企业、顶尖大学和知名研究机构都依赖于我们系统的灵活性和先进的微米和纳米图形处理能力。我们的技术在多个领域实现了突破，包括微光学和微系统技术、光子学、电子学、半导体和先进封装、量子器件、微机电系统、纳米流体学、生物医学工程、二维材料等。
应用 | 技术 | 主要功能
µMLA
- 无掩膜对准器
可配置的紧凑型台式无掩模对准仪，配有光栅扫描和矢量曝光模块。
MLA 150
- 无掩膜对准器
用于快速原型制作的最快无掩模工具，是掩模校准器的替代品。非常适合标准二进制光刻。
DWL 66+
- 直接写入激光光刻系统
我们最通用的研究和原型制作系统，具有可变分辨率和多种选项。
MLA 300
- 无掩膜对准器
针对灵活的工业生产进行了优化，精度最高，可与工业生产线无缝集成。
DWL 2000 GS /DWL 4000 GS
- 直接写入激光光刻系统
市场上最先进的工业灰度光刻工具。
VPG+200、VPG+ 400 和 VPG+800
- 音量模式发生器
功能强大的生产工具，适用于 i-line 树脂中的标准光掩模和微结构。
VPG+1400 FPD
- 音量模式发生器
在大型基板上生产光掩膜，非常适合显示应用。
VPG 300 DI
- 无掩模步进器
用于高精度和高分辨率微结构的无掩模直接成像仪。
超
- 激光掩膜书写器
专门设计用于生产成熟半导体光掩膜的工具。
纳米光栅
- 热扫描探针光刻系统
多功能模块化 工具 组合热扫描探头 光刻, 直接激光升华和 先进的 自动化用于 尖端研发。研发。
新闻博客
了解 VPG+ 1400 FPD 如何通过高速、亚微米分辨率光掩膜写入技术彻底改变平板显示器制造。它专为 OLED、微型 LED 和量子点显示器而设计，为下一代 FPD 制造提供了无与伦比的精度、可扩展性和生产能力。
可持续微细加工是未来的发展趋势。了解海德堡仪器公司先进的光刻解决方案如何减少浪费、能源消耗和化学品消耗。
2024 年的结束标志着海德堡仪器公司历史上一个独特的篇章。40 年来，我们第一次在内卡河上的一艘船上庆祝圣诞 […]
您想进一步了解我们的系统组合、主要功能、相应的核心技术或可能的应用吗？
我们全年都会参加各种展览和会议。
参考文献
关于我们
从多元的文化和悠久的历史海德堡拥有一切。这座拥有 800 多年历史和传统的城市也是众多顶尖研究人员和诺贝尔奖获得者的故乡。 作为科研中心海德堡不仅拥有著名的 大学和工业研究机构 机构，而且Heidelberg InstrumentsMikrotechnikGmbH.
Heidelberg Instruments 由来自海德堡不同机构的五位科学家于 1984 年创立。 海德堡公司的宗旨是建立一家高科技公司，将学术研究和创新成果 研发 将学术研究和开发成果转化为工业项目的高科技公司。 在过去的 35+年里 已已成为高分辨率微光刻图形发生器的创新核心。在Heidelberg Instruments.
