마이크로 및 나노 제작용 리소그래피 기술
하이델베르그 인스트루먼츠는 마이크로 제작 및 나노 제작을 위한 첨단 리소그래피 기술을 개발하여 마이크로 스케일부터 나노 스케일까지 정밀한 패턴을 구현할 수 있습니다. 당사의 포트폴리오는 유연한 직접 작성 패터닝을 위한 무마스크 레이저 리소그래피와 초고해상도 나노리소그래피를 위한 열 스캐닝 프로브 리소그래피(t-SPL)를 결합합니다.
무마스크 레이저 리소그래피는 포토마스크 없이도 빠른 프로토타이핑, 정확한 패턴 배치 및 그레이스케일 리소그래피를 가능하게 합니다. 이 기술은 복잡한 2D 및 2.5D 마이크로 구조, 마이크로 광학, MEMS 및 첨단 연구 장치 제작에 이상적입니다.
이 접근 방식을 보완하는 NanoFrazor 플랫폼은 열 스캐닝 프로브 리소그래피(t-SPL)를 기반으로 하며, 10나노미터 이하의 정밀도로 비침습적 나노 패터닝을 가능하게 합니다. 동일한 장비에서 직접 작성 나노리소그래피와 인시투 검사 및 계측을 결합합니다.
이 기술들을 함께 사용하면 고해상도 마이크로 및 나노 구조의 제작이 가능하며, 복잡한 지형, 높은 종횡비 구조, 소형 또는 비정형 기판 위 구조를 포함합니다. 이를 통해 포토닉스, 마이크로 광학, 나노기술 및 첨단 소재 연구에서 혁신을 구현할 수 있습니다.
