^VPG+ 1400 FPD

디스플레이 애플리케이션의 대형 기판에서 포토마스크 제작을 위한 설계

전 세계 포토마스크 제조업체에서 사용하는 대량 생산을 위한 최고의 볼륨 패턴 생성기인 ^VPG+ 1400 FPD는 획기적인 효율성과 우수한 품질을 제공합니다. 이 시스템은 디스플레이 산업을 위해 특별히 설계되었으며 대면적 포토마스크(1.4m)의 높은 처리량 패터닝을 위해 맞춤화된 가장 큰 시스템입니다. 대형 기판을 처리하도록 특별히 설계된 평판 디스플레이(FPD) 애플리케이션에 최적화되어 있어 디스플레이 산업에서 탁월한 성능을 발휘하고자 하는 제조업체에 이상적인 솔루션입니다.

^VPG+1400 FPD는 매우 정확한 정렬로 고품질의 빠른 노출을 위해 설계되었습니다. 분해능이 1.2nm에 불과한 차동 간섭계가 특징입니다. 무라 최적화를 통해 탁월한 CD 균일성과 해상도를 보장하며, 폐쇄 루프 환경 챔버는 고급 포토마스크 제작에 대한 가장 엄격한 요구 사항을 준수합니다.

FPD 제조 향상

완벽한 디스플레이: ^VPG+ 1400 FPD는 TFT 어레이, 컬러 필터, 인듐 주석 산화물(ITO) 전극과 같은 주요 디스플레이 부품 생산에 사용되는 고해상도 포토마스크를 제작할 수 있는 원스톱 샵입니다. 차세대 디스플레이가 요구하는 정밀도와 품질을 달성하세요.
뛰어난 처리량: ^VPG+ 1400 FPD의 탁월한 처리량으로 신속한 마스크 생산을 보장하여 대량 디스플레이 제조의 요구 사항을 충족하고 생산 라인을 최적화할 수 있습니다.
최고의 정밀도와 신뢰성: ^VPG+ 1400 FPD는 대형 마스크에 복잡한 패턴을 제작하는 데 필요한 정밀도와 해상도를 제공하여 디자인을 완벽하게 전송할 수 있도록 보장합니다. 예측 가능한 배송 시간을 위해 연중무휴 24시간 안정적으로 작동합니다.
고급 계측: 대면적 그레이톤 마스크 제작에 사용되는 정밀한 2차 레이어 정렬 기능을 위한 계측 패키지 및 툴 매칭 기능이 포함되어 있습니다.

성능 극대화

초고속 노광 엔진과 고출력 DPSS 레이저로 노광 시간을 획기적으로 단축하여 마스크를 더 빠르게 제작하고 생산량을 극대화할 수 있습니다.
^VPG+ 1400 FPD는 뛰어난 서브-마이크로미터 해상도와 이미지 품질을 자랑하며, 디자인 패턴을 포토마스크에 정확하게 전사하여 완벽한 디스플레이를 구현할 수 있도록 보장합니다.
자동 보정 도구는 서면 구조의 탁월한 등록 및 위치 지정을 보장하여 시간을 절약하고 오류를 최소화함으로써 워크플로우를 간소화합니다.
유연한 진공 레이아웃을 갖춘 대형 정밀 스테이지는 최대 1400mm의 기판을 수용할 수 있어 중대형 디스플레이 포토마스크의 요구 사항을 처리하는 데 이상적입니다.
폐쇄 루프 환경 챔버는 공정 전반에 걸쳐 최적의 조건을 유지하여 실행 후에도 일관된 마스크 품질을 보장합니다.
^VPG+ 1400 FPD는 모든 산업용 데이터 포맷을 지원하므로 기존 설계 및 제작 워크플로우와 원활하게 통합할 수 있습니다.

디스플레이 기술의 미래를 위한 투자

^VPG+ 1400 FPD는 디스플레이 생산 능력의 미래를 위한 투자입니다. 프로덕션에 구현하면 다음과 같은 성과를 달성할 수 있습니다:

완벽한 디스플레이 성능을 위한 탁월한 마스크 품질.
대량 디스플레이 생산을 위한 높은 처리량과 수익성 향상.
매우 경제적인 툴 가격으로 생산 비용을 절감할 수 있습니다.
효율적인 도구 작동과 안정적인 성능.
차세대 디스플레이의 요구 사항에 따라 확장 가능한 미래형 기술입니다.

경제성이 뛰어난 도구로 디스플레이 제조를 보완하세요. ^VPG+ 1400으로 포토마스크 생산을 가속화할 수 있는 방법을 알아보려면 당사에 문의하세요.

FPD 제조 향상

완벽한 디스플레이: ^VPG+ 1400 FPD는 TFT 어레이, 컬러 필터, 인듐 주석 산화물(ITO) 전극과 같은 주요 디스플레이 부품 생산에 사용되는 고해상도 포토마스크를 제작할 수 있는 원스톱 샵입니다. 차세대 디스플레이가 요구하는 정밀도와 품질을 달성하세요.
뛰어난 처리량: ^VPG+ 1400 FPD의 탁월한 처리량으로 신속한 마스크 생산을 보장하여 대량 디스플레이 제조의 요구 사항을 충족하고 생산 라인을 최적화할 수 있습니다.
최고의 정밀도와 신뢰성: ^VPG+ 1400 FPD는 대형 마스크에 복잡한 패턴을 제작하는 데 필요한 정밀도와 해상도를 제공하여 디자인을 완벽하게 전송할 수 있도록 보장합니다. 예측 가능한 배송 시간을 위해 연중무휴 24시간 안정적으로 작동합니다.
고급 계측: 대면적 그레이톤 마스크 제작에 사용되는 정밀한 2차 레이어 정렬 기능을 위한 계측 패키지 및 툴 매칭 기능이 포함되어 있습니다.

성능 극대화

초고속 노광 엔진과 고출력 DPSS 레이저로 노광 시간을 획기적으로 단축하여 마스크를 더 빠르게 제작하고 생산량을 극대화할 수 있습니다.
^VPG+ 1400 FPD는 뛰어난 서브-마이크로미터 해상도와 이미지 품질을 자랑하며, 디자인 패턴을 포토마스크에 정확하게 전사하여 완벽한 디스플레이를 구현할 수 있도록 보장합니다.
자동 보정 도구는 서면 구조의 탁월한 등록 및 위치 지정을 보장하여 시간을 절약하고 오류를 최소화함으로써 워크플로우를 간소화합니다.
유연한 진공 레이아웃을 갖춘 대형 정밀 스테이지는 최대 1400mm의 기판을 수용할 수 있어 중대형 디스플레이 포토마스크의 요구 사항을 처리하는 데 이상적입니다.
폐쇄 루프 환경 챔버는 공정 전반에 걸쳐 최적의 조건을 유지하여 실행 후에도 일관된 마스크 품질을 보장합니다.
^VPG+ 1400 FPD는 모든 산업용 데이터 포맷을 지원하므로 기존 설계 및 제작 워크플로우와 원활하게 통합할 수 있습니다.

디스플레이 기술의 미래를 위한 투자

^VPG+ 1400 FPD는 디스플레이 생산 능력의 미래를 위한 투자입니다. 프로덕션에 구현하면 다음과 같은 성과를 달성할 수 있습니다:

완벽한 디스플레이 성능을 위한 탁월한 마스크 품질.
대량 디스플레이 생산을 위한 높은 처리량과 수익성 향상.
매우 경제적인 툴 가격으로 생산 비용을 절감할 수 있습니다.
효율적인 도구 작동과 안정적인 성능.
차세대 디스플레이의 요구 사항에 따라 확장 가능한 미래형 기술입니다.

경제성이 뛰어난 도구로 디스플레이 제조를 보완하세요. ^VPG+ 1400으로 포토마스크 생산을 가속화할 수 있는 방법을 알아보려면 당사에 문의하세요.

노출 품질

가장자리 거칠기 20nm, 로컬 CD 균일도 50nm, 주소 그리드 8nm, 무라 보정, 가장자리 감지.

쓰기 안정성

매우 안정적인 기후 챔버, 실시간 기후 보정 및 모든 환경 변화에 대한 소프트웨어 보정.

자동 정렬

왜곡 보정을 통한 자동화된 전역 및 필드별 정렬 기능을 갖춘 계측 패키지. 스테이지 위치 보정 및 툴 매칭을 위한 정교한 2D 보정 매트릭스.

확장성

중소형부터 G8 디스플레이 포토마스크까지 모든 크기에 맞게 쉽게 확장할 수 있습니다.

무라 제어

피치 및 패널 피치 최적화.

포토마스크 처리

반자동 인쇄물 로딩.

사용자 지정

요청 시 특수 기판, 로더 또는 마스크 처리.

Customer applications

Since 2007, VPG systems and their successors, the VPG+ systems, have proved to be the ideal solution for the high-volume production of demanding photomasks — especially for electronic packaging, color filters, light-emitting diodes, and touch panels. As a master template for photolithographic manufacturing, such photomasks have to fulfill the highest requirements for line width uniformity, pattern position accuracy, edge roughness, and minimum feature size. — Since 2007, VPG systems and their successors, the VPG⁺ systems, have proved to be the ideal solution for the high-volume production of demanding photomasks — especially for electronic packaging, color filters, light-emitting diodes, and touch panels. As a master template for photolithographic manufacturing, such photomasks have to fulfill the highest requirements for line width uniformity, pattern position accuracy, edge roughness, and minimum feature size.

The VPG+ series can be used for all display-related applications. In this field, the quality requirements on photomasks are exceptional. One key specification is the so-called Mura condition, describing 'unevenness' as a result of any disturbance in a regular periodic pattern. If the Mura condition fails to meet the requirements, the final display might have dark spots or patches. The V series of Maskless Lithography Systems offers a special Mura optimization function for good Mura condition, excellent CD uniformity, and resolution. — The VPG⁺ series can be used for all display-related applications. In this field, the quality requirements on photomasks are exceptional. One key specification is the so-called Mura condition, describing 'unevenness' as a result of any disturbance in a regular periodic pattern. If the Mura condition fails to meet the requirements, the final display might have dark spots or patches. The V series of Maskless Lithography Systems offers a special Mura optimization function for good Mura condition, excellent CD uniformity, and resolution.

Display application test pattern on chrome mask after etching and resist stripping.

Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.

Why customers choose our systems

"VPG를 사용하면 기존 마스크 얼라이너 공정을 사용할 때보다 피처 크기가 3배 더 작은 1µm 크기까지 구리 라인과 칩 간 인터커넥트를 구현할 수 있습니다."

마르쿠스 뵈르만
그룹 리더 웨이퍼 레벨 패키징용 리소그래피 및 박막 폴리머
프라운호퍼 마이크로통합 및 신뢰성 연구소
베를린, 독일

"TNO @ 홀스트 센터에서 하이델베르크 인스트루먼트 VPG는 설계 반복을 신속하게 순환하고 이러한 설계의 제조 공정 흐름을 개발 및 최적화하는 기능을 제공함으로써 우리의 연구 개발 노력에 중요한 역할을 합니다."

Auke Jisk Kronemeijer, 박막 전자 제품 연구 관리자
TNO @ 홀스트 센터
네덜란드 아인트호벤

Technical Data

쓰기 모드	QX	FX
쓰기 성능	고품질	높은 처리량
최소 구조 크기 [μm]	0.8	1
주소 그리드 [nm]	8	8
가장자리 거칠기 [3σ, nm]	20	40
CD 균일성 [3σ, nm]	50	70
플레이트 간 오버레이 [3σ, nm]	250	250
스티칭 [3σ, nm]	40	50
등록 [3σ, nm]	100	100
쓰기 속도 [mm²/min]	1375	2750

시스템 기능
광원	355nm의 고출력 DPSS 레이저
최대 기판 크기	1400 x 1400 mm²
기판 두께	0~13.2mm
최대 노출 영역	1400 x 1400 mm²
자동 초점	실시간 자동 초점 시스템(광학 및 공압식)
자동 초점 보정 범위	150 µm
자동화	반자동 로딩 시스템
플로우박스	폐쇄 루프 온도 제어 환경 챔버
정렬	계측 및 정렬을 위한 카메라 시스템
기타 기능 및 옵션	스테이지 맵 보정, 무라 및 패널 피치 최적화, 에지 검출기 시스템, 다양한 데이터 입력 포맷(DXF, CIF, GDSII 및 거버 파일)

시스템 크기
본체(도어 닫힘, 로더 확장)
너비 [mm]	5370
깊이 [mm]	7000
높이 [mm]	2800
무게 [kg]	25000

설치 요구 사항
전기	400VAC ± 5%, 50/60Hz, 32A
압축 공기	8 - 10 바

참고
사양은 개별 공정 조건에 따라 다르며 장비 구성에 따라 달라질 수 있습니다. 쓰기 속도는 픽셀 크기와 쓰기 모드에 따라 다릅니다. 디자인 및 사양은 사전 고지 없이 변경될 수 있습니다.

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