높은 보안 인쇄

보안성이 높은 인쇄 및 장식 효과를 위한 홀로그램 이미지

마스크리스 리소그래피는 다양한 분야에서 특히 보안성이 높은 인쇄, 브랜드 보호 및 장식 효과를 위한 홀로그램 이미지를 생성하는 데 있어 엄청난 잠재력을 지닌 혁신적인 기술입니다.

보안성이 높은 인쇄 영역에서 마스크리스 리소그래피를 사용하면 복제나 위조가 어려운 복잡한 홀로그램 패턴을 놀라운 정밀도로 제작할 수 있습니다. 마이크론 이하 및 나노 수준의 디테일을 생성할 수 있는 Heidelberg Instruments 기술을 사용하면 여권, 지폐, 신분증과 같은 문서에 동적 홀로그램, 마이크로 텍스트, 부조 효과, 숨겨진 요소와 같은 복잡한 디자인을 통합할 수 있습니다. 이러한 홀로그램 이미지는 추가적인 보호 계층을 제공하여 위조범이 민감한 문서를 복제하거나 위조하는 것을 훨씬 더 어렵게 만듭니다.

이러한 기술을 활용하여 기업은 로고, 상표 또는 기타 브랜드 요소를 통합한 맞춤형 홀로그램 이미지를 만들 수 있습니다. 이러한 홀로그램은 제품 포장이나 홍보 자료의 시각적 매력을 향상시킬 뿐만 아니라 위조 방지 수단으로도 사용할 수 있습니다.
생생한 색상, 유동적인 애니메이션, 입체적인 환영이 있는 장식용 홀로그램 이미지는 제품 포장부터 명품에 이르기까지 다양한 소비재에 우아함, 정교함, 특별함을 더합니다.
디자이너는 마스크리스 리소그래피를 통해 창의력을 발휘하여 매혹적인 홀로그램 비주얼에 생명을 불어넣고 보안성이 높은 문서의 무단 생산을 방지하며 브랜드 무결성을 보호하고 제품의 전반적인 미적 매력을 향상시킬 수 있습니다.

고해상도 패터닝 기능

2.5D 구조

데이터 보호

고도의 보안이 요구되는 산업을 위한 고유성

다양한 홀로그램 효과의 조합

초고해상도

최대 20nm(나노프레이저)

높은 처리량에서 고해상도

300nm(DWL66⁺) 및 500nm(DWL 2000 GS/DWL 4000 GS)

그레이 스케일 리소그래피

서브 마이크론 규모(DWL)와 나노 규모(나노프레이저)에서 복잡한 2.5 토포그래피가 가능합니다.

사내 데이터 흐름

디자인에서 생산에 이르는 전체 프로세스에서 데이터가 사내에 유지됩니다.

다양한 조합

고해상도 바이너리 및 2.5 구조를 하나의 도구 내에서 결합하여 하나의 구조 영역에 여러 효과를 만들 수 있습니다.

자유로운 디자인

고유성을 강화하기 위해

어플리케이션 이미지

Heidelberg Instruments DWL 66⁺로 제작된 Albert Einstein 홀로그램, 고보안 인쇄에 사용 가능 — 아인슈타인 홀로그램: 다양한 피치 및 각도의 이진 격자로 만든 밝은 효과. 이미지: microqubic AG

Heidelberg Instruments DWL 66⁺로 제작된 Ganesh 홀로그램, 고보안 인쇄용 — 깊이 착시를 주기 위해 구조화된 리소스트가 덮인 4″ 유리 기판. 2.5D 구조는 몇 µm 깊이지만 육안상 mm 두께로 보임

DWL 66⁺의 WM 1을 사용하여 생성된 컴퓨터 생성 홀로그램 구조. 선 및 간격 320‑440 nm 하프피치, 이 빠른 쓰기 모드의 600 nm 해상도 한계 이하

고보안 인쇄용 구조색을 만들기 위해 Heidelberg Instruments DWL 66⁺로 제작된 고밀도 500 nm 홀 — 구조색 생성을 위해 사용된 고밀도 500 nm 홀 (VPG⁺)

다양한 피치의 이진 격자(DWL 66⁺ WM 1)로 제작된 구조색 보정 패턴

Heidelberg Instruments DWL 66⁺로 제작된 레리프 효과 체스말, 고보안 인쇄에 사용 가능한 구조 — 깊이 착시를 주기 위해 구조화된 리소스트가 덮인 4″ 유리 기판. 2.5D 구조는 몇 µm 깊이지만 육안상 mm 두께로 보임

Heidelberg Instruments DWL 66⁺로 제작된 Heidelberg Instruments 회사 로고 홀로그램, 고보안 인쇄에 사용 가능한 구조 — 다양한 피치 및 측면 각도를 가진 격자로 구성된 홀로그램. 특정 시각·조명 각도에서 단일 이미지가 보이며, 시료 또는 조명 이동으로 애니메이션 효과를 연출할 수 있습니다. 이미지: microqubic AG

Heidelberg Instruments DWL 66⁺로 제작된 컴퓨터 생성 홀로그램 표면, 고보안 인쇄 가능 구조 — NanoFrazor로 제작된 컴퓨터 생성 홀로그램 표면

Heidelberg Instruments DWL 66⁺로 제작된 도마뱀 홀로그램, 고보안 인쇄에 사용 가능 — 구조색 및 서브마이크론 구조로 제작된 다채롭고 밝은 이미지. 이미지: microqubic AG

NanoFrazor로 제작된 2D 홀로그램, 고보안 인쇄에 사용 가능 — NanoFrazor로 제작된 2D 홀로그램

Heidelberg Instruments NanoFrazor로 제작된 8단계 홀로그래픽 표면, 고보안 인쇄에 사용 가능합니다 — NanoFrazor로 패턴 생성 후 실리콘에 700 nm 깊이로 식각된 8단계 홀로그래픽 표면

Heidelberg Instruments NanoFrazor로 제작된 16단계 3D 홀로그램, 고보안 인쇄에 사용 가능 — NanoFrazor로 패턴 생성된 16단계 3D 홀로그램(DOE)

Heidelberg Instruments DWL 66⁺로 제작된 벌새 홀로그램, 고보안 인쇄에 사용 가능한 구조 — 구조색(DWL 66⁺)으로 제작된 다채로운 배경의 벌새 홀로그램

적합한 시스템

DWL 66⁺

직접 쓰기 레이저 리소그래피 시스템

다양한 해상도와 다양한 옵션을 갖춘 연구 및 시제품제작을 위한 가장 다재다능한 시스템입니다.

DWL 2000 GS / DWL 4000 GS

직접 쓰기 레이저 리소그래피 시스템

시중에서 가장 진보된 산업용 그레이스케일 리소그래피 툴입니다.

NanoFrazor

열 스캐닝 프로브 리소그래피 시스템

다용도 및 모듈식 도구 결합 열 스캐닝 프로브 리소그래피, Direct 레이저 승화 및 고급 자동화 를 위한 절단최첨단 R&D.