애플리케이션 이미지 공모전 2022/2023

수상자 여러분 축하합니다!

당사의 2022/2023 이미지 공모전 결과를 발표하게 되어 매우 기쁩니다. 본 공모전은 첨단 연구에서 당사 장비의 성능을 보여주었습니다.

본 공모전은 전 세계에서 다양한 제출물을 유치하였으며, 나노기술, 생물의학 공학, 양자 디바이스, 플렉서블 전자, 포토닉스 등 다양한 분야에서 이루어지고 있는 뛰어난 혁신과 발전을 강조하였습니다. 본 공모전은 최첨단 연구의 정신과 당사 기술의 잠재력을 진정으로 보여주었습니다.

2022년 9월 1일부터 2023년 2월 28일까지 Heidelberg Instruments 제품의 모든 사용자는 “첨단 마이크로 및 나노제조 응용 이미지 공모전”에 참여하도록 초대되었습니다. 본 공모전은 전 세계 커뮤니티가 Heidelberg Instruments의 커뮤니케이션 채널을 통해 자신의 작업을 소개하고 총 10,000유로의 상금을 받을 수 있는 기회를 제공합니다. 각 상금은 기부 형식으로 지급됩니다.

  • 1개에서 5개의 이미지 및/또는 짧은 영상(<3분)을 업로드하여 하나의 혁신적인 응용을 설명해야 하며, 이하에서는 이를 “이미지”라고 합니다.
  • 제출된 이미지는 Heidelberg Instruments 장비의 사용을 보여주어야 합니다 (현재 또는 과거 시스템: VPG, DWL, MLA, pPG, uMLA, NanoFrazor 및 MPO 100 포함).
  • 이미지는 제3자의 저작권을 침해하지 않아야 합니다.
  • 이미지는 카메라 또는 현미경 등 어떤 장비로도 제작될 수 있습니다.
  • 이미지는 설명 목적일 경우 약간의 편집이 허용됩니다 (예: 스케일 바 또는 요소 명칭).
  • Heidelberg Instruments는 이미지를 온라인 또는 인쇄물로 사용할 수 있는 전면적인 권리를 가집니다. 해당 이미지는 제출자가 선택한 출처(저자 이름 및/또는 기관)와 함께 표시됩니다.
  • 수상자는 Heidelberg Instruments가 지정한 위원회에 의해 선정됩니다.
  • 서로 다른 응용에 대한 복수 제출이 허용되며, 각각 별도로 제출해야 합니다.
  • 이미지의 설명적 품질 (이미지는 응용을 이해하는 데 도움을 주어야 함)
  • 이미지의 미적 요소 및 품질 (정확성, 선명도 및 해상도)
  • 응용 및 관련 이미지에 대한 명확하고 간결한 설명
  • 응용의 창의성과 혁신성
  • 에너지 절감 또는 친환경적 장점도 고려됩니다

1등상 / 5,000 €

SU-8 몰드를 이용하여 제작된 합성 생물학용 마이크로유체 장치

본 공모전 1등은 다음에게 수여되었습니다:

Kei Ikemori and Prof. Yuichi Wakamoto
Graduate School of Arts and Sciences, The University of Tokyo, Japan

사용 시스템:
Heidelberg Instruments µMLA Maskless Aligner

설명:
합성 유전자 회로와 형광 단백질을 가진 박테리아를 다세포 생물의 줄기세포를 모사하는 마이크로챔버에서 배양하였습니다.
마이크로챔버는 pMLA로 제작된 SU-8 몰드를 사용하여 PDMS 상에 형성되었습니다.
이 프로젝트에서는 정사각형 마이크로챔버 내부에 Heidelberg Instruments 로고를 제작하고, 그 안에서 E. coli 세포를 배양하였습니다.
단백질의 형광은 협력적으로 전파되어 로고를 감싸는 빛의 파동을 형성하였습니다.
이와 같은 유전자 발현 동역학의 인공적 구현은 다세포 생물의 발달 패턴을 이해하는 데 중요합니다.

심사위원 코멘트:
당사 로고의 사용도 인상적이었지만, 이 응용을 1등으로 선정한 주된 이유는 당사 시스템이 생물학 및 의학 연구의 발전에 기여하고 있다는 점입니다. 이는 인간의 건강뿐만 아니라 자연 환경의 이해와 보존에도 기여합니다.

합성생물학용 마이크로플루이딕 장치 SU-8 몰드, µMLA

2등상 / 3,000 €

원자 칩에서 광학 격자를 이용한 통합 양자 실험실 구현

Sascha de Wall
Institute of Micro Production Technology, University of Hannover, Germany

사용 시스템:
Heidelberg Instruments DWL 66+ Laser Lithography System

설명:
보스-아인슈타인 응축(BEC)은 20년 이상 연구되어 왔으며, 현재는 관성 센서 및 중력계에 활용되고 있습니다.
원자 칩 기술은 BEC 장비의 크기를 줄여 상용화 가능성을 높였습니다.
나노구조 광학 반사 격자를 통합하여 격자 자기광학 트랩을 형성함으로써 원자 냉각에 필요한 레이저 수를 줄였습니다.
최적 성능을 위해 격자는 시스템에 직접 통합되어야 합니다.
DWL 66+를 사용하여 포토레지스트를 패터닝하였고, 이온빔 식각을 통해 실리콘 기판으로 전사하였습니다.
원하는 광학 반사 특성을 위해 PVD 방식으로 알루미늄을 증착하였습니다.

심사위원 코멘트:
양자 연구는 빠르게 발전하는 분야이며, 당사 시스템이 그 일부라는 점을 자랑스럽게 생각합니다.

원자 칩의 광격자

3등상 / 2,000 €

반도체용 MoS2 나노 회로 제작

Dr. Giorgio Zambito
Department of Physics, University of Genoa, Italy

사용 시스템:
Heidelberg Instruments NanoFrazor Scholar

설명:
DIFILab 로고 모양의 MoS2 나노 회로 주사전자현미경 이미지. 이 MoS2 구조는 NanoFrazor Scholar를 사용하여 제작되었습니다. (삽입 이미지: 전도성 원자력 현미경(CAFM)을 통해 획득한 MoS2 나노핑거의 전류 및 지형도. MoS2 나노핑거와 전기 접점의 고해상도 영역은 NanoFrazor를 사용하여 제작되었습니다.)

국부 전도도 맵은 2D 전이금속 칼코겐화물(TMD) 나노회로가 나노스케일에서 정밀하게 정의된 2D 반도체 상호연결 구조로서의 잠재력을 보여줍니다.

심사위원 코멘트:
2D 소재는 다양한 응용 가능성을 가진 매우 유망한 소재이며, 당사 시스템이 이 연구에 적합하다는 점을 자랑스럽게 생각합니다.

반도체 MoS₂ 나노회로 NanoFrazor

이 이미지의 한 버전은 연구 논문에 사용되었습니다. “Deterministic Thermal Sculpting of Large-Scale 2D Semiconductor Nanocircuits”, published in Advanced Materials Interfaces, Volume 10, Issue 5.

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