ラスタースキャンとベクトル露光モジュールを備えた、設定可能でコンパクトな卓上型マスクレスアライナー
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商品説明
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µMLA は、世界で最も販売実績の高い卓上型マスクレスソリューションである堅牢な µPG プラットフォームをベースに開発された、最先端の卓上型マスクレス露光装置です。研究開発(R&D)や迅速なプロトタイピング向けのエントリーレベル装置として最適であり、マイクロ流体工学(例:細胞選別デバイス、ラボオンチップ)、小規模なマスク描画、マイクロオプティクスおよびマイクロレンズアレイ、センサー製造、MEMS、さらに二次元材料やファンアウト電極のパターニングなど、多様な用途において高精度な微細構造形成を可能にします。
多彩な露出モードと設定
µMLA 、2つの異なる露出モードによって柔軟性を提供する:
- ラスタースキャンモード(標準):構造物のサイズやパターン密度に関係なく、一貫した書き込み時間を維持し、優れた画質で高速露光を保証します。
- ベクトルスキャンモード(オプション):導波管のような構造物に理想的で、速度と精度の両方を提供します。
3つの光学コンフィギュレーションにより、解像度とスループットのバランスをカスタマイズでき、特定のアプリケーションに最適化するための簡単な切り替えが可能。その他の機能
- 描画モード:ナノワイヤーや2D材料の既存のパターンや電気接点をリアルタイムでその場で調整できます。
- グレースケール・モード:複雑なマイクロオプティクス用の2.5D構造化をサポート。
標準的な作業台に収まるコンパクトなデザインのµMLA は、多用途で高品質なリソグラフィー・アプリケーションのための包括的な機能一式を提供する。
µMLA の詳細と、研究開発のニーズにどのように役立つかについては、当社までお問い合わせください。 CADから露光まで、数週間ではなく数分で実現。
µMLA は、世界で最も販売実績の高い卓上型マスクレスソリューションである堅牢な µPG プラットフォームをベースに開発された、最先端の卓上型マスクレス露光装置です。研究開発(R&D)や迅速なプロトタイピング向けのエントリーレベル装置として最適であり、マイクロ流体工学(例:細胞選別デバイス、ラボオンチップ)、小規模なマスク描画、マイクロオプティクスおよびマイクロレンズアレイ、センサー製造、MEMS、さらに二次元材料やファンアウト電極のパターニングなど、多様な用途において高精度な微細構造形成を可能にします。
多彩な露出モードと設定
µMLA 、2つの異なる露出モードによって柔軟性を提供する:
- ラスタースキャンモード(標準):構造物のサイズやパターン密度に関係なく、一貫した書き込み時間を維持し、優れた画質で高速露光を保証します。
- ベクトルスキャンモード(オプション):導波管のような構造物に理想的で、速度と精度の両方を提供します。
3つの光学コンフィギュレーションにより、解像度とスループットのバランスをカスタマイズでき、特定のアプリケーションに最適化するための簡単な切り替えが可能。その他の機能
- 描画モード:ナノワイヤーや2D材料の既存のパターンや電気接点をリアルタイムでその場で調整できます。
- グレースケール・モード:複雑なマイクロオプティクス用の2.5D構造化をサポート。
標準的な作業台に収まるコンパクトなデザインのµMLA は、多用途で高品質なリソグラフィー・アプリケーションのための包括的な機能一式を提供する。
µMLA の詳細と、研究開発のニーズにどのように役立つかについては、当社までお問い合わせください。 CADから露光まで、数週間ではなく数分で実現。
> 210 台の導入実績
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製品ハイライト
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直描リソグラフィー
マスクに関連するコスト、労力、セキュリティリスクがない露出の質
エッジラフネス ラスターモード 100 nm、ベクトルモード 30 nm、CD均一性 200 nm露光速度
4インチウエハ90分グレースケール・リソグラフィ
最大256階調のグレースケール露光機能は、標準構成の一部です。小さなフットプリント
640 mm x 840 mm x 530 mm / 25″ x 33″ x 21″ – 最小の卓上マスクレスリソグラフィ装置フレキシブルな構成
露光波長の選択、ラスターおよびベクタースキャンモジュールの選択フレキシブルな使用
ソフトウェアにより、解像度とスループット速度を簡単に切り替え可能ユーザー・フレンドリー
直感的なソフトウェアとツール操作、小さなサンプルの取り扱いが容易プラグアンドプレイ・セットアップ
プラグアンドプレイによるシンプルなインストールにより、導入時間を短縮し、コストを削減 -
利用可能なモジュール
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ラスタースキャン露光モード
優れた画質と忠実性で高速。書き込み時間は構造サイズやパターン密度に依存しない。365 nmまたは390 nmのLED光源ベクトルスキャン露光モード
曲線で構成される連続構造のパターニング – 滑らかな輪郭が必要な場合。405 nmおよび/または375 nmのレーザー光源3つの光学セットアップ
最小分解能0.6µm、1µm、3µm、各モード内で分解能可変オプションの概要カメラ
基板上のアライメントマークやその他の特徴の迅速かつ容易な位置決めグローブボックスの統合
制御された窒素環境下での高感度材料のパターニング用グローブボックスドロー・モード
リアルタイムの顕微鏡画像の上にBMPファイルをインポートして重ね合わせる – バーチャルマスクアライナーのように。光学オートフォーカス
小さなサンプル(10mm未満)の完璧な露光露出エリア
100 x 100mm2から 150 x 150mm2にアップグレード可能露光、波長、光源の選択
ラスタースキャンモード:365nmまたは390nmのLED光源。ベクトルスキャンモード:レーザー光源 405 nm または 375 nm
µMLA は、世界で最も販売実績の高い卓上型マスクレスソリューションである堅牢な µPG プラットフォームをベースに開発された、最先端の卓上型マスクレス露光装置です。研究開発(R&D)や迅速なプロトタイピング向けのエントリーレベル装置として最適であり、マイクロ流体工学(例:細胞選別デバイス、ラボオンチップ)、小規模なマスク描画、マイクロオプティクスおよびマイクロレンズアレイ、センサー製造、MEMS、さらに二次元材料やファンアウト電極のパターニングなど、多様な用途において高精度な微細構造形成を可能にします。
多彩な露出モードと設定
µMLA 、2つの異なる露出モードによって柔軟性を提供する:
- ラスタースキャンモード(標準):構造物のサイズやパターン密度に関係なく、一貫した書き込み時間を維持し、優れた画質で高速露光を保証します。
- ベクトルスキャンモード(オプション):導波管のような構造物に理想的で、速度と精度の両方を提供します。
3つの光学コンフィギュレーションにより、解像度とスループットのバランスをカスタマイズでき、特定のアプリケーションに最適化するための簡単な切り替えが可能。その他の機能
- 描画モード:ナノワイヤーや2D材料の既存のパターンや電気接点をリアルタイムでその場で調整できます。
- グレースケール・モード:複雑なマイクロオプティクス用の2.5D構造化をサポート。
標準的な作業台に収まるコンパクトなデザインのµMLA は、多用途で高品質なリソグラフィー・アプリケーションのための包括的な機能一式を提供する。
µMLA の詳細と、研究開発のニーズにどのように役立つかについては、当社までお問い合わせください。 CADから露光まで、数週間ではなく数分で実現。
µMLA は、世界で最も販売実績の高い卓上型マスクレスソリューションである堅牢な µPG プラットフォームをベースに開発された、最先端の卓上型マスクレス露光装置です。研究開発(R&D)や迅速なプロトタイピング向けのエントリーレベル装置として最適であり、マイクロ流体工学(例:細胞選別デバイス、ラボオンチップ)、小規模なマスク描画、マイクロオプティクスおよびマイクロレンズアレイ、センサー製造、MEMS、さらに二次元材料やファンアウト電極のパターニングなど、多様な用途において高精度な微細構造形成を可能にします。
多彩な露出モードと設定
µMLA 、2つの異なる露出モードによって柔軟性を提供する:
- ラスタースキャンモード(標準):構造物のサイズやパターン密度に関係なく、一貫した書き込み時間を維持し、優れた画質で高速露光を保証します。
- ベクトルスキャンモード(オプション):導波管のような構造物に理想的で、速度と精度の両方を提供します。
3つの光学コンフィギュレーションにより、解像度とスループットのバランスをカスタマイズでき、特定のアプリケーションに最適化するための簡単な切り替えが可能。その他の機能
- 描画モード:ナノワイヤーや2D材料の既存のパターンや電気接点をリアルタイムでその場で調整できます。
- グレースケール・モード:複雑なマイクロオプティクス用の2.5D構造化をサポート。
標準的な作業台に収まるコンパクトなデザインのµMLA は、多用途で高品質なリソグラフィー・アプリケーションのための包括的な機能一式を提供する。
µMLA の詳細と、研究開発のニーズにどのように役立つかについては、当社までお問い合わせください。 CADから露光まで、数週間ではなく数分で実現。
> 210 台の導入実績
直描リソグラフィー
露出の質
露光速度
グレースケール・リソグラフィ
小さなフットプリント
フレキシブルな構成
フレキシブルな使用
ユーザー・フレンドリー
プラグアンドプレイ・セットアップ
ラスタースキャン露光モード
ベクトルスキャン露光モード
3つの光学セットアップ
オプションの概要カメラ
グローブボックスの統合
ドロー・モード
光学オートフォーカス
露出エリア
露光、波長、光源の選択
お客様のアプリケーション










お客様が当社のシステムを選ぶ理由
ハイデルベルグ・インストルメンツのマスクレスシステムは、グローブボックス内に設置され、当社のクリーンルームにおける中心的な装置として活用されています。その性能は私たちの期待を上回り、製造プロセスにおいて重要な役割を果たしてきました。また、性能向上や問題解決に関するサポートも非常に優れています。
Dr. Kenneth Stephen Burch、教授
ボストン・カレッジ
米国、ボストン
ハイデルベルグ・インストルメンツのµMLAは、マイクロメートルスケールのパターンを迅速かつ高精度に形成できます。そのDMD技術は、描画品質と再アライメントの両面で高い精度を実現するだけでなく、従来技術と比べて大幅な高速化も実現しています。光学式フォーカス機能は、小型サンプルにとって決定的な利点です。また、非常にシンプルで直感的なソフトウェアインターフェースは、装置のユーザーやトレーナーからも高く評価されており、新規ユーザーでも回路のプロトタイピングにおける重要な工程を1時間以内に自力で操作できるようになります。
Sébastien Delprat、博士、研究エンジニア
CEAサクレー
フランス、ジフ=シュル=イヴェット
デンマーク工科大学の一部門であるDTU Nanolabでは、現在、ハイデルベルグ・インストルメンツ製のマスクレスアライナーを複数台導入しています。これらの装置は、研究を中心とする当施設の運用に最適であると同時に、多くの産業顧客にも幅広く活用できるツールを提供しています。マスクレスアライナーの導入後に確認された顕著な変化の一つは、マスクアライナー用に新規発注するマスクの数が大幅に減少したことです。発注数は、1日あたり約1枚から1か月あたり約1枚にまで減少しました。総合的に、スタッフ側とユーザー側の双方から、当施設のマスクレスアライナーに非常に満足しています。
Jens H. Hemmingsen、プロセススペシャリスト
DTU Nanolab
デンマーク、リンビー
技術データ
| 書き込みモード I | ライト・モードII | 書き込みモードIII | |
|---|---|---|---|
| 書き込み性能(ラスタースキャン露光モジュール) | |||
| 最小構造サイズ [μm] | 0.6 | 1 | 3 |
| 最小ラインとスペース [μm] | 0.8 | 1.5 | 3 |
| アドレス・グリッド [nm] | 20 | 50 | 100 |
| CD均一性[3σ、nm] | 200 | 300 | 400 |
| 5 x 5 mm²以上の2層目のアライメント [nm] | 500 | 500 | 1000 |
| 50×50mm²以上の2層目のアライメント [nm] | 1000 | 1000 | 2000 |
| 書き込み速度 | 390 nm LED / 365 nm LED付き | 390 nm LED / 365 nm LED付き | 390nmのLEDを使用 |
| 書き込み速度 | 10 mm²/min at 0.6 µm | 40 mm²/min at 1 µm | 100 mm²/min at 3 µm |
| ラスター・スキャン露光モジュール用可変解像度" による、異なる最小構造サイズでのオプションの書き込み速度 | 18 mm²/min at 1 µm | 60 mm²/min at 2 µm | 160 mm²/min at 4 µm |
| 25 mm²/min at 2 µm | 90 mm²/min at 4 µm | 240 mm²/min at 6 µm | |
| 書き込み性能(ベクトルモード露光モジュール) | |||
| 最小フィーチャーサイズ[µm] | 0.6 | 1 | 3 |
| アドレス・グリッド [nm] | 20 | 20 | 20 |
| 5 x 5 mm²以上の2層目のアライメント [nm] | 500 | 500 | 1000 |
| 50×50mm²以上の2層目のアライメント [nm] | 1000 | 1000 | 2000 |
| ベクトルモードでの最大リニア書き込み速度 | 200 mm/s | 200 mm/s | 200 mm/s |
| ベクトルモードで使用可能なスポットサイズ[µm] | 0.6 / 1 / 2 / 5 / 10 | 1 / 2 / 5 / 10 / 25 | 3 / 5 / 10 / 25 /50 |
| システム仕様 | |||
| 最大基板サイズ | 6″ x 6″ | ||
| 最小基板サイズ | 5 x 5mm2 | ||
| 基板の厚さ | 0.1~12 mm | ||
| 最大書き込み領域 | 150 x 150mm2 |
| ラスタースキャン露光モジュール | ベクトル露光モジュール | |
|---|---|---|
| 光源 | LED; 390 nm または 365 nm | レーザー;405 nmおよび/または375 nm |
| システム寸法(リソグラフィユニット) | ||
| µMLA | 幅×奥行き | 身長×体重 |
| メインシステムハウジング | 640mm(25インチ)×840mm(33インチ) | 530mm(21インチ)×130kg(285ポンド) |
| 設置条件 | ||
| 電気 | 230 VAC / 6A または 110 VAC / 12A (±5%、50/60 Hz) | |
| 圧縮空気 | 6~10バール | |
| クリーンルーム | ISO 6推奨 | |
| 温度安定性 | ±1 °C | |
| * システムにインストールできる書き込みモードは1つだけです。 |
ご注意
仕様は個々のプロセス条件に依存し、装置構成によって異なる場合があります。描画速度はピクセルサイズおよび描画モードによって異なります。製品の設計および仕様は、予告なく変更される場合があります。
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