나노프레이저

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다용도 모듈식 나노 리소그래피 도구

  • Product Description

  • 나노프레이저는 열 주사 프로브 리소그래피(t-SPL)를 위한 획기적인 상용 시스템으로, 다양한 응용 분야에서 첨단 연구와 혁신을 가능하게 하도록 설계되었습니다. 양자 소자, 1D/2D 재료, 양자점, 조셉슨 접합 또는 나노 크기의 소자 어레이를 탐색할 때 NanoFrazor는 비교할 수 없는 정밀도와 다용도성을 제공합니다. 그레이 스케일 포토닉스, 나노 유체 구조, 세포 성장을 위한 생체 모방 기판, 열 구동 화학 반응 또는 물리적 상 변화를 통한 국소 재료 변형 등 복잡한 과제까지 그 기능을 확장할 수 있습니다.

    주요 기능

    • 고해상도 나노패터닝: 나노프레이저의 핵심에는 복잡한 나노 구조를 동시에 기록하고 검사할 수 있는 매우 날카롭고 가열 가능한 프로브 팁이 있습니다. 자체 보정 패터닝은 폐쇄 루프 리소그래피(CLL) 기능을 통해 이루어집니다. 이 혁신적인 설계는 복잡한 패턴과 구조를 만들 때 탁월한 정밀도를 제공합니다.
    • 직접 레이저 승화(DLS) 모듈: DLS 모듈은 나노 및 마이크로 구조를 단일 단계에서 동일한 레지스트 레이어에 효율적으로 기록할 수 있도록 하여 제작을 간소화합니다. 이 통합으로 워크플로가 간소화되고 생산성이 향상됩니다.
    • 마커리스 오버레이를 사용한 현장 이미징: 나노프레이저의 현장 이미징 기술은 마커리스 오버레이와 기록된 패턴과 타겟 패턴의 실시간 비교를 도입했습니다. 이 고유한 CLL(폐쇄 루프 리소그래피) 기능은 복잡한 2.5D(그레이스케일) 형상을 생성할 때 2nm 미만의 수직 정밀도를 보장하고 기록 프로세스 중에 즉시 파라미터를 조정할 수 있습니다.
    • 10개의 팁으로 병렬 쓰기: Decapede 기능을 사용하면 10개의 가열 가능한 팁으로 병렬 기록이 가능하여 NanoFrazor의 유명한 정밀도를 유지하면서 처리량을 크게 늘릴 수 있습니다. 이 기능은 대면적 패터닝 및 시간에 민감한 애플리케이션에 이상적입니다.
    • 모듈식 및 업그레이드 가능한 설계: 나노프레이저의 모듈식 플랫폼은 특정 연구 요구와 실험실 환경에 맞게 폭넓게 맞춤화할 수 있습니다. 패터닝 모드, 하우징 옵션 및 소프트웨어 모듈을 맞춤화하여 유연성과 기능을 극대화할 수 있습니다. 연구가 발전함에 따라 추가 모듈로 NanoFrazor를 업그레이드하여 장기적인 적응성을 보장할 수 있습니다.
    • 포괄적인 공정 지원: 취리히 IBM 연구소와 하이델베르크 인스트루먼트 나노에서 20년 이상 연구 개발해온 NanoFrazor 사용자 커뮤니티는 하드웨어와 소프트웨어의 지속적인 발전의 혜택을 누리고 있습니다. 사용자는 에칭 및 리프트오프와 같은 패턴 전송 프로세스에 대한 포괄적인 모범 사례 및 프로토콜 라이브러리에 액세스하여 다양한 애플리케이션에 최적의 결과를 얻을 수 있습니다.

    애플리케이션

    • 양자 디바이스: 양자 컴퓨팅 및 고급 전자 애플리케이션을 위한 정밀한 나노 구조를 만듭니다.
    • 1D/2D 재료: 그래핀, 전이 금속 디칼코게나이드 및 기타 2D 재료에 나노 구조를 패턴화하고 수정합니다.
    • 포토닉스: 광학 시스템의 사인파 격자 및 위상판과 같은 그레이 스케일 형상에 대해 2nm 미만의 수직 정밀도를 달성합니다.
    • 생명공학: 세포 성장을 위한 생체 모방 기질을 개발하고 생물학적 및 화학적 분석을 위한 나노 유체 구조를 만듭니다.
    • 로컬 재료 변형: 재료 과학의 혁신적인 연구를 위해 화학 반응 및 상 변화와 같은 국소적인 열 기반 프로세스를 활성화합니다.

    나노프레이저는 전 세계 연구자와 기술자가 정교한 열 스캐닝 프로브 리소그래피를 이용할 수 있게 함으로써 나노 제조에 혁신을 가져왔습니다. 최첨단 기능, 모듈식 설계, 광범위한 응용 범위로 획기적인 연구와 기술 발전에 없어서는 안 될 도구로 자리매김하고 있습니다.

    나노프레이저에 대해 자세히 알아보려면 전용 웹사이트( nanofrazor.com)를 방문하세요. 시스템을 구성하고 나노프레이저가 어떻게 연구를 새로운 차원으로 끌어올릴 수 있는지 알아보세요.

    나노프레이저는 열 주사 프로브 리소그래피(t-SPL)를 위한 획기적인 상용 시스템으로, 다양한 응용 분야에서 첨단 연구와 혁신을 가능하게 하도록 설계되었습니다. 양자 소자, 1D/2D 재료, 양자점, 조셉슨 접합 또는 나노 크기의 소자 어레이를 탐색할 때 NanoFrazor는 비교할 수 없는 정밀도와 다용도성을 제공합니다. 그레이 스케일 포토닉스, 나노 유체 구조, 세포 성장을 위한 생체 모방 기판, 열 구동 화학 반응 또는 물리적 상 변화를 통한 국소 재료 변형 등 복잡한 과제까지 그 기능을 확장할 수 있습니다.

    주요 기능

    • 고해상도 나노패터닝: 나노프레이저의 핵심에는 복잡한 나노 구조를 동시에 기록하고 검사할 수 있는 매우 날카롭고 가열 가능한 프로브 팁이 있습니다. 자체 보정 패터닝은 폐쇄 루프 리소그래피(CLL) 기능을 통해 이루어집니다. 이 혁신적인 설계는 복잡한 패턴과 구조를 만들 때 탁월한 정밀도를 제공합니다.
    • 직접 레이저 승화(DLS) 모듈: DLS 모듈은 나노 및 마이크로 구조를 단일 단계에서 동일한 레지스트 레이어에 효율적으로 기록할 수 있도록 하여 제작을 간소화합니다. 이 통합으로 워크플로가 간소화되고 생산성이 향상됩니다.
    • 마커리스 오버레이를 사용한 현장 이미징: 나노프레이저의 현장 이미징 기술은 마커리스 오버레이와 기록된 패턴과 타겟 패턴의 실시간 비교를 도입했습니다. 이 고유한 CLL(폐쇄 루프 리소그래피) 기능은 복잡한 2.5D(그레이스케일) 형상을 생성할 때 2nm 미만의 수직 정밀도를 보장하고 기록 프로세스 중에 즉시 파라미터를 조정할 수 있습니다.
    • 10개의 팁으로 병렬 쓰기: Decapede 기능을 사용하면 10개의 가열 가능한 팁으로 병렬 기록이 가능하여 NanoFrazor의 유명한 정밀도를 유지하면서 처리량을 크게 늘릴 수 있습니다. 이 기능은 대면적 패터닝 및 시간에 민감한 애플리케이션에 이상적입니다.
    • 모듈식 및 업그레이드 가능한 설계: 나노프레이저의 모듈식 플랫폼은 특정 연구 요구와 실험실 환경에 맞게 폭넓게 맞춤화할 수 있습니다. 패터닝 모드, 하우징 옵션 및 소프트웨어 모듈을 맞춤화하여 유연성과 기능을 극대화할 수 있습니다. 연구가 발전함에 따라 추가 모듈로 NanoFrazor를 업그레이드하여 장기적인 적응성을 보장할 수 있습니다.
    • 포괄적인 공정 지원: 취리히 IBM 연구소와 하이델베르크 인스트루먼트 나노에서 20년 이상 연구 개발해온 NanoFrazor 사용자 커뮤니티는 하드웨어와 소프트웨어의 지속적인 발전의 혜택을 누리고 있습니다. 사용자는 에칭 및 리프트오프와 같은 패턴 전송 프로세스에 대한 포괄적인 모범 사례 및 프로토콜 라이브러리에 액세스하여 다양한 애플리케이션에 최적의 결과를 얻을 수 있습니다.

    애플리케이션

    • 양자 디바이스: 양자 컴퓨팅 및 고급 전자 애플리케이션을 위한 정밀한 나노 구조를 만듭니다.
    • 1D/2D 재료: 그래핀, 전이 금속 디칼코게나이드 및 기타 2D 재료에 나노 구조를 패턴화하고 수정합니다.
    • 포토닉스: 광학 시스템의 사인파 격자 및 위상판과 같은 그레이 스케일 형상에 대해 2nm 미만의 수직 정밀도를 달성합니다.
    • 생명공학: 세포 성장을 위한 생체 모방 기질을 개발하고 생물학적 및 화학적 분석을 위한 나노 유체 구조를 만듭니다.
    • 로컬 재료 변형: 재료 과학의 혁신적인 연구를 위해 화학 반응 및 상 변화와 같은 국소적인 열 기반 프로세스를 활성화합니다.

    나노프레이저는 전 세계 연구자와 기술자가 정교한 열 스캐닝 프로브 리소그래피를 이용할 수 있게 함으로써 나노 제조에 혁신을 가져왔습니다. 최첨단 기능, 모듈식 설계, 광범위한 응용 범위로 획기적인 연구와 기술 발전에 없어서는 안 될 도구로 자리매김하고 있습니다.

    나노프레이저에 대해 자세히 알아보려면 전용 웹사이트( nanofrazor.com)를 방문하세요. 시스템을 구성하고 나노프레이저가 어떻게 연구를 새로운 차원으로 끌어올릴 수 있는지 알아보세요.

  • Product Highlights

  • 열 스캐닝 프로브 리소그래피

    나노 패터닝에 대한 새로운 접근 방식으로 기존에는 불가능했던 애플리케이션 지원

    고해상도

    복잡한 형상에서도 나노 구조의 손쉬운 패터닝; 최소 측면 피처 15nm, 수직 해상도 2nm

    손상 없는 리소그래피

    하전 입자로 인한 손상 없음, 근접 효과 없음, 깨끗한 리프트 오프

    호환성

    리프트오프, 에칭 등 모든 표준 패턴 전송 방법과 함께. – “레시피 북”에서 지식 리소스 및 모범 사례를 확인할 수 있습니다.

    독특한 열 캔틸레버

    손쉬운 교체와 비용 효율성을 위한 통합 마이크로히터 및 거리 센서

    정밀한 오버레이 및 스티칭

    마커리스 오버레이 및 스티칭 정확도 25nm 지정, 10nm 미만 오버레이 표시

    현장 이미징

    패턴화된 구조 속성의 실시간 시각화

    낮은 소유 비용

    클린룸, 진공 펌프 또는 고가의 소모품이 필요 없습니다.

    스크립팅

    사용자 지정 작업의 손쉬운 자동화

  • Available Modules

  • 레이저 승화 모듈

    동일한 노광 단계에서 거친 구조의 높은 처리량 노광; 405nm 파장 CW 파이버 레이저

    Decapede

    10가지 팁으로 병렬 쓰기

    독립형 하우징

    3중 방음, 뛰어난 진동 차단 | PC 제어 온도 및 습도 모니터링, 가스 흐름 조절 | (크기 185cm x 78cm x 128cm / 무게 650kg)

    전체 글러브박스 통합

    제어된 환경에서 나노리소그래피를 위한 글로브박스에 통합 가능

    그레이스케일 소프트웨어 모듈

    2.5nm 미만의 수직 해상도에서 2.5D 패터닝

    자동화된 오버레이 소프트웨어 모듈

    25nm 정확도로 기존 지형 위에 마커 없이 자동화된 오버레이 적용

    스마트 분할 소프트웨어 모듈

    대규모 레이아웃 처리 및 필드 순서를 최적화합니다.

    동적 로컬 온도 변조

    열을 통한 국소적 재료 변형을 사용하는 열화학 응용 분야용

나노프레이저는 열 주사 프로브 리소그래피(t-SPL)를 위한 획기적인 상용 시스템으로, 다양한 응용 분야에서 첨단 연구와 혁신을 가능하게 하도록 설계되었습니다. 양자 소자, 1D/2D 재료, 양자점, 조셉슨 접합 또는 나노 크기의 소자 어레이를 탐색할 때 NanoFrazor는 비교할 수 없는 정밀도와 다용도성을 제공합니다. 그레이 스케일 포토닉스, 나노 유체 구조, 세포 성장을 위한 생체 모방 기판, 열 구동 화학 반응 또는 물리적 상 변화를 통한 국소 재료 변형 등 복잡한 과제까지 그 기능을 확장할 수 있습니다.

주요 기능

  • 고해상도 나노패터닝: 나노프레이저의 핵심에는 복잡한 나노 구조를 동시에 기록하고 검사할 수 있는 매우 날카롭고 가열 가능한 프로브 팁이 있습니다. 자체 보정 패터닝은 폐쇄 루프 리소그래피(CLL) 기능을 통해 이루어집니다. 이 혁신적인 설계는 복잡한 패턴과 구조를 만들 때 탁월한 정밀도를 제공합니다.
  • 직접 레이저 승화(DLS) 모듈: DLS 모듈은 나노 및 마이크로 구조를 단일 단계에서 동일한 레지스트 레이어에 효율적으로 기록할 수 있도록 하여 제작을 간소화합니다. 이 통합으로 워크플로가 간소화되고 생산성이 향상됩니다.
  • 마커리스 오버레이를 사용한 현장 이미징: 나노프레이저의 현장 이미징 기술은 마커리스 오버레이와 기록된 패턴과 타겟 패턴의 실시간 비교를 도입했습니다. 이 고유한 CLL(폐쇄 루프 리소그래피) 기능은 복잡한 2.5D(그레이스케일) 형상을 생성할 때 2nm 미만의 수직 정밀도를 보장하고 기록 프로세스 중에 즉시 파라미터를 조정할 수 있습니다.
  • 10개의 팁으로 병렬 쓰기: Decapede 기능을 사용하면 10개의 가열 가능한 팁으로 병렬 기록이 가능하여 NanoFrazor의 유명한 정밀도를 유지하면서 처리량을 크게 늘릴 수 있습니다. 이 기능은 대면적 패터닝 및 시간에 민감한 애플리케이션에 이상적입니다.
  • 모듈식 및 업그레이드 가능한 설계: 나노프레이저의 모듈식 플랫폼은 특정 연구 요구와 실험실 환경에 맞게 폭넓게 맞춤화할 수 있습니다. 패터닝 모드, 하우징 옵션 및 소프트웨어 모듈을 맞춤화하여 유연성과 기능을 극대화할 수 있습니다. 연구가 발전함에 따라 추가 모듈로 NanoFrazor를 업그레이드하여 장기적인 적응성을 보장할 수 있습니다.
  • 포괄적인 공정 지원: 취리히 IBM 연구소와 하이델베르크 인스트루먼트 나노에서 20년 이상 연구 개발해온 NanoFrazor 사용자 커뮤니티는 하드웨어와 소프트웨어의 지속적인 발전의 혜택을 누리고 있습니다. 사용자는 에칭 및 리프트오프와 같은 패턴 전송 프로세스에 대한 포괄적인 모범 사례 및 프로토콜 라이브러리에 액세스하여 다양한 애플리케이션에 최적의 결과를 얻을 수 있습니다.

애플리케이션

  • 양자 디바이스: 양자 컴퓨팅 및 고급 전자 애플리케이션을 위한 정밀한 나노 구조를 만듭니다.
  • 1D/2D 재료: 그래핀, 전이 금속 디칼코게나이드 및 기타 2D 재료에 나노 구조를 패턴화하고 수정합니다.
  • 포토닉스: 광학 시스템의 사인파 격자 및 위상판과 같은 그레이 스케일 형상에 대해 2nm 미만의 수직 정밀도를 달성합니다.
  • 생명공학: 세포 성장을 위한 생체 모방 기질을 개발하고 생물학적 및 화학적 분석을 위한 나노 유체 구조를 만듭니다.
  • 로컬 재료 변형: 재료 과학의 혁신적인 연구를 위해 화학 반응 및 상 변화와 같은 국소적인 열 기반 프로세스를 활성화합니다.

나노프레이저는 전 세계 연구자와 기술자가 정교한 열 스캐닝 프로브 리소그래피를 이용할 수 있게 함으로써 나노 제조에 혁신을 가져왔습니다. 최첨단 기능, 모듈식 설계, 광범위한 응용 범위로 획기적인 연구와 기술 발전에 없어서는 안 될 도구로 자리매김하고 있습니다.

나노프레이저에 대해 자세히 알아보려면 전용 웹사이트( nanofrazor.com)를 방문하세요. 시스템을 구성하고 나노프레이저가 어떻게 연구를 새로운 차원으로 끌어올릴 수 있는지 알아보세요.

나노프레이저는 열 주사 프로브 리소그래피(t-SPL)를 위한 획기적인 상용 시스템으로, 다양한 응용 분야에서 첨단 연구와 혁신을 가능하게 하도록 설계되었습니다. 양자 소자, 1D/2D 재료, 양자점, 조셉슨 접합 또는 나노 크기의 소자 어레이를 탐색할 때 NanoFrazor는 비교할 수 없는 정밀도와 다용도성을 제공합니다. 그레이 스케일 포토닉스, 나노 유체 구조, 세포 성장을 위한 생체 모방 기판, 열 구동 화학 반응 또는 물리적 상 변화를 통한 국소 재료 변형 등 복잡한 과제까지 그 기능을 확장할 수 있습니다.

주요 기능

  • 고해상도 나노패터닝: 나노프레이저의 핵심에는 복잡한 나노 구조를 동시에 기록하고 검사할 수 있는 매우 날카롭고 가열 가능한 프로브 팁이 있습니다. 자체 보정 패터닝은 폐쇄 루프 리소그래피(CLL) 기능을 통해 이루어집니다. 이 혁신적인 설계는 복잡한 패턴과 구조를 만들 때 탁월한 정밀도를 제공합니다.
  • 직접 레이저 승화(DLS) 모듈: DLS 모듈은 나노 및 마이크로 구조를 단일 단계에서 동일한 레지스트 레이어에 효율적으로 기록할 수 있도록 하여 제작을 간소화합니다. 이 통합으로 워크플로가 간소화되고 생산성이 향상됩니다.
  • 마커리스 오버레이를 사용한 현장 이미징: 나노프레이저의 현장 이미징 기술은 마커리스 오버레이와 기록된 패턴과 타겟 패턴의 실시간 비교를 도입했습니다. 이 고유한 CLL(폐쇄 루프 리소그래피) 기능은 복잡한 2.5D(그레이스케일) 형상을 생성할 때 2nm 미만의 수직 정밀도를 보장하고 기록 프로세스 중에 즉시 파라미터를 조정할 수 있습니다.
  • 10개의 팁으로 병렬 쓰기: Decapede 기능을 사용하면 10개의 가열 가능한 팁으로 병렬 기록이 가능하여 NanoFrazor의 유명한 정밀도를 유지하면서 처리량을 크게 늘릴 수 있습니다. 이 기능은 대면적 패터닝 및 시간에 민감한 애플리케이션에 이상적입니다.
  • 모듈식 및 업그레이드 가능한 설계: 나노프레이저의 모듈식 플랫폼은 특정 연구 요구와 실험실 환경에 맞게 폭넓게 맞춤화할 수 있습니다. 패터닝 모드, 하우징 옵션 및 소프트웨어 모듈을 맞춤화하여 유연성과 기능을 극대화할 수 있습니다. 연구가 발전함에 따라 추가 모듈로 NanoFrazor를 업그레이드하여 장기적인 적응성을 보장할 수 있습니다.
  • 포괄적인 공정 지원: 취리히 IBM 연구소와 하이델베르크 인스트루먼트 나노에서 20년 이상 연구 개발해온 NanoFrazor 사용자 커뮤니티는 하드웨어와 소프트웨어의 지속적인 발전의 혜택을 누리고 있습니다. 사용자는 에칭 및 리프트오프와 같은 패턴 전송 프로세스에 대한 포괄적인 모범 사례 및 프로토콜 라이브러리에 액세스하여 다양한 애플리케이션에 최적의 결과를 얻을 수 있습니다.

애플리케이션

  • 양자 디바이스: 양자 컴퓨팅 및 고급 전자 애플리케이션을 위한 정밀한 나노 구조를 만듭니다.
  • 1D/2D 재료: 그래핀, 전이 금속 디칼코게나이드 및 기타 2D 재료에 나노 구조를 패턴화하고 수정합니다.
  • 포토닉스: 광학 시스템의 사인파 격자 및 위상판과 같은 그레이 스케일 형상에 대해 2nm 미만의 수직 정밀도를 달성합니다.
  • 생명공학: 세포 성장을 위한 생체 모방 기질을 개발하고 생물학적 및 화학적 분석을 위한 나노 유체 구조를 만듭니다.
  • 로컬 재료 변형: 재료 과학의 혁신적인 연구를 위해 화학 반응 및 상 변화와 같은 국소적인 열 기반 프로세스를 활성화합니다.

나노프레이저는 전 세계 연구자와 기술자가 정교한 열 스캐닝 프로브 리소그래피를 이용할 수 있게 함으로써 나노 제조에 혁신을 가져왔습니다. 최첨단 기능, 모듈식 설계, 광범위한 응용 범위로 획기적인 연구와 기술 발전에 없어서는 안 될 도구로 자리매김하고 있습니다.

나노프레이저에 대해 자세히 알아보려면 전용 웹사이트( nanofrazor.com)를 방문하세요. 시스템을 구성하고 나노프레이저가 어떻게 연구를 새로운 차원으로 끌어올릴 수 있는지 알아보세요.

열 스캐닝 프로브 리소그래피

나노 패터닝에 대한 새로운 접근 방식으로 기존에는 불가능했던 애플리케이션 지원

고해상도

복잡한 형상에서도 나노 구조의 손쉬운 패터닝; 최소 측면 피처 15nm, 수직 해상도 2nm

손상 없는 리소그래피

하전 입자로 인한 손상 없음, 근접 효과 없음, 깨끗한 리프트 오프

호환성

리프트오프, 에칭 등 모든 표준 패턴 전송 방법과 함께. – “레시피 북”에서 지식 리소스 및 모범 사례를 확인할 수 있습니다.

독특한 열 캔틸레버

손쉬운 교체와 비용 효율성을 위한 통합 마이크로히터 및 거리 센서

정밀한 오버레이 및 스티칭

마커리스 오버레이 및 스티칭 정확도 25nm 지정, 10nm 미만 오버레이 표시

현장 이미징

패턴화된 구조 속성의 실시간 시각화

낮은 소유 비용

클린룸, 진공 펌프 또는 고가의 소모품이 필요 없습니다.

스크립팅

사용자 지정 작업의 손쉬운 자동화

레이저 승화 모듈

동일한 노광 단계에서 거친 구조의 높은 처리량 노광; 405nm 파장 CW 파이버 레이저

Decapede

10가지 팁으로 병렬 쓰기

독립형 하우징

3중 방음, 뛰어난 진동 차단 | PC 제어 온도 및 습도 모니터링, 가스 흐름 조절 | (크기 185cm x 78cm x 128cm / 무게 650kg)

전체 글러브박스 통합

제어된 환경에서 나노리소그래피를 위한 글로브박스에 통합 가능

그레이스케일 소프트웨어 모듈

2.5nm 미만의 수직 해상도에서 2.5D 패터닝

자동화된 오버레이 소프트웨어 모듈

25nm 정확도로 기존 지형 위에 마커 없이 자동화된 오버레이 적용

스마트 분할 소프트웨어 모듈

대규모 레이아웃 처리 및 필드 순서를 최적화합니다.

동적 로컬 온도 변조

열을 통한 국소적 재료 변형을 사용하는 열화학 응용 분야용

Customer applications

Electrical contacts to an InSb nanowire were fabricated using markerless overlay with the NanoFrazor. The nanowire was first precisely located using the integrated topography sensor, before the electrode design was overlaid and patterned. In order to protect the nanowire from damage, areas directly on the nanowire were patterned exclusively with t-SPL. (L. Shani*, J. Chaaban* et al 2024 Nanotechnology 35 255302)
Electrical contacts to an InSb nanowire were fabricated using markerless overlay with the NanoFrazor. The nanowire was first precisely located using the integrated topography sensor, before the electrode design was overlaid and patterned. In order to protect the nanowire from damage, areas directly on the nanowire were patterned exclusively with t-SPL.
(L. Shani*, J. Chaaban* et al 2024 Nanotechnology 35 255302)
Fabricating full devices to investigate and exploit transition metal dichalcogenides is typically very challenging, due to the environmental sensitivity of these materials. With the NanoFrazor, electrodes were overlaid and patterned without the need to expose the underlying flakes to a harsh environment.
Fabricating full devices to investigate and exploit transition metal dichalcogenides is typically very challenging, due to the environmental sensitivity of these materials. With the NanoFrazor, electrodes were overlaid and patterned without the need to expose the underlying flakes to a harsh environment.
Manipulation of light often requires sub-wavelength patterning capabilities in all three dimensions. With the NanoFrazor tool and the Closed Loop Lithography (CLL) capability, new landscapes such as optical Fourier surfaces are made possible. Large area requirements for nanophotonic applications are now also possible with the Decapede module where ten t-SPL cantilevers operate in parallel for increased throughput with sub-30 nm resolution.(Courtesy of Yannik Glauser, ETH Zürich)
Manipulation of light often requires sub-wavelength patterning capabilities in all three dimensions. With the NanoFrazor tool and the Closed Loop Lithography (CLL) capability, new landscapes such as optical Fourier surfaces are made possible. Large area requirements for nanophotonic applications are now also possible with the Decapede module where ten t-SPL cantilevers operate in parallel for increased throughput with sub-30 nm resolution.
(Courtesy of Yannik Glauser, ETH Zürich)
FET device created on 2D material flake using grayscale patterning with the NanoFrazor.(Courtesy of Dr. Xia Liu and Berke Erbas, EPFL)
FET device created on 2D material flake using grayscale patterning with the NanoFrazor.
(Courtesy of Dr. Xia Liu and Berke Erbas, EPFL)
Through standard pattern transfer processes, impressive image reversal of nanoholes was achieved, resulting in arrays of Si nanopillars with diameters ranging from 30-200 nm. These sub-100 nm diameter pillars hold immense potential for flat optics and metasurfaces applications. The Thermal Scanning Probe Lithography technology behind the NanoFrazor enables simultaneous patterning and inspection of nanoscale structures, making nanopillar fabrication seamless and efficient.
Through standard pattern transfer processes, impressive image reversal of nanoholes was achieved, resulting in arrays of Si nanopillars with diameters ranging from 30-200 nm. These sub-100 nm diameter pillars hold immense potential for flat optics and metasurfaces applications. The Thermal Scanning Probe Lithography technology behind the NanoFrazor enables simultaneous patterning and inspection of nanoscale structures, making nanopillar fabrication seamless and efficient.
Nanowire-based quantum devices can be fabricated using the ultra-sharp tip (for the high-resolution electrodes) and laser hybrid lithography (for the contact pads) with the NanoFrazor. Here is an optical image of the devices after metal deposition and lift-off.
Nanowire-based quantum devices can be fabricated using the ultra-sharp tip (for the high-resolution electrodes) and laser hybrid lithography (for the contact pads) with the NanoFrazor. Here is an optical image of the devices after metal deposition and lift-off.
Inter-digitated electrode devices play a crucial role in microelectronics and sensing applications thanks to their unique design and functionality. These inter-digitated electrodes were patterned using a mix-and-match lithography process that combined t-SPL and direct laser writing of the NanoFrazor. Active stitching was used for the t-SPL writing of 180 nm wide inter-digitated electrodes, covering a horizontal area of 160 micrometers.
Inter-digitated electrode devices play a crucial role in microelectronics and sensing applications thanks to their unique design and functionality. These inter-digitated electrodes were patterned using a mix-and-match lithography process that combined t-SPL and direct laser writing of the NanoFrazor. Active stitching was used for the t-SPL writing of 180 nm wide inter-digitated electrodes, covering a horizontal area of 160 micrometers.
By using a thermal stimulus, Thermal Scanning Probe Lithography (t-SPL) allows for the manipulation of chemically sensitive surfaces with sub-30 nm resolution capabilities to unlock unique chemical gradients. In addition, biomimicry by grayscale patterning on polymers and other biocompatible materials opens the path to exciting bionanotechnology. (Image courtesy of Prof. Dr. Elisa Riedo, NYU)
By using a thermal stimulus, Thermal Scanning Probe Lithography (t-SPL) allows for the manipulation of chemically sensitive surfaces with sub-30 nm resolution capabilities to unlock unique chemical gradients. In addition, biomimicry by grayscale patterning on polymers and other biocompatible materials opens the path to exciting bionanotechnology.
(Image courtesy of Prof. Dr. Elisa Riedo, NYU)
Nanofluidic rocking ratchets fabricated with single-nanometer accuracy by NanoFrazor patterning. A nanofluidic device with precisely engineered 3D topography harnesses Brownian motion to separate particles with down to 1 nm size difference by guiding them in opposite directions. (Courtesy of IBM Research, Publications in Science and PRL 2018)
Nanofluidic rocking ratchets fabricated with single-nanometer accuracy by NanoFrazor patterning. A nanofluidic device with precisely engineered 3D topography harnesses Brownian motion to separate particles with down to 1 nm size difference by guiding them in opposite directions.
(Courtesy of IBM Research, Publications in Science and PRL 2018)
Gaussians with varying distance ∆x written in PPA and etched into SiO2, to be stacked in distributed Bragg reflector, forming a photonic molecule. Cross-sections show Gaussian profiles for different ∆x, which controls the coupling strength between the cavities. Precise Gaussian profile is patterned using the NanoFrazor and the closed-loop lithography approach. (Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018)
Gaussians with varying distance ∆x written in PPA and etched into SiO2, to be stacked in distributed Bragg reflector, forming a photonic molecule. Cross-sections show Gaussian profiles for different ∆x, which controls the coupling strength between the cavities. Precise Gaussian profile is patterned using the NanoFrazor and the closed-loop lithography approach.
(Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018)
Indium arsenide (InAs) nanowires are notoriously sensitive to trapped charges that deteriorate the device performance by shifting the switching voltage away from zero and are difficult to remove. Such trapped charges are typical for the fabrication with electron beam lithography. The InAs nanowire device fabricated by NanoFrazor lithography, however, switches off exactly at 0 V. (Courtesy of S. Karg & A. Knoll, IBM Research – Zurich)
Indium arsenide (InAs) nanowires are notoriously sensitive to trapped charges that deteriorate the device performance by shifting the switching voltage away from zero and are difficult to remove. Such trapped charges are typical for the fabrication with electron beam lithography. The InAs nanowire device fabricated by NanoFrazor lithography, however, switches off exactly at 0 V.
(Courtesy of S. Karg & A. Knoll, IBM Research – Zurich)
A Hall-bar device patterned into a single-layer MoS2 flake using the NanoFrazor. The electrical contacts written using the heated tip exhibit vanishingly small Schottky barriers due to no resist residues and no damage to the flake. As a result, the devices with contacts and top gates patterened with the NanoFrazor, show record-high on-off ratios. (Courtesy of Prof. Elisa Riedo, NYU)
A Hall-bar device patterned into a single-layer MoS2 flake using the NanoFrazor. The electrical contacts written using the heated tip exhibit vanishingly small Schottky barriers due to no resist residues and no damage to the flake. As a result, the devices with contacts and top gates patterened with the NanoFrazor, show record-high on-off ratios.
(Courtesy of Prof. Elisa Riedo, NYU)
3D computer-generated 8-level hologram patterned in PPA and etched into Si (inset). Reactive ion etching enabled depth amplification from 70 nm to 700 nm.
3D computer-generated 8-level hologram patterned in PPA and etched into Si (inset). Reactive ion etching enabled depth amplification from 70 nm to 700 nm.

Why customers choose our systems

"저차원 재료 응용 분야의 다양한 응용 분야를 위한 고정밀 리소그래피, 오버레이 및 스티칭에 매우 유용한 NanoFrazor의 폐쇄 루프 리소그래피 기능이 마음에 듭니다. 또한 시스템 사용 시 필요한 모든 측면에 대해 24시간 이내에 신속하고 전문적으로 대응해 준 NanoFrazor 지원팀에 감사드립니다."

샤오루이 정, 조교수, 수석 연구자
웨스트 레이크 대학교
항저우, 중국

"나노리소그래피를 위한 하나의 소형 장비에 다양한 기능이 결합된 나노프레이저는 독특한 기능을 제공합니다. 특히 2D 소재에 손상이 적은 마커리스 오버레이 및 스티칭, 3D 그레이스케일 나노리소그래피, 소재의 직접 열 변환 및 수정이 가능한 점이 돋보입니다."

프란체스코 부아티에 드 몽고, 실험 응집 물질 물리학 교수
제노바 대학교 피시카 디 파르티멘토
제노바, 이탈리아

Technical Data

열 프로브 쓰기직접 레이저 승화
단일 팁Decapede
패터닝 성능
최소 구조 크기 [nm]1515600
최소 선 및 간격 [하프 피치, nm]25251000
그레이스케일/3차원 해상도(PPA 단위의 단계 크기) [nm]22-
최대 쓰기 필드 크기 [X μm x Y μm]60 x 6060 x 6060 x 60
현장 스티칭 정확도(마커리스, 현장 이미징 사용) [nm] [nm]2525600
오버레이 정확도(마커 없음, 현장 이미징 사용) [nm] [nm]2525600
쓰기 속도(일반 스캔 속도) [mm/s]115
쓰기 속도(50nm 픽셀) [μm²/분] 100010 000100 000
지형 이미징 성능
측면 이미징 해상도(피처 크기) [nm]10
수직 해상도(지형 감도) [nm]<0.5
이미징 속도(@ 50nm 해상도) [μm²/min]100010 000-
기본 시스템 기능
인쇄물 크기1 x 1mm² ~ 100 x 100mm²(제한적으로 150 x 150mm² 가능)
두께: 최대 10mm
광학 현미경0.6μm 디지털 해상도, 2μm 회절 한계, 1.0mm x 1.0mm 시야각, 자동 초점
자석 캔틸레버 홀더빠르고(<1분) 정확한 팁 교환
진동 차단능동형 진동 차단 단계
선택적 시스템 기능 / 모듈성
직접 레이저 승화레이저 소스 및 광학 장치: 405nm 파장 CW 파이버 레이저, 300mW, 최소 초점 크기 1.2μm 레이저 자동 초점: 나노프레이저 캔틸레버의 거리 센서 사용
Decapede10가지 팁으로 병렬 쓰기
독립형 하우징3중 방음, 뛰어난 진동 차단(> 98% @ 10Hz) | PC 제어 온도 및 습도 모니터링, 가스 흐름 조절 | (크기 185cm x 78cm x 128cm / 무게 650kg)
글로브박스 전체 통합제어된 환경에서 나노리소그래피를 위한 글로브박스에 통합 가능
나노프레이저 캔틸레버 기능(싱글 팁 및 디카페드 모두)
통합 구성 요소팁 히터, 지형 센서, 정전기 작동
팁 지오메트리<반경 10nm, 길이 750nm의 원추형 팁
팁 히터 온도 범위25°C - 1100°C (<1K 설정값 분해능)
기본 시스템 치수 및 설치 요구 사항
높이 × 너비 × 깊이탁상용 유닛: 44㎝ x 40㎝ x 45㎝
컨트롤러: 84㎝ x 60㎝ x 56㎝
무게탁상용 장치: 50kg
컨트롤러: 80kg
전원 입력110 또는 220V AC, 10A 1개
소프트웨어 기능
GDS 및 비트맵 가져오기, 256 그레이 스케일 레벨, 오버레이를 위한 지형 이미지 분석 및 그리기, 팁과 레이저 쓰기 간의 믹스 앤 매치, 완전 자동화된 보정 루틴, Python 스크립팅

참고
사양은 개별 공정 조건에 따라 다르며 장비 구성에 따라 달라질 수 있습니다. 쓰기 속도는 픽셀 크기와 쓰기 모드에 따라 다릅니다. 디자인 및 사양은 사전 고지 없이 변경될 수 있습니다.

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