NanoFrazor 나노리소그래피 도구

다용도 모듈식 나노 리소그래피 도구

  • 제품 설명

  • NanoFrazor는 첨단 연구와 다양한 응용 분야에서의 혁신을 가능하게 하기 위해 설계된 획기적인 상용 열 스캐닝 프로브 리소그래피(t-SPL) 시스템입니다. 양자 장치, 1D/2D 소재, 양자점, 조셉슨 접합 또는 나노스케일 장치 배열을 연구하든, NanoFrazor는 비할 데 없는 정밀성과 다재다능성을 제공합니다. 그 기능은 그레이스케일 포토닉스, 나노유체 구조, 세포 성장용 생체 모방 기판, 열에 의한 화학 반응 또는 물리적 상변화를 통한 국소적 재료 변형 등 복잡한 과제에도 적용됩니다.

    핵심 사항

    • 고해상도 나노패터닝: NanoFrazor 의 중심에는 복잡한 나노 구조의 기록과 검사를 동시에 수행할 수 있는 매우 날카롭고 가열 가능한 프로브 팁이 있습니다. 자체 보정 패터닝은 폐쇄 루프 리소그래피(CLL) 기능을 통해 이루어집니다. 이 혁신적인 설계는 복잡한 패턴과 구조를 만들 때 탁월한 정밀도를 제공합니다.
    • 직접 레이저 승화(DLS) 모듈: DLS 모듈은 나노 및 마이크로 구조를 단일 단계에서 동일한 레지스트 레이어에 효율적으로 기록할 수 있도록 하여 제작을 간소화합니다. 이 통합으로 워크플로가 간소화되고 생산성이 향상됩니다.
    • 마커리스 오버레이를 사용한 현장 이미징: NanoFrazor 의 현장 이미징 기술은 마커리스 오버레이와 기록된 패턴과 대상 패턴의 실시간 비교 기능을 도입했습니다. 이 고유한 CLL(폐쇄 루프 리소그래피) 기능은 복잡한 2.5D(그레이스케일) 모양을 생성할 때 2nm 미만의 수직 정밀도를 보장하며, 기록 프로세스 중에 즉시 매개변수를 조정할 수 있습니다.
    • 10개의 팁으로 병렬 쓰기: Decapede 기능을 사용하면 10개의 가열 가능한 팁으로 병렬 쓰기가 가능하여 NanoFrazor 의 유명한 정밀도를 유지하면서 처리량을 크게 늘릴 수 있습니다. 이 기능은 대면적 패터닝과 시간에 민감한 애플리케이션에 이상적입니다.
    • 모듈식 및 업그레이드 가능한 설계: NanoFrazor 의 모듈식 플랫폼은 특정 연구 요구사항과 실험실 환경에 맞게 광범위한 사용자 정의가 가능합니다. 패터닝 모드, 하우징 옵션, 소프트웨어 모듈을 맞춤화하여 유연성과 기능을 극대화할 수 있습니다. 연구가 발전함에 따라 추가 모듈로 NanoFrazor 을 업그레이드하여 장기적인 적응성을 보장할 수 있습니다.
    • 포괄적인 공정 지원: IBM Research Zürich와 Heidelberg Instruments Nano에서 20년 이상 축적된 연구 개발을 바탕으로, NanoFrazor 사용자 커뮤니티는 하드웨어와 소프트웨어의 지속적인 발전 혜택을 누릴 수 있습니다. 사용자는 에칭 및 리프트오프와 같은 패턴 전송 공정에 대한 모범 사례와 프로토콜이 포함된 포괄적인 라이브러리에 접근할 수 있어 다양한 응용 분야에서 최적의 결과를 보장합니다.

    어플리케이션

    • 양자 디바이스: 양자 컴퓨팅 및 고급 전자 애플리케이션을 위한 정밀한 나노 구조를 만듭니다.
    • 1D/2D 재료: 그래핀, 전이 금속 디칼코게나이드 및 기타 2D 재료에 나노 구조를 패턴화하고 수정합니다.
    • 포토닉스: 광학 시스템의 사인파 격자 및 위상판과 같은 그레이 스케일 형상에 대해 2nm 미만의 수직 정밀도를 달성합니다.
    • 생명공학: 세포 성장을 위한 생체 모방 기질을 개발하고 생물학적 및 화학적 분석을 위한 나노 유체 구조를 만듭니다.
    • 로컬 재료 변형: 재료 과학의 혁신적인 연구를 위해 화학 반응 및 상 변화와 같은 국소적인 열 기반 프로세스를 활성화합니다.

    NanoFrazor는 정교한 열 스캐닝 프로브 리소그래피를 전 세계 연구자와 기술자들이 활용할 수 있도록 함으로써 나노 제조를 혁신합니다. 최첨단 기능, 모듈식 설계, 광범위한 응용 가능성으로 인해 획기적인 연구와 기술 발전에 필수적인 도구로 자리매김합니다.

    NanoFrazor에 대해 더 알아보려면 전용 웹사이트 nanofrazor.com을 방문하세요. 시스템을 구성하고 NanoFrazor가 귀하의 연구를 새로운 차원으로 끌어올리는 방법을 확인하세요.

    NanoFrazor는 첨단 연구와 다양한 응용 분야에서의 혁신을 가능하게 하기 위해 설계된 획기적인 상용 열 스캐닝 프로브 리소그래피(t-SPL) 시스템입니다. 양자 장치, 1D/2D 소재, 양자점, 조셉슨 접합 또는 나노스케일 장치 배열을 연구하든, NanoFrazor는 비할 데 없는 정밀성과 다재다능성을 제공합니다. 그 기능은 그레이스케일 포토닉스, 나노유체 구조, 세포 성장용 생체 모방 기판, 열에 의한 화학 반응 또는 물리적 상변화를 통한 국소적 재료 변형 등 복잡한 과제에도 적용됩니다.

    핵심 사항

    • 고해상도 나노패터닝: NanoFrazor 의 중심에는 복잡한 나노 구조의 기록과 검사를 동시에 수행할 수 있는 매우 날카롭고 가열 가능한 프로브 팁이 있습니다. 자체 보정 패터닝은 폐쇄 루프 리소그래피(CLL) 기능을 통해 이루어집니다. 이 혁신적인 설계는 복잡한 패턴과 구조를 만들 때 탁월한 정밀도를 제공합니다.
    • 직접 레이저 승화(DLS) 모듈: DLS 모듈은 나노 및 마이크로 구조를 단일 단계에서 동일한 레지스트 레이어에 효율적으로 기록할 수 있도록 하여 제작을 간소화합니다. 이 통합으로 워크플로가 간소화되고 생산성이 향상됩니다.
    • 마커리스 오버레이를 사용한 현장 이미징: NanoFrazor 의 현장 이미징 기술은 마커리스 오버레이와 기록된 패턴과 대상 패턴의 실시간 비교 기능을 도입했습니다. 이 고유한 CLL(폐쇄 루프 리소그래피) 기능은 복잡한 2.5D(그레이스케일) 모양을 생성할 때 2nm 미만의 수직 정밀도를 보장하며, 기록 프로세스 중에 즉시 매개변수를 조정할 수 있습니다.
    • 10개의 팁으로 병렬 쓰기: Decapede 기능을 사용하면 10개의 가열 가능한 팁으로 병렬 쓰기가 가능하여 NanoFrazor 의 유명한 정밀도를 유지하면서 처리량을 크게 늘릴 수 있습니다. 이 기능은 대면적 패터닝과 시간에 민감한 애플리케이션에 이상적입니다.
    • 모듈식 및 업그레이드 가능한 설계: NanoFrazor 의 모듈식 플랫폼은 특정 연구 요구사항과 실험실 환경에 맞게 광범위한 사용자 정의가 가능합니다. 패터닝 모드, 하우징 옵션, 소프트웨어 모듈을 맞춤화하여 유연성과 기능을 극대화할 수 있습니다. 연구가 발전함에 따라 추가 모듈로 NanoFrazor 을 업그레이드하여 장기적인 적응성을 보장할 수 있습니다.
    • 포괄적인 공정 지원: IBM Research Zürich와 Heidelberg Instruments Nano에서 20년 이상 축적된 연구 개발을 바탕으로, NanoFrazor 사용자 커뮤니티는 하드웨어와 소프트웨어의 지속적인 발전 혜택을 누릴 수 있습니다. 사용자는 에칭 및 리프트오프와 같은 패턴 전송 공정에 대한 모범 사례와 프로토콜이 포함된 포괄적인 라이브러리에 접근할 수 있어 다양한 응용 분야에서 최적의 결과를 보장합니다.

    어플리케이션

    • 양자 디바이스: 양자 컴퓨팅 및 고급 전자 애플리케이션을 위한 정밀한 나노 구조를 만듭니다.
    • 1D/2D 재료: 그래핀, 전이 금속 디칼코게나이드 및 기타 2D 재료에 나노 구조를 패턴화하고 수정합니다.
    • 포토닉스: 광학 시스템의 사인파 격자 및 위상판과 같은 그레이 스케일 형상에 대해 2nm 미만의 수직 정밀도를 달성합니다.
    • 생명공학: 세포 성장을 위한 생체 모방 기질을 개발하고 생물학적 및 화학적 분석을 위한 나노 유체 구조를 만듭니다.
    • 로컬 재료 변형: 재료 과학의 혁신적인 연구를 위해 화학 반응 및 상 변화와 같은 국소적인 열 기반 프로세스를 활성화합니다.

    NanoFrazor는 정교한 열 스캐닝 프로브 리소그래피를 전 세계 연구자와 기술자들이 활용할 수 있도록 함으로써 나노 제조를 혁신합니다. 최첨단 기능, 모듈식 설계, 광범위한 응용 가능성으로 인해 획기적인 연구와 기술 발전에 필수적인 도구로 자리매김합니다.

    NanoFrazor에 대해 더 알아보려면 전용 웹사이트 nanofrazor.com을 방문하세요. 시스템을 구성하고 NanoFrazor가 귀하의 연구를 새로운 차원으로 끌어올리는 방법을 확인하세요.

  • 제품 주요 내용

  • 써멀 스캐닝 프로브 리소그래피

    나노 패터닝에 대한 새로운 접근 방식으로 기존에는 불가능했던 애플리케이션 지원

    고해상도

    복잡한 형상에서도 나노 구조의 손쉬운 패터닝; 최소 측면 피처 15nm, 수직 해상도 2nm

    손상 없는 리소그래피

    하전 입자로 인한 손상 없음, 근접 효과 없음, 깨끗한 리프트 오프

    호환성

    리프트오프, 에칭 등 모든 표준 패턴 전송 방법과 함께. – “레시피 북”에서 지식 리소스 및 모범 사례를 확인할 수 있습니다.

    독특한 열 캔틸레버

    손쉬운 교체와 비용 효율성을 위한 통합 마이크로히터 및 거리 센서

    정밀한 오버레이 및 스티칭

    마커리스 오버레이 및 스티칭 정확도 25nm 지정, 10nm 미만 오버레이 표시

    현장 이미징

    패턴화된 구조 속성의 실시간 시각화

    낮은 소유 비용

    클린룸, 진공 펌프 또는 고가의 소모품이 필요 없습니다.

    스크립팅

    사용자 지정 작업의 손쉬운 자동화
  • 사용 가능한 모듈

  • 레이저 승화 모듈

    동일한 노광 단계에서 거친 구조의 높은 처리량 노광; 405nm 파장 CW 파이버 레이저

    Decapede

    10가지 팁으로 병렬 쓰기

    독립형 하우징

    3중 방음, 뛰어난 진동 차단 | PC 제어 온도 및 습도 모니터링, 가스 흐름 조절 | (크기 185cm x 78cm x 128cm / 무게 650kg)

    전체 글러브박스 통합

    제어된 환경에서 나노리소그래피를 위한 글로브박스에 통합 가능

    그레이스케일 소프트웨어 모듈

    2.5nm 미만의 수직 해상도에서 2.5D 패터닝

    자동화된 오버레이 소프트웨어 모듈

    25nm 정확도로 기존 지형 위에 마커 없이 자동화된 오버레이 적용

    스마트 분할 소프트웨어 모듈

    대규모 레이아웃 처리 및 필드 순서를 최적화합니다.

    동적 로컬 온도 변조

    열을 통한 국소적 재료 변형을 사용하는 열화학 응용 분야용

NanoFrazor는 첨단 연구와 다양한 응용 분야에서의 혁신을 가능하게 하기 위해 설계된 획기적인 상용 열 스캐닝 프로브 리소그래피(t-SPL) 시스템입니다. 양자 장치, 1D/2D 소재, 양자점, 조셉슨 접합 또는 나노스케일 장치 배열을 연구하든, NanoFrazor는 비할 데 없는 정밀성과 다재다능성을 제공합니다. 그 기능은 그레이스케일 포토닉스, 나노유체 구조, 세포 성장용 생체 모방 기판, 열에 의한 화학 반응 또는 물리적 상변화를 통한 국소적 재료 변형 등 복잡한 과제에도 적용됩니다.

핵심 사항

  • 고해상도 나노패터닝: NanoFrazor 의 중심에는 복잡한 나노 구조의 기록과 검사를 동시에 수행할 수 있는 매우 날카롭고 가열 가능한 프로브 팁이 있습니다. 자체 보정 패터닝은 폐쇄 루프 리소그래피(CLL) 기능을 통해 이루어집니다. 이 혁신적인 설계는 복잡한 패턴과 구조를 만들 때 탁월한 정밀도를 제공합니다.
  • 직접 레이저 승화(DLS) 모듈: DLS 모듈은 나노 및 마이크로 구조를 단일 단계에서 동일한 레지스트 레이어에 효율적으로 기록할 수 있도록 하여 제작을 간소화합니다. 이 통합으로 워크플로가 간소화되고 생산성이 향상됩니다.
  • 마커리스 오버레이를 사용한 현장 이미징: NanoFrazor 의 현장 이미징 기술은 마커리스 오버레이와 기록된 패턴과 대상 패턴의 실시간 비교 기능을 도입했습니다. 이 고유한 CLL(폐쇄 루프 리소그래피) 기능은 복잡한 2.5D(그레이스케일) 모양을 생성할 때 2nm 미만의 수직 정밀도를 보장하며, 기록 프로세스 중에 즉시 매개변수를 조정할 수 있습니다.
  • 10개의 팁으로 병렬 쓰기: Decapede 기능을 사용하면 10개의 가열 가능한 팁으로 병렬 쓰기가 가능하여 NanoFrazor 의 유명한 정밀도를 유지하면서 처리량을 크게 늘릴 수 있습니다. 이 기능은 대면적 패터닝과 시간에 민감한 애플리케이션에 이상적입니다.
  • 모듈식 및 업그레이드 가능한 설계: NanoFrazor 의 모듈식 플랫폼은 특정 연구 요구사항과 실험실 환경에 맞게 광범위한 사용자 정의가 가능합니다. 패터닝 모드, 하우징 옵션, 소프트웨어 모듈을 맞춤화하여 유연성과 기능을 극대화할 수 있습니다. 연구가 발전함에 따라 추가 모듈로 NanoFrazor 을 업그레이드하여 장기적인 적응성을 보장할 수 있습니다.
  • 포괄적인 공정 지원: IBM Research Zürich와 Heidelberg Instruments Nano에서 20년 이상 축적된 연구 개발을 바탕으로, NanoFrazor 사용자 커뮤니티는 하드웨어와 소프트웨어의 지속적인 발전 혜택을 누릴 수 있습니다. 사용자는 에칭 및 리프트오프와 같은 패턴 전송 공정에 대한 모범 사례와 프로토콜이 포함된 포괄적인 라이브러리에 접근할 수 있어 다양한 응용 분야에서 최적의 결과를 보장합니다.

어플리케이션

  • 양자 디바이스: 양자 컴퓨팅 및 고급 전자 애플리케이션을 위한 정밀한 나노 구조를 만듭니다.
  • 1D/2D 재료: 그래핀, 전이 금속 디칼코게나이드 및 기타 2D 재료에 나노 구조를 패턴화하고 수정합니다.
  • 포토닉스: 광학 시스템의 사인파 격자 및 위상판과 같은 그레이 스케일 형상에 대해 2nm 미만의 수직 정밀도를 달성합니다.
  • 생명공학: 세포 성장을 위한 생체 모방 기질을 개발하고 생물학적 및 화학적 분석을 위한 나노 유체 구조를 만듭니다.
  • 로컬 재료 변형: 재료 과학의 혁신적인 연구를 위해 화학 반응 및 상 변화와 같은 국소적인 열 기반 프로세스를 활성화합니다.

NanoFrazor는 정교한 열 스캐닝 프로브 리소그래피를 전 세계 연구자와 기술자들이 활용할 수 있도록 함으로써 나노 제조를 혁신합니다. 최첨단 기능, 모듈식 설계, 광범위한 응용 가능성으로 인해 획기적인 연구와 기술 발전에 필수적인 도구로 자리매김합니다.

NanoFrazor에 대해 더 알아보려면 전용 웹사이트 nanofrazor.com을 방문하세요. 시스템을 구성하고 NanoFrazor가 귀하의 연구를 새로운 차원으로 끌어올리는 방법을 확인하세요.

NanoFrazor는 첨단 연구와 다양한 응용 분야에서의 혁신을 가능하게 하기 위해 설계된 획기적인 상용 열 스캐닝 프로브 리소그래피(t-SPL) 시스템입니다. 양자 장치, 1D/2D 소재, 양자점, 조셉슨 접합 또는 나노스케일 장치 배열을 연구하든, NanoFrazor는 비할 데 없는 정밀성과 다재다능성을 제공합니다. 그 기능은 그레이스케일 포토닉스, 나노유체 구조, 세포 성장용 생체 모방 기판, 열에 의한 화학 반응 또는 물리적 상변화를 통한 국소적 재료 변형 등 복잡한 과제에도 적용됩니다.

핵심 사항

  • 고해상도 나노패터닝: NanoFrazor 의 중심에는 복잡한 나노 구조의 기록과 검사를 동시에 수행할 수 있는 매우 날카롭고 가열 가능한 프로브 팁이 있습니다. 자체 보정 패터닝은 폐쇄 루프 리소그래피(CLL) 기능을 통해 이루어집니다. 이 혁신적인 설계는 복잡한 패턴과 구조를 만들 때 탁월한 정밀도를 제공합니다.
  • 직접 레이저 승화(DLS) 모듈: DLS 모듈은 나노 및 마이크로 구조를 단일 단계에서 동일한 레지스트 레이어에 효율적으로 기록할 수 있도록 하여 제작을 간소화합니다. 이 통합으로 워크플로가 간소화되고 생산성이 향상됩니다.
  • 마커리스 오버레이를 사용한 현장 이미징: NanoFrazor 의 현장 이미징 기술은 마커리스 오버레이와 기록된 패턴과 대상 패턴의 실시간 비교 기능을 도입했습니다. 이 고유한 CLL(폐쇄 루프 리소그래피) 기능은 복잡한 2.5D(그레이스케일) 모양을 생성할 때 2nm 미만의 수직 정밀도를 보장하며, 기록 프로세스 중에 즉시 매개변수를 조정할 수 있습니다.
  • 10개의 팁으로 병렬 쓰기: Decapede 기능을 사용하면 10개의 가열 가능한 팁으로 병렬 쓰기가 가능하여 NanoFrazor 의 유명한 정밀도를 유지하면서 처리량을 크게 늘릴 수 있습니다. 이 기능은 대면적 패터닝과 시간에 민감한 애플리케이션에 이상적입니다.
  • 모듈식 및 업그레이드 가능한 설계: NanoFrazor 의 모듈식 플랫폼은 특정 연구 요구사항과 실험실 환경에 맞게 광범위한 사용자 정의가 가능합니다. 패터닝 모드, 하우징 옵션, 소프트웨어 모듈을 맞춤화하여 유연성과 기능을 극대화할 수 있습니다. 연구가 발전함에 따라 추가 모듈로 NanoFrazor 을 업그레이드하여 장기적인 적응성을 보장할 수 있습니다.
  • 포괄적인 공정 지원: IBM Research Zürich와 Heidelberg Instruments Nano에서 20년 이상 축적된 연구 개발을 바탕으로, NanoFrazor 사용자 커뮤니티는 하드웨어와 소프트웨어의 지속적인 발전 혜택을 누릴 수 있습니다. 사용자는 에칭 및 리프트오프와 같은 패턴 전송 공정에 대한 모범 사례와 프로토콜이 포함된 포괄적인 라이브러리에 접근할 수 있어 다양한 응용 분야에서 최적의 결과를 보장합니다.

어플리케이션

  • 양자 디바이스: 양자 컴퓨팅 및 고급 전자 애플리케이션을 위한 정밀한 나노 구조를 만듭니다.
  • 1D/2D 재료: 그래핀, 전이 금속 디칼코게나이드 및 기타 2D 재료에 나노 구조를 패턴화하고 수정합니다.
  • 포토닉스: 광학 시스템의 사인파 격자 및 위상판과 같은 그레이 스케일 형상에 대해 2nm 미만의 수직 정밀도를 달성합니다.
  • 생명공학: 세포 성장을 위한 생체 모방 기질을 개발하고 생물학적 및 화학적 분석을 위한 나노 유체 구조를 만듭니다.
  • 로컬 재료 변형: 재료 과학의 혁신적인 연구를 위해 화학 반응 및 상 변화와 같은 국소적인 열 기반 프로세스를 활성화합니다.

NanoFrazor는 정교한 열 스캐닝 프로브 리소그래피를 전 세계 연구자와 기술자들이 활용할 수 있도록 함으로써 나노 제조를 혁신합니다. 최첨단 기능, 모듈식 설계, 광범위한 응용 가능성으로 인해 획기적인 연구와 기술 발전에 필수적인 도구로 자리매김합니다.

NanoFrazor에 대해 더 알아보려면 전용 웹사이트 nanofrazor.com을 방문하세요. 시스템을 구성하고 NanoFrazor가 귀하의 연구를 새로운 차원으로 끌어올리는 방법을 확인하세요.

써멀 스캐닝 프로브 리소그래피

나노 패터닝에 대한 새로운 접근 방식으로 기존에는 불가능했던 애플리케이션 지원

고해상도

복잡한 형상에서도 나노 구조의 손쉬운 패터닝; 최소 측면 피처 15nm, 수직 해상도 2nm

손상 없는 리소그래피

하전 입자로 인한 손상 없음, 근접 효과 없음, 깨끗한 리프트 오프

호환성

리프트오프, 에칭 등 모든 표준 패턴 전송 방법과 함께. – “레시피 북”에서 지식 리소스 및 모범 사례를 확인할 수 있습니다.

독특한 열 캔틸레버

손쉬운 교체와 비용 효율성을 위한 통합 마이크로히터 및 거리 센서

정밀한 오버레이 및 스티칭

마커리스 오버레이 및 스티칭 정확도 25nm 지정, 10nm 미만 오버레이 표시

현장 이미징

패턴화된 구조 속성의 실시간 시각화

낮은 소유 비용

클린룸, 진공 펌프 또는 고가의 소모품이 필요 없습니다.

스크립팅

사용자 지정 작업의 손쉬운 자동화

레이저 승화 모듈

동일한 노광 단계에서 거친 구조의 높은 처리량 노광; 405nm 파장 CW 파이버 레이저

Decapede

10가지 팁으로 병렬 쓰기

독립형 하우징

3중 방음, 뛰어난 진동 차단 | PC 제어 온도 및 습도 모니터링, 가스 흐름 조절 | (크기 185cm x 78cm x 128cm / 무게 650kg)

전체 글러브박스 통합

제어된 환경에서 나노리소그래피를 위한 글로브박스에 통합 가능

그레이스케일 소프트웨어 모듈

2.5nm 미만의 수직 해상도에서 2.5D 패터닝

자동화된 오버레이 소프트웨어 모듈

25nm 정확도로 기존 지형 위에 마커 없이 자동화된 오버레이 적용

스마트 분할 소프트웨어 모듈

대규모 레이아웃 처리 및 필드 순서를 최적화합니다.

동적 로컬 온도 변조

열을 통한 국소적 재료 변형을 사용하는 열화학 응용 분야용

고객 어플리케이션

고객이 당사 시스템을 선택하는 이유

"저차원 소재의 다양한 응용 분야에서 고정밀 리소그래피, 오버레이 및 스티칭에 매우 유용한 폐쇄 루프 리소그래피 기능( NanoFrazor )이 마음에 듭니다. 또한 시스템 사용 시 필요한 모든 측면에 대해 NanoFrazor 지원팀의 신속하고 전문적인 답변(24시간 이내)에 감사드립니다."

샤오루이 정, 조교수, 수석 연구자
웨스트 레이크 대학교
항저우, 중국

"나노리소그래피를 위한 하나의 소형 장비에 다양한 기능이 결합된 나노프레이저는 독특한 기능을 제공합니다. 특히 2D 소재에 손상이 적은 마커리스 오버레이 및 스티칭, 3D 그레이스케일 나노리소그래피, 소재의 직접 열 변환 및 수정이 가능한 점이 돋보입니다."

프란체스코 부아티에 드 몽고, 실험 응집 물질 물리학 교수
제노바 대학교 피시카 디 파르티멘토
제노바, 이탈리아

기술 데이터

열 프로브 쓰기직접 레이저 승화
단일 팁Decapede
패터닝 성능
최소 구조 크기 [nm]1515600
최소 선 및 간격 [하프 피치, nm]25251000
그레이스케일/3차원 해상도(PPA 단위의 단계 크기) [nm]22-
최대 쓰기 필드 크기 [X μm x Y μm]60 x 6060 x 6060 x 60
현장 스티칭 정확도(마커리스, 현장 이미징 사용) [nm] [nm]2525600
오버레이 정확도(마커 없음, 현장 이미징 사용) [nm] [nm]2525600
쓰기 속도(일반 스캔 속도) [mm/s]115
쓰기 속도(50nm 픽셀) [μm²/분] 100010 000100 000
지형 이미징 성능
측면 이미징 해상도(피처 크기) [nm]10
수직 해상도(지형 감도) [nm]<0.5
이미징 속도(@ 50nm 해상도) [μm²/min]100010 000-
기본 시스템 기능
인쇄물 크기1 x 1mm² ~ 100 x 100mm²(제한적으로 150 x 150mm² 가능)
두께: 최대 10mm
광학 현미경0.6μm 디지털 해상도, 2μm 회절 한계, 1.0mm x 1.0mm 시야각, 자동 초점
자석 캔틸레버 홀더빠르고(<1분) 정확한 팁 교환
진동 차단능동형 진동 차단 단계
선택적 시스템 기능 / 모듈성
직접 레이저 승화레이저 소스 및 광학 장치: 405nm 파장 CW 파이버 레이저, 300mW, 최소 초점 크기 1.2μm 레이저 자동 초점: NanoFrazor 캔틸레버의 거리 센서 사용
Decapede10가지 팁으로 병렬 쓰기
독립형 하우징3중 방음, 뛰어난 진동 차단(> 98% @ 10Hz) | PC 제어 온도 및 습도 모니터링, 가스 흐름 조절 | (크기 185cm x 78cm x 128cm / 무게 650kg)
글로브박스 전체 통합제어된 환경에서 나노리소그래피를 위한 글로브박스에 통합 가능
NanoFrazor 캔틸레버 기능(싱글 팁 및 데카페드 모두)
통합 구성 요소팁 히터, 지형 센서, 정전기 작동
팁 지오메트리<반경 10nm, 길이 750nm의 원추형 팁
팁 히터 온도 범위25 °C – 1400 °C (<1 K 설정점 분해능)
기본 시스템 치수 및 설치 요구 사항
높이 × 너비 × 깊이탁상용 유닛: 44㎝ x 40㎝ x 45㎝
컨트롤러: 84㎝ x 60㎝ x 56㎝
무게탁상용 장치: 50kg
컨트롤러: 80kg
전원 입력110 또는 220V AC, 10A 1개
소프트웨어 기능
GDS 및 비트맵 가져오기, 256 그레이 스케일 레벨, 오버레이를 위한 지형 이미지 분석 및 그리기, 팁과 레이저 쓰기 간의 믹스 앤 매치, 완전 자동화된 보정 루틴, Python 스크립팅

참고
사양은 개별 공정 조건에 따라 다르며 장비 구성에 따라 달라질 수 있습니다. 쓰기 속도는 픽셀 크기와 쓰기 모드에 따라 다릅니다. 디자인 및 사양은 사전 고지 없이 변경될 수 있습니다.

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