Heidelberg Instruments – 直写的力量
海德堡仪器是高精度激光光刻系统、无掩模对准系统和纳米制造工具领域的全球领导者。
40年来，我们一直推动微纳米制造领域的创新，在全球安装了超过1,500台系统。我们理解每位客户的需求都是独特的，因此提供定制化光刻解决方案，即使是最具挑战性的应用也能满足。
我们的产品组合涵盖从紧凑型桌面系统（非常适合原型开发和研发）到为大批量工业生产设计的高端光掩膜制造设备。这种广度使我们能够支持多种表面结构化技术，包括精确的二维图案设计以及利用灰度光刻实现的复杂2.5D特征。
我们对客户成功的承诺不仅体现在产品本身。在德国、瑞士和中国的工艺与应用实验室（PAL）中，我们的专家工程师与客户紧密合作，提供全面的培训与支持，确保他们充分发挥 Heidelberg Instruments 设备的最大潜力。
全球领先的公司、顶尖大学和知名研究机构都依赖于我们系统的灵活性和先进功能，以实现微型和纳米图案化。我们的技术为各个领域带来了突破，包括微光学和微系统技术、光子学、电子学、半导体和先进封装、量子器件、微机电系统、纳米流体学、生物医学工程、二维材料等。
应用 | 技术 | 主要功能
µMLA 无掩模光刻系统
- 无掩膜对准器
可配置的紧凑型台式无掩模对准仪，配有光栅扫描和矢量曝光模块。
MLA 150 无掩模光刻系统
- 无掩膜对准器
用于快速原型制作的最快无掩模工具，是掩模校准器的替代品。非常适合标准二进制光刻。
DWL 66+ 激光直写光刻系统
- 直接写入激光光刻系统
我们最灵活的系统，适用于研发和快速原型制作，分辨率低至 200 nm，并具备专业级灰度曝光能力。
MLA 300 无掩膜对准器
- 无掩膜对准器
针对灵活的工业生产进行了优化，精度最高，可与工业生产线无缝集成。
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光直写光刻系统
- 直接写入激光光刻系统
市场上最先进的工业灰度光刻工具。
VPG+ 200 / VPG+ 400 / VPG+ 800 三维图案生成器
- 音量模式发生器
适用于 i-line 光刻胶的标准光掩膜和微结构的强大生产工具。
VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD 大尺寸平板显示光罩直写系统
- 音量模式发生器
适用于大尺寸基板的光罩生产，满足显示应用需求。
VPG 300 DI 无掩模投影光刻系统
- 无掩模步进器
用于高精度和高分辨率微结构的无掩模直接成像仪。
ULTRA 半导体掩模直写系统
- 激光掩膜书写器
专门设计用于生产成熟半导体光掩膜的工具。
NanoFrazor 纳米制造系统
- 热扫描探针光刻系统
多功能模块化工具，集成热扫描探针光刻、直接激光升华及先进自动化技术，助力前沿研发。
新闻博客
为什么共封装光学（CPO）如今正迎来发展机遇？了解光学器件如何逐渐靠近芯片、CPO为何历经多年才走向成熟，以及先进光刻技术如何助力实现可规模化的制造。
有机基板正面临瓶颈。探索海德堡仪器的无掩膜光刻如何推动玻璃革命，从而突破面向人工智能应用的亚2微米极限。
Heidelberg Instruments 很高兴宣布，其旗舰产品 VPG⁺ 1400 FPD Volume Pattern Generator 收到来自亚洲一家领先显示光掩模制造商的追加订单。
